JPH03173919A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、磁気記録媒体に係り、より詳細には合成樹脂
により形成された基体を用いた磁気記録媒体に関する。

［従来の技術］ 従来の磁気記録媒体として、基体として合成樹脂を用い
たものが知られている。合成樹脂からなる磁気記録媒体
用基体は、アルミニウム基板よりも軽量であること、加
工性に優れていることなどの長所を有する。

また、従来、合成樹脂からなる基体の表面をチタン、チ
タン合金またはチタン化合物により被覆し、これを磁気
記録媒体用基体として用いた磁気記録媒体が技術開示さ
れている（特開昭６１−１８７１１７号公報）１表面を
チタン、チタン合金またはチタン化合物により被覆する
ことにより、基体表面の硬度および粗度を向上させるこ
とができる。

［発明が解決しようとする課題］ しかし、合成樹脂製の基体を用いた磁気記録媒体は、当
該基体上にクロムからなる下地層と記録層とを形成した
場合、記録層にクランクが発生しやすく、このため、磁
気記録媒体の信号特性が劣化するという課題を有してい
た。これは、本発明者の検討によれば、合成樹脂製基体
とクロムからなる下地層との密着性が悪いためであると
考えられる。これに対して、クロム層を形成する時の成
膜条件を選択することによってクラックのないものを作
成することも可能であるが、この場合には、記録特性が
低下してしまうという課題があった。

この課題は、上述のごとき合成樹脂の基板上にチタン、
チタン合金、チタン化合物層を形成した場合でも同様に
存在する。本発明者の検討によれば、これも、チタン等
の被膜とクロムとの密着力が弱いことに起因するもので
あった。

本発明は、このような従来の技術的課題に鑑みて試され
たものであり、記録層にクラックが発生しにくく、記録
特性が劣化することのない磁気記録媒体を提供すること
を目的とする。

［課題を解決するための手段〕 本発明の磁気記録媒体は、合成樹脂により形成された基
体と、当該基体上に形成された下地層と、当該下地層上
に形成された記録層とを少なくとも有する磁気記録媒体
において、 前記下地層が、Ａｒ圧力の高い状態でのスパッタリング
により形成されたクロム層Ａと、Ａｒ圧力の低い状態で
のスパッタリングにより形成されたクロム層Ｂとにより
構成されたことを特徴とする請求項１）。

本発明の磁気記録媒体は、合成樹脂により形成された基
体と、当該基体上に形成された下地層と、当該下地層上
に形成された記録層とを少なくとも有する磁気記録媒体
において、 前記下地層が、Ａｒ圧力の高い状態からＡｒ圧力の低い
状態へ徐々に変化させたスパッタリングにより形成され
たクロム層であることを特徴とする。

以下、本発明の構成について、より詳細に説明する。

（合成樹脂基体） 本発明に使用される合成樹脂基体としては、例えば、ア
クリル系、ポリカーボネート系、ポリイミド系、エポキ
シ系などの１種もしくは２　ｆｆ１以上の混合樹脂によ
り形成されたものが使用可能である。

また、これらの樹脂に、ガラス繊維、炭素繊維、チタン
酸カリウムウィスカーなどの繊維状物質やガラスピーズ
、カーボン粒子、セラミックス粉末などを充填したもの
を使用してもよい。

さらに、このようにして作製した合成樹脂基体の表面を
チタン、チタン合金またはチタン化合物によって被覆し
たものを使用してもよい。

（下地層） 請求項１に係る本発明では、上記合成樹脂製基体の上に
、Ａｒ圧力の高い状態でのスパッタリングにより形成さ
れたクロム層Ａと、Ａｒ圧力の低い状態でのスパッタリ
ングにより形成されたクロム層Ｂとを積層して、下地層
とする。

スパッタリング時のＡｒ圧力はクロム層Ａについては１
．５×１０−”Ｔｏｒｒ以上であることが好ましく、ク
ロム層Ｂについては１．０Ｘ１０−２Ｔｏｒｒ以下であ
ることが好ましい（請求項２、請求項３）。クロム層Ａ
のＡｒ圧力が１．５×１０””Ｔｏｒｒより低い場合に
はクランクが発生やすくなり、クロム層ＢのＡｒ圧力が
１．Ｏ×１０−２Ｔｏｒｒより高い場合には記録媒体と
しての出力が低下してしまうからである。

クロム層Ａの厚さとクロム層Ｂの厚さとの比は、クロム
層Ａの厚さをＸＡとし、クロム層Ｂの厚さをｘ８とした
場合に、ＸＡ　／　ＸＢ　＝　０　、５〜４となるよう
にすることが好ましい（ｉｉｔ　京項４）。この範囲よ
りもクロム層Ｂが厚い場合にはクラックが発生しやすく
なり、薄い場合には記録特性が悪くなるからである。

