JPH0317582Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［考案の目的］ （産業上の利用分野） 本考案は回転電機又は油入電気機器等でその内
部部品に絶縁処理のため、ワニス含浸処理を行う
浸漬形ワニス含浸処理装置に関する。

（従来の技術） 第１図はワニス処理品の固定子鉄心の平面図、
第２図は従来の浸漬形ワニス含浸処理装置を示す
正面図でワニス含浸処理待ちの状態を示すＡとワ
ニス含浸処理状態のＢとワニス含浸処理完了状態
を示すＣとで構成される。第３図は第２図の昇降
装置の側面図である。ワニス含浸処理前で通常予
熱されている処理物のワーク１は、台車であるパ
レツト２の中に入れられ処理台である準備台３の
上に載せられている。パレツト２の下部には車輪
６を有し準備台３上のレール９ａ上に載せられ水
平方向に走行可能な状態である。パレツト２は孔
が数多く設けられた鋼板或いは網状金属からな
り、処理槽４中で容易にワーク１がパレツト２ご
と含浸処理される構造を有する。

次に、ワニス含浸処理状態Ｂはパレツト２を昇
降させる装置とワニス５の処理槽４からなる。昇
降装置１３は平行に直立する２本の支柱からなる
本体フレーム１７と、この側面に取付けられたシ
リンダー１６と、この本体フレーム１７の頭部先
端に滑車を設け、シリンダー１６に結合されたワ
イヤ１５によつて滑車を介して吊下げられる昇降
フレーム１２とからなる。この昇降フレーム１２
は、本体フレーム１７とガイドローラ１４ａ，１
４ｂで上下部を昇降可能に支持され、昇降フレー
ム１２の下端には水平方向に突出するベース１０
が固定され、このベース１０の上方にこれと平行
に特殊カバー１１が固定されている。このベース
１０及び特殊カバー１１の上面にはそれぞれレー
ル９ｂ及び９ｄが、準備台３のレール９ａ及び後
述する風乾台７のレール９ｃと連結可能に敷設さ
れている。そして、昇降装置１３の下部には処理
槽４が穴内に収納され、本体フレーム１７に固定
されていて、処理槽４内にはワニス５が入つてい
る。

次に、ワニス含浸処理完了状態Ｃは、風乾台７
の上にレール９ｃが敷設され、このレール９ｃ上
にワニス含浸処理が完了したワーク１を収納した
パレツト２がベース１０より移動されて載置され
る。

次に、この装置によるワニス含浸処理方法を説
明する。予備加熱したワーク１を収納したパレツ
ト２は、レール９ａとレール９ｂ上を移動して昇
降装置１３のベース１０の中央で停止する。次
に、シリンダー１６の作動によりワイヤ１５が送
出されて、昇降フレーム１２はガイドローラ１４
ａ，１４ｂに案内されて下降し、ベース１０上に
載置されたパレツト２は処理槽４内に入り、ワニ
ス５内に沈みワーク１はワニス含浸処理される。

一定時間経過後、昇降フレーム１２は上昇して
余滴落しを行つた後、パレツト２はレール９ｂ上
を移動して風乾台７の上で停止する。そして、風
乾台７の上で乾燥後のパレツト２からワーク１の
取出し作業中に、次のワニス含浸処理をするワー
ク１のパレツト２が準備台３からベース１０に載
置され、昇降フレーム１２が下降してパレツト２
は処理槽４内に入りワニス含浸処理されている。

この時、特殊カバー１１のレール９ｄは、準備
台３のレール９ａ及び風乾台７のレール９ｃと連
結可能な同じ高さに敷設されているので、空にな
つたパレツト２は風乾台７から特殊カバー１１上
を通つて準備台３上で停止し、次のワーク１を収
納することができる。

これにより、ワーク１を積載したパレツト２及
び空きパレツト２を含浸処理時間内に確実に移動
でき、パレツト２を移動するための余分な場所も
必要としない。

（考案が解決しようとする課題） しかるに、この空きパレツト２を風乾台７から
特殊カバー１１上を通つて準備台３に返送するた
め、３つのレール９ａ，９ｃ，９ｄの高さは同じ
にしなければならない。、しかしベース１０と特
殊カバー１１とは昇降フレーム１２に固定され、
また、ワニス５の液面も一定の高さに維持されて
いる。このためワーク１が小さい場合、或いは多
段積みされない場合には、本来ワーク１の上面が
ワニス５の液面より僅かに低く沈めるだけでワニ
ス含浸処理は十分であるものが、レールの高さを
合せるためにベース１０を必要以上に沈めること
になり、ベース１０の昇降に余分な時間がかかり
生産性が低くなるという問題があつた。また、第
１図に示すように機種によつてワーク１のリード
線１ｄにワニス５を付着させてはいけない場合に
は、ベース１０をワニス液面を見ながら昇降位置
の途中で止める必要があり、このため、このワニ
ス含浸処理中は空のパレツト２を風乾台７から準
備台３に返送することができず、生産性の低下を
きたすという問題があつた。

