JPH03173452A - 面板の欠陥検査装置 - Google Patents
面板の欠陥検査装置Info
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- JPH03173452A JPH03173452A JP31234789A JP31234789A JPH03173452A JP H03173452 A JPH03173452 A JP H03173452A JP 31234789 A JP31234789 A JP 31234789A JP 31234789 A JP31234789 A JP 31234789A JP H03173452 A JPH03173452 A JP H03173452A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
この発明は、面板の欠陥を検査する光学系に関し、詳し
くは表面が鏡面をなすウェハ面板に存在する、比較的面
積が大きく深さが浅い皿吠のピット欠陥を対象とするも
のである。
くは表面が鏡面をなすウェハ面板に存在する、比較的面
積が大きく深さが浅い皿吠のピット欠陥を対象とするも
のである。
［従来の技術］
半導体ＩＣの素材のシリコンウェハ面板には種々の欠陥
があり、これらはＩＣの品質を劣化するので、面板検査
装置により検査されている。
があり、これらはＩＣの品質を劣化するので、面板検査
装置により検査されている。
第２図（ａ）は光学式によるウェハ面板検査装置の光学
系の基本構成を示すもので、投光部２のレーザ光ａＸ
２ ａよりのレーザが投光レンズ２ｂにより集束されて
被検査の面板１にスポットを形成する。図示しない駆動
機構により回転方式またはＸＹ走査方式によりスポット
が面板の全面を走査する。走査中、表面に欠陥が存在す
るときはこれによりレーザが散乱し、この散乱光を受光
部３の集光レンズ３ａにより集光して受光器３ｂの受光
信号により欠陥が検出される。ここで、上記のように欠
陥には種々のものがあり、その代表的なものは第２図（
ｂ）の（イ）に示すような、付着した異物または素材自
身の突起などの凸部と、（ロ）に示す切り傷のような幅
または面積の微小な四部がある。
系の基本構成を示すもので、投光部２のレーザ光ａＸ
２ ａよりのレーザが投光レンズ２ｂにより集束されて
被検査の面板１にスポットを形成する。図示しない駆動
機構により回転方式またはＸＹ走査方式によりスポット
が面板の全面を走査する。走査中、表面に欠陥が存在す
るときはこれによりレーザが散乱し、この散乱光を受光
部３の集光レンズ３ａにより集光して受光器３ｂの受光
信号により欠陥が検出される。ここで、上記のように欠
陥には種々のものがあり、その代表的なものは第２図（
ｂ）の（イ）に示すような、付着した異物または素材自
身の突起などの凸部と、（ロ）に示す切り傷のような幅
または面積の微小な四部がある。
これらは、断面上の曲線の変化が急角度であるのでレー
ザの散乱光が比較的に強くて検出が可能である。
ザの散乱光が比較的に強くて検出が可能である。
［解決しようとする課題］
以−Ｌに対して、第２図（ｂ）の（ハ）に示す比較的に
面積が大きく深さが浅い皿状のピット欠陥とよばれる凹
部は、角度の変化が緩やかであるために散乱光が弱いか
または正反射光が反射されて」；記の光学系の集光レン
ズに十分捕捉されず検出が困難である。これに対する検
出方法が必要とされ、先行技術としてこの発明の出願人
により、「昭和６Ｉ年１２Ｊ］８日、第Ｇ＋−２９２２
２７号、面板欠陥検出光学装置」が特許出願されている
。
面積が大きく深さが浅い皿状のピット欠陥とよばれる凹
部は、角度の変化が緩やかであるために散乱光が弱いか
または正反射光が反射されて」；記の光学系の集光レン
ズに十分捕捉されず検出が困難である。これに対する検
出方法が必要とされ、先行技術としてこの発明の出願人
により、「昭和６Ｉ年１２Ｊ］８日、第Ｇ＋−２９２２
２７号、面板欠陥検出光学装置」が特許出願されている
。
第３図（ａ）、（ｂ）は上記の特許出願にかかる面板欠
陥検出光学装置の作用原理と構成要部を示すもので、図
（ａ）において、レーザのスポットがピット欠陥に対し
て図示左より右方に走査されるとき、ピットの傾斜角が
下降する点ｐにおける反射光をＲ１）％平坦な中央部の
点ｑのそれをＲｑＮまた上昇する点ｒのそれをＲｒとす
