JPH03178462A - レーザ印字装置 - Google Patents
レーザ印字装置Info
- Publication number
- JPH03178462A JPH03178462A JP2053078A JP5307890A JPH03178462A JP H03178462 A JPH03178462 A JP H03178462A JP 2053078 A JP2053078 A JP 2053078A JP 5307890 A JP5307890 A JP 5307890A JP H03178462 A JPH03178462 A JP H03178462A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- drive signal
- ultrasound
- frequency
- printing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は、被加工物表面にレーザを照射して印字する
装置であって、とくに繰返しパルスのレーザを用いて見
掛は上濃淡のある図柄や模様が印字できるレーザ印字装
置に関する。
装置であって、とくに繰返しパルスのレーザを用いて見
掛は上濃淡のある図柄や模様が印字できるレーザ印字装
置に関する。
従来例について、その構成国である第2図を参照しなが
ら説明する。なお、第2図は本発明に係る実施例の構成
をも共通に示す。 第2図において、YAGレーザ用のレーザ発振農工から
発振される破線表示の繰返しパルスのし一ザは、各偏向
ミラー3x、3yおよび集光レンズ4を経て被加工物9
の表面に照射し、ここに印字をおこなう。各偏向ミラー
3x、3yは、対応する各アクチュエータ6x、6yに
よって回動され、繰返しパルスのレーザを被加工物9の
表面上で走査させる。すなわち、各偏向ミラー3x、3
yは、それぞれ紙面に直角な軸1紙面に平行で斜め45
度の軸のまわりに回動されて、レーザを被加工物9の表
面上でそれぞれX、 Y軸方向に振らせることができる
。 さて、繰返しパルスは、レーザ媒質によって発振される
連続波のレーザが、レーザ発振器lに内蔵され、駆動回
路7の駆動信号が印加される超音波Qスイッチ2によっ
て生成される。各アクチュエータ6x、6yと駆動回路
7とは、それぞれ制御部5によって制御され、各偏向
ら説明する。なお、第2図は本発明に係る実施例の構成
をも共通に示す。 第2図において、YAGレーザ用のレーザ発振農工から
発振される破線表示の繰返しパルスのし一ザは、各偏向
ミラー3x、3yおよび集光レンズ4を経て被加工物9
の表面に照射し、ここに印字をおこなう。各偏向ミラー
3x、3yは、対応する各アクチュエータ6x、6yに
よって回動され、繰返しパルスのレーザを被加工物9の
表面上で走査させる。すなわち、各偏向ミラー3x、3
yは、それぞれ紙面に直角な軸1紙面に平行で斜め45
度の軸のまわりに回動されて、レーザを被加工物9の表
面上でそれぞれX、 Y軸方向に振らせることができる
。 さて、繰返しパルスは、レーザ媒質によって発振される
連続波のレーザが、レーザ発振器lに内蔵され、駆動回
路7の駆動信号が印加される超音波Qスイッチ2によっ
て生成される。各アクチュエータ6x、6yと駆動回路
7とは、それぞれ制御部5によって制御され、各偏向
【
ラー3X、3yの回動角度と繰返しパルスの周波数とが
所定の値を取る。 従来例では、以上のように発振され、走査される繰返し
パルスのレーザによって、−筆書きの形で印字がおこな
われる。印字の切れ目は、図示してない機械的シャンク
によってレーザを一時的に遮蔽することによって得られ
る。 【発明が解決しようとする課題】 以上説明したように、従来の技術では、印字は発振され
る繰返しパルスのレーザを被加工物の表面上で一筆書き
の形で走査させておこなわれる。 したがって印字内容として、互いに隣り合い、交差する
同じ太さの線の間隔を、狭くまたは広くとって描くよう
にすることはできても、部分的に見掛は上濃淡をもつ図
柄や模様を描くことは事実上不可能であった。 この発明の課題は、従来の技術がもつ以上の問題点を解
消し、見掛は上濃淡のある図柄・や模様を印字すること
ができるレーザ印字装置を提供することにある。
ラー3X、3yの回動角度と繰返しパルスの周波数とが
所定の値を取る。 従来例では、以上のように発振され、走査される繰返し
パルスのレーザによって、−筆書きの形で印字がおこな
われる。印字の切れ目は、図示してない機械的シャンク
によってレーザを一時的に遮蔽することによって得られ
る。 【発明が解決しようとする課題】 以上説明したように、従来の技術では、印字は発振され
る繰返しパルスのレーザを被加工物の表面上で一筆書き
の形で走査させておこなわれる。 したがって印字内容として、互いに隣り合い、交差する
同じ太さの線の間隔を、狭くまたは広くとって描くよう