請求項５に係る本発明では、スパッタリング開始時のＡ
ｒ圧力を１．５Ｘ１０−２Ｔｏｒｒ以上とし、スパッタ
リング終了時前のＡｒ圧力を１．０ＸＩＯ−２Ｔｏｒｒ
以下であることが好ましい（請求項６）。開始時のＡｒ
圧力が１．５Ｘ１（Ｍ２Ｔｏｒｒより低い場合にはクラ
ックが発生やすくなり、一方、スパッタリング終了時前
のＡｒ圧力を１．０ＸＩＯ−２Ｔｏｒｒより高くすると
記録媒体としての出力が低下してしまうからである。

なお、Ａｒ圧力の高い状態（１，５Ｘ１０−２Ｔｏｒｒ
以上）でクロム層の１７３以上の厚さを形成するのが好
ましい（請求項７）。これより薄い場合にはクラックが
発生することがあるためである。

（記録層） 本発明は、記録層の材料、膜厚、形成方法等を特に限定
するものではない。例えば記録層の形成材料としては、
Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎ　１−Ｃｒ等が使用可能である。

また、記録膜の形成方法としては、例えば、真空蒸着法
、スパッタリング法、イオンブレーティング法、メツキ
法等が使用可能である。

（層構造） なお、本発明は磁気記録媒体の層構造を特に限定するも
のではなく、保護層等の層を設けてもよいことはもちろ
んである。これらの層の成膜方法も特に限定するもので
はなく、湿式メツキ法、スパッタリング法、真空蒸着法
など、条件に応じて任意の成膜技術を用いることが可能
である。

さらに、保護層表面に潤滑剤を塗布することによって、
Ｃ３Ｓ酎久性を向上させることも可能である。

［作用］ 本発明によれば、上述のごとき構成の下地層を用いるこ
とにより、磁気記録媒体用基体と下地層との密着性を向
上させることができるので、記録層にクラックを発生し
にくくすることができる。

併せて、本発明によれば、上述のごとき構成の下地層を
用いることにより、磁気記録媒体の記録特性を向上させ
ることが可能となる。

［実施例］ （実施例１） 以下、本発明の一実施例について、磁気記録媒体の一例
として磁気ディスクを例にとって、第１図を用いて説明
する。

第１図は、本実施例に係わる磁気記録媒体の層構造を示
す模式的断面図である０図において、１は合成樹脂製の
基板、２はクロム層Ａ、３はクロム層Ｂ、４は記録層と
してのコバルト合金膜、５は保護層としてのカーボン膜
である。

本実施例では、クロム層Ａおよびクロム層Ｂにづいて膜
厚およびＡｒ圧力がそれぞれ異なる磁気ディスクを７種
類作製し、各磁気ディスクについて、クラックの有無の
観察と記録特性の測定を行なった。また、比較のために
、クロム層を１層のみ有する磁気ディスクを２種類作製
し、同様の評価を行なった。

各磁気ディスクともに、合成樹脂製基板としては、ポリ
エーテルイミド樹脂（商品名：ウルテム）を外径１３０
ｍｍ、内径４０ｍｍ、厚さ１．９ｍｍのドーナツ型に射
出成形したものを使用した。

この基板の表面に、Ｄ、Ｃ，マグネトロン方式のスパッ
タリング装置でクロム層を形成した。各磁気ディスクの
クロム層の膜厚およびＡｒ圧力を表１に示す。

このクロム層の上に、コバルト合金（ｃｏ：Ｎｉ　：Ｃ
ｒ＝７０　：　２０　：　１０．重量比）からなる記録
層と、カーボン膜からなる保護層とを、それぞれ形成し
た。各層の膜厚は、それぞれ、記録層は０．０８μｍ、
保護層は０．０３μｍとした。

次に、これらの磁気ディスクの表面を５００倍の光学顕
微鏡でそれぞれ観察し、クランクの有無を調べた。

さらに、３３７０型トラック幅２０μｍのミニモノリシ
ックヘッドを使い、サーチファイヤーでＩＤ（ｒｚ３５
ｍｍ）、ＯＤ（ｒ＝５９ｍｍ）の記録再生出力（記録周
波数２．５ＭＨｚ）を測定した。