ると、各反射光は反時計回りに回転する。Ｒｑを除いて
ＲｐとＲｒを受光することにより、ピット欠陥が検出さ
れる。
陥検出光学装置の作用原理と構成要部を示すもので、図
（ａ）において、レーザのスポットがピット欠陥に対し
て図示左より右方に走査されるとき、ピットの傾斜角が
下降する点ｐにおける反射光をＲ１）％平坦な中央部の
点ｑのそれをＲｑＮまた上昇する点ｒのそれをＲｒとす
ると、各反射光は反時計回りに回転する。Ｒｑを除いて
ＲｐとＲｒを受光することにより、ピット欠陥が検出さ
れる。
ただし、ピット欠陥の凹面は必ずしも平滑でなく段差な
どがあって散乱光が含まれる場合もある。
どがあって散乱光が含まれる場合もある。
図（ｂ）において、レーザ光源２ａよりのレーザは投光
レンズ２ｂとミラー４を経て投受光レンズ５により面板
１に投光され、その表面またはピット欠陥の点ｑとその
近傍よりの反射光Ｒｑは投受光レンズ５を通った後スト
ッパ６により遮断される。
レンズ２ｂとミラー４を経て投受光レンズ５により面板
１に投光され、その表面またはピット欠陥の点ｑとその
近傍よりの反射光Ｒｑは投受光レンズ５を通った後スト
ッパ６により遮断される。
これに対して、点ｐまたはｒを含む近傍の反射または散
乱光ＲＰ、Ｒｒは、投受光レンズ５より受光器７に入力
してピット欠陥が検出される。
乱光ＲＰ、Ｒｒは、投受光レンズ５より受光器７に入力
してピット欠陥が検出される。
以ｔに対して、この発明は原理的には同等であるが光学
系を一ヒ記と異なる方法により構成し、さらに検出信号
の処理を改良してピット欠陥の検出性能を向にを計るも
のである。
系を一ヒ記と異なる方法により構成し、さらに検出信号
の処理を改良してピット欠陥の検出性能を向にを計るも
のである。
［課題を解決するための手段］
この発明は、表面が鏡面をなすウェハ面板の欠陥検査装
置におけるピア）欠陥検出光学系である。
置におけるピア）欠陥検出光学系である。
レーザ光源よりのレーザの光軸に対して４５°傾斜した
第１の穴ミラーと、これに対して反射面が直角をなす第
２の穴ミラー、および第１の穴ミラーの中心穴を透過し
たレーザを集束してスポットを形成する投受光レンズと
を具備する。投受光レンズにより投光されたレーザの鏡
面による正反射光を、投受光レンズにおける投光された
レーザの光軸と異なる光軸上において受光し、受光され
たＩＥ反射光を第１の穴ミラーの反射面により反射させ
た後、第２の穴ミラーの中心穴を透過させ、その透過光
を受光する第１の受光器と、ウェハ面板に存在するピッ
ト欠陥により反射角が変化したレーザの正反射光または
乱反射光を、第１および第２の穴ミラーのそれぞれの反
射面により反射させ、その反射光を受光する第２の受光
器、および第１および第２の受光器のそれぞれの出力信
号の差分を演算して感度を向上する差分演算器により構
成されたものである。
第１の穴ミラーと、これに対して反射面が直角をなす第
２の穴ミラー、および第１の穴ミラーの中心穴を透過し
たレーザを集束してスポットを形成する投受光レンズと
を具備する。投受光レンズにより投光されたレーザの鏡
面による正反射光を、投受光レンズにおける投光された
レーザの光軸と異なる光軸上において受光し、受光され
たＩＥ反射光を第１の穴ミラーの反射面により反射させ
た後、第２の穴ミラーの中心穴を透過させ、その透過光
を受光する第１の受光器と、ウェハ面板に存在するピッ
ト欠陥により反射角が変化したレーザの正反射光または
乱反射光を、第１および第２の穴ミラーのそれぞれの反
射面により反射させ、その反射光を受光する第２の受光
器、および第１および第２の受光器のそれぞれの出力信
号の差分を演算して感度を向上する差分演算器により構
成されたものである。
［作用］
以上の構成によるビット欠陥検出光学系においては、第
１の穴ミラーの中心穴を透過したレーザは、投受光レン
ズの集光によりスポットとされて被検査の面板に投光し
て走査され、欠陥が存在しない鏡面における正反射光は
、投受光レンズと第１の穴ミラーの反射面、および第２
の穴ミラーの中心穴を経て第１の受光器に入力する。一
方、而仮にピット欠陥が存在するときは、正反射光また
は乱反射光の方向が変化するので、投光受光レンズを透
過したこれらは、第１および第２の穴ミラーの反射面に
よりそれぞれ反射されて第２の受光器により受光される