にすることはできても、部分的に見掛は上濃淡をもつ図
柄や模様を描くことは事実上不可能であった。 この発明の課題は、従来の技術がもつ以上の問題点を解
消し、見掛は上濃淡のある図柄・や模様を印字すること
ができるレーザ印字装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するために、本発明に係るレーザ印字装
置は、 被加工物表面に繰返しパルスのレーザを照射して印字す
る装置において、 前記被加工物表面の各位置に応して前記繰返しパルスの
照射時間を定める制御部を備える。
置は、 被加工物表面に繰返しパルスのレーザを照射して印字す
る装置において、 前記被加工物表面の各位置に応して前記繰返しパルスの
照射時間を定める制御部を備える。
制御部によって、被加工物表面の各位置に応して繰返し
パルスの照射時間が定められるから、各位置における印
字(刻印)の強弱の程度と、印字箇所の分布密度とを変
化させることができる。
パルスの照射時間が定められるから、各位置における印
字(刻印)の強弱の程度と、印字箇所の分布密度とを変
化させることができる。
本発明に係るレーザ印字装置の実施例について以下に図
面を参照しながら説明する。第2図はこの実施例の構成
図で、既に述べた従来例におけるのと共通である。この
実施例が従来例と異なる点はその動作にあり、レーザの
被加工物の表面上での走査の仕方と、照射時間が各箇所
によって定まっていることとである。 この実施例の動作について第1図のフローチャートを参
照しながら説明する。第1図において、ステップS1で
印字箇所の位置に係るカウンタiの初期化、i=1をお
こない、ステップS2で印字箇所Piの位置決めをおこ
なう。印字箇所について以下に説明する。 第3図は印字領域と印字箇所の概念図である。 第3図において、印字領域Rは方形であり、この方形領
域を縦、横の線で枡目に区画し各枡目の位置を印字箇所
Pi として表す。ここで、iは先程の印字箇所の位置
に係るカウンタで、第1行の左端の箇所を起点の1とし
、右方向に順次2,3・・・と進めていき、右端の次は
第2行の左端に移行し、以下同様に横方向、縦方向に進
めていって印字領域Rの全てをカバーする。つまり、カ
ウンタiは前記のように順次進めたときの各印字箇所の
位置を表す番号である。 再び第1図に戻り、ステップS3で、印字箇所Piに対
して照射するために繰返しパルスのレーザLを起動する
かどうかを判断する。すなわち、印字箇所Piによって
印字したり、しなかったりする。YESならステップS
4に、NOならステップS7にそれぞれ移行する。 ステップS4で、タイマTを零から起動させ、ステップ
S5で、タイマTが繰返しパルスのレーザの照射時間Z
iに達することを判断する。ここで、照射時間Ziが長
くなれば当然ながら印字ないし刻印の程度が強くなる。 また、印字された箇所の分布密度が大きい部分は見掛は
上濃くなり、逆に、分布密度が小さい部分は見掛は上淡
くなる。 照射時間Ziに達したら、ステップS6て、繰返しパル
スのレーザLを停止させ、タイマTを零復帰させる。 さて、繰返しパルスのレーザは、その繰返し周波数や断
続が、第2図の超音波Qスイッチ2と駆動回路7とを介
して、制御部5によって制御される。超音波Qスイッチ
は溶融石英からなり、これに駆動回路7からの駆動(電
圧)信号を印加することによって内部に超音波を発生さ
せ、レーザの方向を屈折させる超音波の回折格子を形成
する。 第4図は繰返しパルスのレーザLと駆動信号りとの各タ
イムチャートである。第4図において、駆動信号りが停
止したときに超音波の発振が止まりその瞬間、回折格子
が消えてパルスの発振光が得られる。この駆動信号りの
断続によって繰返しパルスのレーザLが得られ、その周
波数は駆動信号りの断続の周波数と一敗する。したがっ
て、繰返しパルスのレーザLの照射時間Zは、駆動信号
りの断続状態の開始からその終了までの期間によって決
まることになる。 再び第1図に戻り、各ステップS7.S8で、ステップ
S2以降の処理が印字領域Rの全体にわたっておこなわ
れる。なお、nはカウンタiの最大値、つまり印字箇所
の総数である。
面を参照しながら説明する。第2図はこの実施例の構成
図で、既に述べた従来例におけるのと共通である。この
実施例が従来例と異なる点はその動作にあり、レーザの
被加工物の表面上での走査の仕方と、照射時間が各箇所
によって定まっていることとである。 この実施例の動作について第1図のフローチャートを参
照しながら説明する。第1図において、ステップS1で
印字箇所の位置に係るカウンタiの初期化、i=1をお
こない、ステップS2で印字箇所Piの位置決めをおこ
なう。印字箇所について以下に説明する。 第3図は印字領域と印字箇所の概念図である。 第3図において、印字領域Rは方形であり、この方形領
域を縦、横の線で枡目に区画し各枡目の位置を印字箇所
Pi として表す。ここで、iは先程の印字箇所の位置
