JPH03180463A - 部分薄膜形成装置 - Google Patents
部分薄膜形成装置Info
- Publication number
- JPH03180463A JPH03180463A JP31958789A JP31958789A JPH03180463A JP H03180463 A JPH03180463 A JP H03180463A JP 31958789 A JP31958789 A JP 31958789A JP 31958789 A JP31958789 A JP 31958789A JP H03180463 A JPH03180463 A JP H03180463A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- mask
- lens
- sample
- permanent magnet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般的には薄膜形成装置に関し、更に具体的に
は試料の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成する簡易
な部分薄膜形成装置に関する。
は試料の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成する簡易
な部分薄膜形成装置に関する。
真空蒸着法、スパッタ法などで試料の一部分に薄膜を形
成する場合、薄膜形成が不要な部分をマスクで保護し、
マスクに設けた窓を通して薄膜を試料の所定の部分に被
着する方法が一般的である。
成する場合、薄膜形成が不要な部分をマスクで保護し、
マスクに設けた窓を通して薄膜を試料の所定の部分に被
着する方法が一般的である。
ところで試料の一部分が膜形成不要でその周辺に薄膜を
形成する場合にはマスクが孤立して支持できないためマ
スクを所定の位置に設置することが困難であった。この
ような場合には薄膜を試料全面に形成したのち、部分的
に薄膜を除去する方法が用いられていた。しかし試料の
形状が平面でない場合には部分的に薄膜を除去する場合
のバタン形成が困難であり、この従来方法による薄膜形
成装置は適用できないという問題点があった。
形成する場合にはマスクが孤立して支持できないためマ
スクを所定の位置に設置することが困難であった。この
ような場合には薄膜を試料全面に形成したのち、部分的
に薄膜を除去する方法が用いられていた。しかし試料の
形状が平面でない場合には部分的に薄膜を除去する場合
のバタン形成が困難であり、この従来方法による薄膜形
成装置は適用できないという問題点があった。
本発明の目的は試料の一部分を除いてその周辺に薄膜を
形成する簡易な部分薄膜形成装置を提供することにある
。
形成する簡易な部分薄膜形成装置を提供することにある
。
本発明による部分薄膜形成装置は、試料の一部分を除い
てその周辺に薄膜を形成する場合、該−部分を薄膜の被
着から保護するマスクに強磁性体材料から成るマスクま
たは非磁性体と永久磁石から成る構造体を用い、試料の
裏面に設置した永久磁石または電磁石で前記マスクを所
定の位置に保持することを特徴とする。
てその周辺に薄膜を形成する場合、該−部分を薄膜の被
着から保護するマスクに強磁性体材料から成るマスクま
たは非磁性体と永久磁石から成る構造体を用い、試料の
裏面に設置した永久磁石または電磁石で前記マスクを所
定の位置に保持することを特徴とする。
本発明の構成は下記の通りである。即ち、本発明は試料
の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成する装置におい
て、該試料の一部分を薄膜の被着から保護するマスクに
強磁性体材料から成る構造体または非磁性体と永久磁石
から成る複合構造体から成るマスクを用い、試料の裏面
に設置した永久磁石または電磁石で前記マスクを所定の
位置に保持することを特徴とする部分薄膜形成装置の構
成となっている。
の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成する装置におい
て、該試料の一部分を薄膜の被着から保護するマスクに
強磁性体材料から成る構造体または非磁性体と永久磁石
から成る複合構造体から成るマスクを用い、試料の裏面
に設置した永久磁石または電磁石で前記マスクを所定の
位置に保持することを特徴とする部分薄膜形成装置の構
成となっている。
第１図は本発明による第１の実施例としての部分薄膜形
成装置の概略的構成図である。第１図において、ｌはガ
ラスレンズ、２は強磁性材料から戊るマスク、３は非磁
性体から成るレンズホルダ、４は永久磁石、５は回転軸
、６はモータ、７は蒸着源である。第１図の実施例はガ
ラスモールドレンズの半田付は固定のために外周面にの
みメタライズを施すことを目的に本発明の部分薄膜形成