。この場合、ピント欠陥により第２の受光器の出力信号
のレベルは増加するが、この増加分だけ第１の受光器の
出力信号のレベルが低下するので、差分演算器により第
１および第２の受光器の出力信号の差分が演算されて、
ピット欠陥に対する検出感度が２倍に向上するものであ
る。
１の穴ミラーの中心穴を透過したレーザは、投受光レン
ズの集光によりスポットとされて被検査の面板に投光し
て走査され、欠陥が存在しない鏡面における正反射光は
、投受光レンズと第１の穴ミラーの反射面、および第２
の穴ミラーの中心穴を経て第１の受光器に入力する。一
方、而仮にピット欠陥が存在するときは、正反射光また
は乱反射光の方向が変化するので、投光受光レンズを透
過したこれらは、第１および第２の穴ミラーの反射面に
よりそれぞれ反射されて第２の受光器により受光される
。この場合、ピント欠陥により第２の受光器の出力信号
のレベルは増加するが、この増加分だけ第１の受光器の
出力信号のレベルが低下するので、差分演算器により第
１および第２の受光器の出力信号の差分が演算されて、
ピット欠陥に対する検出感度が２倍に向上するものであ
る。
［実施例コ
第１図（ａ）、（ｂ）は、この発明によるウェハ面板の
ピット欠陥検出光学系の実施例における構成と作用に対
する説明図である。レーザ光源２ａよりのレーザＴは投
光レンズ２ｂによりコリメートされ、その先軸に対して
４５°傾斜して設けられた第１の穴ミラー８−１の中心
穴を透過し、平面ミラー４により図示下方に反射される
。このレーザＴは、光軸が投受光レンズ５の中心に対し
て図示の左側に偏った位置に投光され、光軸が屈折する
とともに、集束されたスポットがウェハ面板１に投光さ
れる。面板ｌの表面が鏡面のとき、またはピット欠陥の
平坦部においては、レーザＴは正反射され、その正反射
光Ｒｑは図示の実線の経路をとって第１の穴ミラー８−
１の中心穴以外の反射面により反射される。第２の穴ミ
ラー８−２は、第１の穴ミラー８−１に対して直角方向
とされ、かつ上記の正反射光Ｒｑを透過するように中心
穴の位置が設定されているので、正反射光Ｒｑはその中
心穴を透過して第１の受光器７−１に受光される。また
、ピット欠陥の傾斜部または段差などにより正反射また
は乱反射して角度方向が変化した反射光ＲｐまたはＲｒ
は図示の一点鎖線または二点鎖線の経路をとり、第１お
よび第２の穴ミラーの反射面でそれぞれ反射され、この
反射光は集光レンズ９により集光されて第２の受光器７
−２に受光される。
ピット欠陥検出光学系の実施例における構成と作用に対
する説明図である。レーザ光源２ａよりのレーザＴは投
光レンズ２ｂによりコリメートされ、その先軸に対して
４５°傾斜して設けられた第１の穴ミラー８−１の中心
穴を透過し、平面ミラー４により図示下方に反射される
。このレーザＴは、光軸が投受光レンズ５の中心に対し
て図示の左側に偏った位置に投光され、光軸が屈折する
とともに、集束されたスポットがウェハ面板１に投光さ
れる。面板ｌの表面が鏡面のとき、またはピット欠陥の
平坦部においては、レーザＴは正反射され、その正反射
光Ｒｑは図示の実線の経路をとって第１の穴ミラー８−
１の中心穴以外の反射面により反射される。第２の穴ミ
ラー８−２は、第１の穴ミラー８−１に対して直角方向
とされ、かつ上記の正反射光Ｒｑを透過するように中心
穴の位置が設定されているので、正反射光Ｒｑはその中
心穴を透過して第１の受光器７−１に受光される。また
、ピット欠陥の傾斜部または段差などにより正反射また
は乱反射して角度方向が変化した反射光ＲｐまたはＲｒ
は図示の一点鎖線または二点鎖線の経路をとり、第１お
よび第２の穴ミラーの反射面でそれぞれ反射され、この
反射光は集光レンズ９により集光されて第２の受光器７
−２に受光される。
第１および第２の受光器のそれぞれの出力信号１１１１
２は差分演算器１０に入力して、差分（Ｉ２−Ｉｌ）が
出力される。第１図（ｂ）は、出力信号１１１１２およ
び（Ｉ２−Ｉｆ）の波形の例を示す。Ｉｆ はピント欠
陥がない鏡面の部分に対しであるレベルの信号Ｒｑを示
し、ピット欠陥の反射光Ｒｐ、Ｒｒに対してはそのレベ
ルが低下し、これらに対応してＩ２はレベルが上昇して
おり、両者の差分（Ｉ２−Ｉｔ）は、ＲｐとＲｒの部分
が２倍となって感度が向上している。なお、レーザのス
ポットがピット欠陥の直径より大きいときは、レーザは