に係るカウンタで、第1行の左端の箇所を起点の1とし
、右方向に順次2,3・・・と進めていき、右端の次は
第2行の左端に移行し、以下同様に横方向、縦方向に進
めていって印字領域Rの全てをカバーする。つまり、カ
ウンタiは前記のように順次進めたときの各印字箇所の
位置を表す番号である。 再び第1図に戻り、ステップS3で、印字箇所Piに対
して照射するために繰返しパルスのレーザLを起動する
かどうかを判断する。すなわち、印字箇所Piによって
印字したり、しなかったりする。YESならステップS
4に、NOならステップS7にそれぞれ移行する。 ステップS4で、タイマTを零から起動させ、ステップ
S5で、タイマTが繰返しパルスのレーザの照射時間Z
iに達することを判断する。ここで、照射時間Ziが長
くなれば当然ながら印字ないし刻印の程度が強くなる。 また、印字された箇所の分布密度が大きい部分は見掛は
上濃くなり、逆に、分布密度が小さい部分は見掛は上淡
くなる。 照射時間Ziに達したら、ステップS6て、繰返しパル
スのレーザLを停止させ、タイマTを零復帰させる。 さて、繰返しパルスのレーザは、その繰返し周波数や断
続が、第2図の超音波Qスイッチ2と駆動回路7とを介
して、制御部5によって制御される。超音波Qスイッチ
は溶融石英からなり、これに駆動回路7からの駆動(電
圧)信号を印加することによって内部に超音波を発生さ
せ、レーザの方向を屈折させる超音波の回折格子を形成
する。 第4図は繰返しパルスのレーザLと駆動信号りとの各タ
イムチャートである。第4図において、駆動信号りが停
止したときに超音波の発振が止まりその瞬間、回折格子
が消えてパルスの発振光が得られる。この駆動信号りの
断続によって繰返しパルスのレーザLが得られ、その周
波数は駆動信号りの断続の周波数と一敗する。したがっ
て、繰返しパルスのレーザLの照射時間Zは、駆動信号
りの断続状態の開始からその終了までの期間によって決
まることになる。 再び第1図に戻り、各ステップS7.S8で、ステップ
S2以降の処理が印字領域Rの全体にわたっておこなわ
れる。なお、nはカウンタiの最大値、つまり印字箇所
の総数である。
以上説明したように、この発明においては、被加工物表
面の各位置に応じて繰返しパルスの照射時間が定められ
るから、各位置における印字(刻印)の強弱の程度と、
印字箇所の分布密度とを変化させることができる。 したがって、この発明によれば、従来の技術に比べ次の
ようなすぐれた効果がある。 (1)見掛は上濃淡のある図柄や模様を描くことが簡単
にでき、この図柄や模様によって伝達されるべき情報量
が増し、かつ絵や写真の模写など表現形式の拡大が図れ
る。 (2)印字内容は模倣し難いから、被加工物の偽造防止
に役立つ。
面の各位置に応じて繰返しパルスの照射時間が定められ
るから、各位置における印字(刻印)の強弱の程度と、
印字箇所の分布密度とを変化させることができる。 したがって、この発明によれば、従来の技術に比べ次の
ようなすぐれた効果がある。 (1)見掛は上濃淡のある図柄や模様を描くことが簡単
にでき、この図柄や模様によって伝達されるべき情報量
が増し、かつ絵や写真の模写など表現形式の拡大が図れ
る。 (2)印字内容は模倣し難いから、被加工物の偽造防止
に役立つ。
第1図は本発明に係る実施例の動作を示すフローチャー
ト、 第2図はこの実施例または従来例の共通な構成図、第3
図は印字領域と印字箇所の概念図、第4図は繰返しパル
スと駆動信号のタイムチャートである。 符号説明 1:レーザ発振器、2:超音波Qスイッチ、3x、3y
:偏向ミラー 4:集光レンズ、5:制御部、6x
、6y :アクチュエータ、7:駆動回路、9:被加
工物。 宇1免 1ぢ音ジヒQスイ・lテ 老、2ダ
ト、 第2図はこの実施例または従来例の共通な構成図、第3
図は印字領域と印字箇所の概念図、第4図は繰返しパル
スと駆動信号のタイムチャートである。 符号説明 1:レーザ発振器、2:超音波Qスイッチ、3x、3y
:偏向ミラー 4:集光レンズ、5:制御部、6x
、6y :アクチュエータ、7:駆動回路、9:被加
工物。 宇1免 1ぢ音ジヒQスイ・lテ 老、2ダ
Claims (1)
- 1)被加工物表面に繰返しパルスのレーザを照射して印
字する装置において、前記被加工物表面の各位置に応じ
て前記繰返しパルスの照射時間を定める制御部を備える
ことを特徴とするレーザ印字装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2053078A JPH03178462A (ja) | 1989-09-02 | 1990-03-05 | レーザ印字装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-227799 | 1989-09-02 | ||
| JP22779989 | 1989-09-02 | ||