本考案は上記の問題を解決するためになされた
もので、生産性を低下させることなく、電気機器
の部品をその大きさ、形状、数量に応じた最適の
ワニス液面の深さを得る浸漬形ワニス含浸処理装
置を提供することを目的とする。

［考案の構成］ （課題を解決するための手段） 本考案の浸漬形ワニス含浸処理装置は、平行に
立設した本体フレームと、この本体フレームに支
持されて上下方向に移動するフレームと、このフ
レームの下部に直角水平方向に突出して固定され
処理物を載置するベースと、このベースから空間
を有してフレームの上部にベースと同方向に突出
して固定され上面は台車が走行し下面が処理槽開
口部の覆い用となる特殊カバーとを備えてなる昇
降装置を、２つの処理台間に凹設された処理槽縁
に配設し、この昇降装置の降下した時ベース上の
処理物は処理槽内に浸漬し特殊カバー上面は台車
が走行でき且つ下面は処理槽開口部を覆い、上昇
した時処理物を処理台上に移行しうる昇降装置で
あつて、この特殊カバーはフレームに固定され
ず、フレームに設けたストツパーによりその下端
位置を規制され、フレームに沿つて支持する昇降
自在な案内部を有することに特徴がある。

（作用） 本考案の浸漬形ワニス含浸処理装置では、処理
物を載置するベースと、その上部に上面は台車が
走行し下面が処理槽開口部に当接してこれの覆い
用となる特殊カバーとの二階式の昇降装置とし、
かつ、この特殊カバーをベースに対して昇降自在
としたので、下降することにより特殊カバーが処
理槽の蓋となると共に、その上面にあるレール上
を台車の走行可能とし、更にベースの位置は処理
物のワニスへの浸漬深さを所望の深さになるよう
に調整可能とすることができる。

（実施例） 本考案の一実施例を第４図を参照して説明す
る。尚、上記した従来と同一部分については同一
符号を付し詳細な説明は省略する。第４図は昇降
装置の一部断面を含む側面図である。図におい
て、昇降装置１３ａは平行に直立する２本の支柱
からなる本体フレーム１７と、この側面に取付け
られたシリンダー１６と、この本体フレーム１７
の頭部先端に滑車を設け、シリンダー１６に結合
されたワイヤ１５によつて滑車を介して吊下げら
れる昇降フレーム１２ａとからなる。この昇降フ
レーム１２ａは、本体フレーム１７とガイドロー
ラ１４ａ，１４ｂで上下部を昇降可能に支持さ
れ、昇降フレーム１２ａの下端には水平方向に突
出するベース１０が固定され、このベース１０の
上方にこれと平行に特殊カバー１１ａが昇降フレ
ーム１２ａを基準として昇降するガイドローラ１
８を介して支持されている。そして昇降フレーム
１２ａにはストツパー１９が取付けられ、特殊カ
バー１１ａの下端位置を規制している。このベー
ス１０及び特殊カバー１１ａの上面にはそれぞれ
レール９ｂ及び９ｄが、準備台３のレール９ａ及
び風乾台７のレール９ｃと連結可能に敷設されて
いる。また、ベース１０と特殊カバー１１ａとの
間隔はストツパー１９によりベース１０上に載置
するパレツト２の高さより少し大きく設定する。
そして、昇降装置１３ａの下部には処理槽４ａが
穴内に収納され、本体フレーム１７に固定されて
いて、処理槽４ａ内にはワニス５が入つている。
そして、処理槽４ａの上面が特殊カバー１１ａの
下面１１ｂと当接した時、特殊カバー１１ａの上
面のレール９ｄが準備台３のレール９ａ及び風乾
台７のレール９ｃと連結可能な同じ高さになるよ
うに処理槽４ａの高さを設定する。

このように構成された実施例によるワニス含浸
処理方法を説明する。予備加熱したワーク１を収
納したパレツト２は、第２図に示すワニス含浸処
理待ちの状態Ａにある準備台３の上に置かれる。
次に、パレツト２はレール９ａとレール９ｂ上を
移動して昇降装置１３ａのベース１０の中央で停
止する。次に、シリンダー１６の作動によりワイ
ヤ１５が送出されて、昇降フレーム１２ａはガイ
ドローラ１４ａ，１４ｂに案内されて下降する。
従つて、ストツパー１９に支えられた特殊カバー
１１ａとパレツト２を載置したベース１０は下降
する。そして特殊カバー１１ａの下面１１ｂが処
理槽４ａの上面４ｂに当接すると特殊カバー１１
ａはその位置で停止し、処理槽４ａで支えられ
る。これにより特殊カバー１１ａは処理槽４ａの
蓋となると共に、その上面にあるレール９ｄ高さ
は、準備台３のレール９ａ及び風乾台７のレール
９ｃと同じ高さになる。昇降フレーム１２ａは更
に下降してワーク１の上面が、ワニス５の液面よ
り僅かに低い位置となつて停止し、ワーク１はワ
ニス含浸処理される。そしてこのワニス含浸処理
時間中に風乾台７の空きパレツト２は特殊カバー
１１ａの上を通つて準備台３まで返送される。