平均的に反射されて図示点線のような平均値的な曲線の
出力信号Ｒ′となるものである。
２は差分演算器１０に入力して、差分（Ｉ２−Ｉｌ）が
出力される。第１図（ｂ）は、出力信号１１１１２およ
び（Ｉ２−Ｉｆ）の波形の例を示す。Ｉｆ はピント欠
陥がない鏡面の部分に対しであるレベルの信号Ｒｑを示
し、ピット欠陥の反射光Ｒｐ、Ｒｒに対してはそのレベ
ルが低下し、これらに対応してＩ２はレベルが上昇して
おり、両者の差分（Ｉ２−Ｉｔ）は、ＲｐとＲｒの部分
が２倍となって感度が向上している。なお、レーザのス
ポットがピット欠陥の直径より大きいときは、レーザは
平均的に反射されて図示点線のような平均値的な曲線の
出力信号Ｒ′となるものである。
以上はピット欠陥を対象とするものであるが、この実施
例においては、前記した第２図（ａ）の集光レンズ３ａ
と受光器３ｂよりなる受光部３を併設し、同図（ｂ）の
（イ）に示した異物などの凸部や、（ロ）の微小な凹部
などを検出するものである。
例においては、前記した第２図（ａ）の集光レンズ３ａ
と受光器３ｂよりなる受光部３を併設し、同図（ｂ）の
（イ）に示した異物などの凸部や、（ロ）の微小な凹部
などを検出するものである。
「発明の効果コ
以」二の説明により明らかなように、この発明によるピ
ット欠陥検出光学系においては、ウェハ面板に存在する
比較的面積が広＜、深さが浅いピ。
ット欠陥検出光学系においては、ウェハ面板に存在する
比較的面積が広＜、深さが浅いピ。
ト欠陥の反射または散乱光の方向が、鏡面に対する正反
射方向に対して変化することを利用し、鏡面の正反射光
の受光と、ピットにおける反射または散乱光の受光とを
別々に受光して、それぞれの出力信号の差分をとるもの
で、検出感度が２倍に増強されて従来困難であったピッ
ト欠陥を効率的に検出できる効果には大きいものがある
。
射方向に対して変化することを利用し、鏡面の正反射光
の受光と、ピットにおける反射または散乱光の受光とを
別々に受光して、それぞれの出力信号の差分をとるもの
で、検出感度が２倍に増強されて従来困難であったピッ
ト欠陥を効率的に検出できる効果には大きいものがある
。
第１図（ａ）および（ｂ）は、この発明によるウェハ面
板のピット欠陥検出光学系の実施例における構成図およ
び受光の出力信号と差分信号の波形図、第２図（ａ）お
よび（ｂ）は、ウェハ面板欠陥検査装置の通常の光学系
の構成図および代表的な欠陥の説明図、第３図（ａ）お
よび（ｂ）は、ピット欠陥による反射または散乱光の特
徴の説明図および、特許出願にかかる面板欠陥検出光学
装置の要部の構成図である。 １・・・ウェハ面板、 ２・・・投光部、２ａ・・
・レーザ光源、 ２ｂ・・・投光レンズ、３・・・受
光部、 ３ａ・・・集光レンズ、３ｂ・・・受
光器、 ４・・・平面ミラー５・・・投受光レン
ズ、 ６・・・ストッパ、７・・・受光器、７−１
・・・第１の受光器、７−２・・・第２の受光器、 ８
−１・・・第１の穴ミラー８−２・・・第２の穴ミラー
、９・・・集光レンズ、１０・・・差分演算器。
板のピット欠陥検出光学系の実施例における構成図およ
び受光の出力信号と差分信号の波形図、第２図（ａ）お
よび（ｂ）は、ウェハ面板欠陥検査装置の通常の光学系
の構成図および代表的な欠陥の説明図、第３図（ａ）お
よび（ｂ）は、ピット欠陥による反射または散乱光の特
徴の説明図および、特許出願にかかる面板欠陥検出光学
装置の要部の構成図である。 １・・・ウェハ面板、 ２・・・投光部、２ａ・・
・レーザ光源、 ２ｂ・・・投光レンズ、３・・・受
光部、 ３ａ・・・集光レンズ、３ｂ・・・受
光器、 ４・・・平面ミラー５・・・投受光レン
ズ、 ６・・・ストッパ、７・・・受光器、７−１
・・・第１の受光器、７−２・・・第２の受光器、 ８
−１・・・第１の穴ミラー８−２・・・第２の穴ミラー
、９・・・集光レンズ、１０・・・差分演算器。
Claims (1)
- （１）表面が鏡面をなすウェハ面板の欠陥検査装置にお
いて、レーザ光源よりのレーザの光軸に対して４５゜傾
斜した第１の穴ミラーと、該第１の穴ミラーに対して反
射面が直角をなす第２の穴ミラー、および該第１の穴ミ
ラーの中心穴を透過した上記レーザを集束してスポット
を形成する投受光レンズとを具備し、該投受光レンズに
より上記ウェハ面板に投光された該スポットの上記鏡面
による正反射光を、上記授受光レンズにおける上記投光