| JP2053078A JPH03178462A (ja) | 1989-09-02 | 1990-03-05 | レーザ印字装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03178462A true JPH03178462A (ja) | 1991-08-02 |
Family
ID=26393786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2053078A Pending JPH03178462A (ja) | 1989-09-02 | 1990-03-05 | レーザ印字装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03178462A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2669953C1 (ru) * | 2017-08-29 | 2018-10-17 | Публичное акционерное общество "Региональный инжиниринговый центр промышленных лазерных технологий "КАИ - Лазер" | Устройство для гибридного лазерно-акустического создания функционально-градиентного материала |
-
1990
- 1990-03-05 JP JP2053078A patent/JPH03178462A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2669953C1 (ru) * | 2017-08-29 | 2018-10-17 | Публичное акционерное общество "Региональный инжиниринговый центр промышленных лазерных технологий "КАИ - Лазер" | Устройство для гибридного лазерно-акустического создания функционально-градиентного материала |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2701183B2 (ja) | 液晶マスク式レーザマーカ | |
| JP2682475B2 (ja) | ビームスキャン式レーザマーキング方法および装置 | |
| JP2937361B2 (ja) | レーザ加工機 | |
| EP2239144B1 (en) | Method and arrangement for rotational marking | |
| JP3769942B2 (ja) | レーザー加工方法及び装置、並びに非導電性透明基板の回路形成方法及び装置 | |
| JP2773661B2 (ja) | ビームスキャン式レーザマーキング方法および装置ならびにこのためのマスク | |
| JP2860765B2 (ja) | レーザ刻印装置の制御装置 | |
| JP3348345B2 (ja) | レーザによる溝加工方法 | |
| JPH03178462A (ja) | レーザ印字装置 | |
| JP2633954B2 (ja) | 液晶式マーキング方法及びその装置 | |
| JP3413645B2 (ja) | レーザ刻印装置における刻印位置補正装置 | |
| JP2811270B2 (ja) | 鋼板へのレーザマーキング方法 | |
| JP3185660B2 (ja) | マーキング方法および装置 | |
| JP2500648B2 (ja) | ビ―ムスキャン式レ―ザマ―キング装置 | |
| JP3289258B2 (ja) | ワークの刻印方法 | |
| JP2541501B2 (ja) | レ―ザマ―キング方法 | |
| JPH05200570A (ja) | 液晶マスク式レーザマーキング方法及びその装置 | |
| EP0742071B1 (en) | Liquid crystal display for laser marker | |
| JP2720002B2 (ja) | レーザマーキング方法 | |
| JPH07246482A (ja) | レーザマーキング装置 | |
| JPH0857666A (ja) | レーザマーキング方法 | |
| JPH0732168A (ja) | パルスコントロール印字方式及び装置 | |
| JPH06237037A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPH09285881A (ja) | マーキング方法および装置 | |
| JP3027654B2 (ja) | 鋼板へのレーザマーキング方法 |