一定時間経過後、昇降フレーム１２ａは上昇を
開始する。先ず、ベース１０が上昇しワーク１が
ワニス５の液面から露出してから、昇降フレーム
１２ａに取付けられたストツパー１９により特殊
カバー１１ａが上昇し、ベース１０のレール９ｂ
の位置が準備台３のレール９ａ及び風乾台７のレ
ール９ｃと同じ高さになると停止する。ワニス５
の余滴落しを行つた後、パレツト２はレール９ｂ
上を移動して風乾台７の上で停止する。そして、
風乾台７の上で乾燥後のパレツト２からワーク１
の取出し作業中に、次のワニス含浸処理をするワ
ーク１のパレツト２が準備台３からベース１０に
載置され、昇降フレーム１２ａが下降してパレツ
ト２は処理槽４ａ内に入りワニス含浸処理されて
いる。

上記実施例によれば、特殊カバー１１ａを昇降
フレーム１２ａを基準として昇降可能とすること
により、処理槽４ａの上面４ｂに当接させて定位
置に支持させ、処理槽４ａの蓋とすると共に、そ
の上面にあるレール９ｄの高さを準備台３のレー
ル９ａ及び風乾台７のレール９ｃと同じ高さとな
るようにし、更にベース１０の位置はワーク１の
ワニス５への浸漬深さを所望の深さになるように
調整可能としたので、空きパレツト２を含浸処理
時間内に確実に特殊カバー１１ａの上を通つて移
動することができると共に、ワーク１の大きさ、
形状、数量（多段積み）の差によるワニス５への
浸漬深さを最適かつ最小限の深さとすることがで
き、ワニス含浸のための昇降距離を最短にし、昇
降時間短縮による生産性の向上が可能となる。

［考案の効果］ 以上、本考案の浸漬形ワニス含浸処理装置によ
れば、処理物を載置するベースと、その上部に上
面は台車が走行し下面が処理槽開口部に当接して
これの覆い用となる特殊カバーとの二階式の昇降
装置とし、かつ、この特殊カバーをベースに対し
て昇降自在としたので、下降することにより特殊
カバーが処理槽の蓋となると共に、その上面にあ
るレール上を台車の走行可能とし、更にベースの
位置は処理物のワニスへの浸漬深さを所望の深さ
になるように調整可能とすることができ、これに
よつて電気機器の部品の大きさ、形状、数量が異
なつても浸漬深さを最小限の深さとすることがで
き、昇降時間短縮による生産性の向上が可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

第１図はワニス含浸処理品の固定子鉄心の平面
図、第２図は従来の浸漬形ワニス含浸処理装置を
示す正面図、第３図は従来の昇降装置の一部断面
を含む側面図、第４図は本考案の一実施例を示す
浸漬形ワニス含浸処理装置の一部断面を含む側面
図である。 ２……パレツト、３……準備台、４，４ａ……
処理槽、５……ワニス、７……風乾台、１０……
ベース、９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｄ……レール、１
１，１１ａ……特殊カバー、１２，１２ａ……昇
降フレーム、１３，１３ａ……昇降装置、１５…
…ワイヤ、１７……本体フレーム、１８……ガイ
ドローラ、１９……ストツパー。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 電機機器の巻線部品を絶縁処理する装置におい
   て、平行に立設した本体フレームと、この本体フ
   レームに支持されて上下方向に移動するフレーム
   と、このフレームの下部に直角水平方向に突出し
   て固定され処理物を載置するベースと、このベー
   スから空間を有してフレームの上部に前記ベース
   と同方向に突出して固定され上面は台車が走行し
   下面が処理槽開口部の覆い用となる特殊カバーと
   を備えてなる昇降装置を、２つの処理台間に凹設
   された処理槽縁に配設し、この昇降装置の降下し
   た時ベース上の処理物は処理槽内に浸漬し特殊カ
   バー上面は台車が走行でき且つ下面は処理槽開口
   部に当接してこれを覆い、上昇した時処理物を処
   理台上に移行しうる昇降装置であつて、前記特殊
   カバーは前記フレームに固定されず、フレームに
   設けたストツパーによりその下端位置を規制さ
   れ、フレームに沿つて支持する昇降自在な案内部
   を具備することを特徴とする浸漬形ワニス含浸処
   理装置。