されたレーザの光軸と異なる光軸上において受光し、該
受光された正反射光を上記第１の穴ミラーの反射面によ
り反射させた後、上記第２の穴ミラーの中心穴を透過さ
せ、該透過した透過光を受光する第１の受光器と、上記
ウェハ面板に存在するピット欠陥により反射角が変化し
た上記レーザの正反射光または乱反射光を、上記第１の
穴ミラーおよび上記第２の穴ミラーのそれぞれの反射面
により反射させ、該反射による反射光を受光する第２の
受光器、および上記第１の受光器と第２の受光器のそれ
ぞれの出力信号の差分を演算して感度を向上する差分演
算器とにより構成されたことを特徴とする、ウェハ面板
のピット欠陥検出光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31234789A JP2876482B2 (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | 面板の欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31234789A JP2876482B2 (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | 面板の欠陥検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03173452A true JPH03173452A (ja) | 1991-07-26 |
| JP2876482B2 JP2876482B2 (ja) | 1999-03-31 |
Family
ID=18028152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31234789A Expired - Fee Related JP2876482B2 (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | 面板の欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2876482B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6138424A (en) * | 1998-07-28 | 2000-10-31 | Beutler Heating & Air Conditioning | Vent apparatus for attachment to a building structure |
| KR100900618B1 (ko) * | 2007-06-20 | 2009-06-02 | 삼성전기주식회사 | 표면 측정 장치 |
| CN113588520A (zh) * | 2021-04-27 | 2021-11-02 | 深圳迈瑞动物医疗科技有限公司 | 光学检测装置及细胞分析仪 |
-
1989
- 1989-12-01 JP JP31234789A patent/JP2876482B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6138424A (en) * | 1998-07-28 | 2000-10-31 | Beutler Heating & Air Conditioning | Vent apparatus for attachment to a building structure |
| KR100900618B1 (ko) * | 2007-06-20 | 2009-06-02 | 삼성전기주식회사 | 표면 측정 장치 |
| CN113588520A (zh) * | 2021-04-27 | 2021-11-02 | 深圳迈瑞动物医疗科技有限公司 | 光学检测装置及细胞分析仪 |
| CN113588520B (zh) * | 2021-04-27 | 2024-04-09 | 深圳迈瑞动物医疗科技股份有限公司 | 光学检测装置及细胞分析仪 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2876482B2 (ja) | 1999-03-31 |
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