これらの結果を表１にあわせて示す。

表１かられかるように、本実施例の磁気ディスクにはク
ランクがほとんど発生せず、また記録特性も向上してい
た。特に、クロム層ＡをＡｒ圧力が１．５Ｘ１０−”Ｔ
ｏｒｒ以上のスパッタリングにより形成し、クロム層Ｂ
をＡｒ圧力が１．ｏ×１０−２Ｔｏｒｒ以下のスパッタ
リング心より形成し、且つ、クロム層Ａの厚さ／クロム
層Ｂの厚さが０．５〜４である場合（実験Ｎ００１〜６
）には、クランクは全く発生せず、記録特性も非常に優
れていた。

（実施例２） ポリエーテルイ稟ド樹脂（商品名：ウルテム）を外径１
３０ｍｍ、内径４０ｍｍ、厚さ１．９ｍｍのドーナツ型
に成形した基板を使用した。

基板上にり、Ｃ，マグネトロン方式のスパッタリング装
置で厚さをモニターしながら表２に示す条件でクロム層
を形成し、その上にコバルト合金（Ｃｏ：Ｎｉ　：Ｃｒ
＝７０：２０：１０％重量比）からなる記録層と、カー
ボン膜からなる保護層を形成した。各層の膜厚は、それ
ぞれ、記録層は０．０８μｍ１保護層は０．０３μｍと
した。

ここで、クロム成膜中のＡｒ圧力を低くする割合をクロ
ム層の厚さ０．０１μｍあたりどれだけＡｒ圧力を低く
しているかで表わした。

このようにして作製した磁気ディスクの表面を５００倍
の光学顕微鏡で観察してクラックの有無を調べた。

さらに、３３７０型クラック＠２０μｍのミニモノリシ
ックヘッドを使い、　　ＡｄｅｌｐｈＬ社製サーチファ
イヤーでＩ　Ｄ　（ｒ＝３５ｍｍ）　、　００　（ｒ＝
５９ｍｍ）の記録再生出力（記録周波数２．５ＭＨｚ、
回転数３６００ｒ、ｐ、ｍ、）を測定した。その結果を
あわせて表２に示す。

表２かられかるように、本実施例の磁気ディスクにはク
ラックがほとんど発生せず、また記録特性も向上してい
た。特に、Ａｒ圧力が１．５×１０−２Ｔｏｒｒ以上の
スパッタリングにより下地層の１／３以上を形成した場
合（実験Ｎｏ、１０〜１４）には、クラックは全く発生
せず、記録特性も非常に優れていた。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、記録層にクラン
クを発生しにくく、優れた記録特性を有する、合成樹脂
基体を用いた磁気記録媒体を提供することが可能となる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の実施例１に係るＥｆ！気記録媒体の
Ｎ構造を示す模式的断面図である。 １・・・基板、２・・・クロム下地層Ａ、３・・・クロ
ム下地層Ｂ、４・・・記録層、５・・・保護層。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）合成樹脂により形成された基体と、当該基体上に
   形成された下地層と、当該下地層上に形成された記録層
   とを少なくとも有する磁気記録媒体において、 前記下地層が、Ａｒ圧力の高い状態でのスパッタリング
   により形成されたクロム層Ａと、Ａｒ圧力の低い状態で
   のスパッタリングにより形成されたクロム層Ｂとにより
   構成されたことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）前記クロム層Ａが、Ａｒ圧力を１．５×１０＾−
   ＾２Ｔｏｒｒ以上としたスパッタリングにより形成され
   たことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
3. （３）前記クロム層Ｂが、Ａｒ圧力を１．０×１０＾−
   ＾２Ｔｏｒｒ以下としたスパッタリングにより形成され
   たことを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒
   体。
4. （４）前記クロム層Ａの膜厚Ｘ＿Ａと前記クロム層Ｂの
   膜厚Ｘ＿Ｂとの比が、Ｘ＿Ａ／Ｘ＿Ｂ＝０．５〜４であ
   ることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記
   載の磁気記録媒体。
5. （５）合成樹脂により形成された基体と、当該基体上に
   形成された下地層と、当該下地層上に形成された記録層
   とを少なくとも有する磁気記録媒体において、 前記下地層が、Ａｒ圧力を高い状態から低い状態へ徐々
   に変化させたスパッタリングにより形成されたクロム層
   であることを特徴とする磁気記録媒体。
6. （６）Ａｒ圧力の高い状態は１．５×１０＾−＾２Ｔｏ
   ｒｒ以上であり、Ａｒ圧力の低い状態は１．０×１０＾
   −＾２Ｔｏｒｒ以下であることを特徴とする請求項５記
   載の磁気記録媒体。
7. （７）１．５×１０＾−＾２Ｔｏｒｒ以上のＡｒ圧力状
   態で、下地層の１／３以上の厚さを形成することを特徴
   とする請求項６記載の磁気記録媒体。