装置を適用したもので、その動作は以下の通りである。
成装置の概略的構成図である。第１図において、ｌはガ
ラスレンズ、２は強磁性材料から戊るマスク、３は非磁
性体から成るレンズホルダ、４は永久磁石、５は回転軸
、６はモータ、７は蒸着源である。第１図の実施例はガ
ラスモールドレンズの半田付は固定のために外周面にの
みメタライズを施すことを目的に本発明の部分薄膜形成
装置を適用したもので、その動作は以下の通りである。
強磁性材料から成るマスク２はレンズホルダ３に固定さ
れた永久磁石４に吸引され、ガラスレンズ１をレンズホ
ルダ３に押しつけ、マスク２とガラスレンズｌとレンズ
ホルダ３の三者の相対位置が保持される。この状態で回
転軸５によりモータ６の回転を伝達すればガラスレンズ
ｌは回転軸を中心として回転し、ガラスレンズｌの蒸着
源７に対向する側面が順次蒸着されてガラスレンズｌの
外周が全面蒸着される。
れた永久磁石４に吸引され、ガラスレンズ１をレンズホ
ルダ３に押しつけ、マスク２とガラスレンズｌとレンズ
ホルダ３の三者の相対位置が保持される。この状態で回
転軸５によりモータ６の回転を伝達すればガラスレンズ
ｌは回転軸を中心として回転し、ガラスレンズｌの蒸着
源７に対向する側面が順次蒸着されてガラスレンズｌの
外周が全面蒸着される。
本実施例では永久磁石４を用いたが永久磁石の代わりに
電磁石を使用しても同様の効果が得られることは自明で
ある。
電磁石を使用しても同様の効果が得られることは自明で
ある。
第２図は本発明による第２の実施例であって、８はガラ
スレンズ、９はマスクを構成する非磁性体構造部材、ｌ
Ｏは構造部材９に固定された第１の永久磁石、１１は非
磁性体から成るレンズホルダ、１２は第２の永久磁石、
１３は回転軸、１４はモータ、１５は蒸着源である。第
２図の実施例はガラスモールドレンズの半田付は固定の
ために外周面にのみメタライズを施すことを目的に本発
明の方法を適用したもので、その動作は以下の通りであ
る。構造部材９と第１の永久磁石１ｏから成るマスクは
レンズホルダ１１に固定された第２の永久磁石１２に吸
引され、ガラスレンズ８をレンズホルダ１１に押しっけ
、マスクとガラスレンズ８とレンズホルダ１１の三者の
相対位置が保持される。この状態で回転軸１３によりモ
ータＬ４の回転を伝達すればガラスレンズ８は回転軸を
中心として回転し、ガラスレンズ８の蒸着源１５に対向
する側面が順次蒸着されてガラスレンズ８の外周が全面
蒸着される。
スレンズ、９はマスクを構成する非磁性体構造部材、ｌ
Ｏは構造部材９に固定された第１の永久磁石、１１は非
磁性体から成るレンズホルダ、１２は第２の永久磁石、
１３は回転軸、１４はモータ、１５は蒸着源である。第
２図の実施例はガラスモールドレンズの半田付は固定の
ために外周面にのみメタライズを施すことを目的に本発
明の方法を適用したもので、その動作は以下の通りであ
る。構造部材９と第１の永久磁石１ｏから成るマスクは
レンズホルダ１１に固定された第２の永久磁石１２に吸
引され、ガラスレンズ８をレンズホルダ１１に押しっけ
、マスクとガラスレンズ８とレンズホルダ１１の三者の
相対位置が保持される。この状態で回転軸１３によりモ
ータＬ４の回転を伝達すればガラスレンズ８は回転軸を
中心として回転し、ガラスレンズ８の蒸着源１５に対向
する側面が順次蒸着されてガラスレンズ８の外周が全面
蒸着される。
本実施例では永久磁石１２を用いたが永久磁石の代わり
に電磁石を使用しても同様の効果が得られることば自明
である。
に電磁石を使用しても同様の効果が得られることば自明
である。
第１の実施例では永久磁石４が軸方向に磁化されている
場合にマスク２には吸引力と同時に回転力が働き試料の
着脱に注意を要するが、第２の実施例では第１の永久磁
石１０と第２の永久磁石１２をともに軸方向で逆極性に
磁化すれば吸引力のみが働いて回転力は働かないため一
層安定なマスクの保持が実現される利点を有する。
場合にマスク２には吸引力と同時に回転力が働き試料の
着脱に注意を要するが、第２の実施例では第１の永久磁
石１０と第２の永久磁石１２をともに軸方向で逆極性に
磁化すれば吸引力のみが働いて回転力は働かないため一
層安定なマスクの保持が実現される利点を有する。
以上述べた如く、本発明による部分薄膜形成装置の構成
により、試料の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成す
る簡易な装置が提供された。
により、試料の一部分を除いてその周辺に薄膜を形成す
る簡易な装置が提供された。
本発明の装置はガラスレンズの外周面におけるメタライ
ズのみならず他の材料からなる光学部品、或いは半導体
装置、セラミック材料による各種部品においても適用で
き、広範囲な応用分野が期待され、工業的価値の高いも
のである。
ズのみならず他の材料からなる光学部品、或いは半導体
装置、セラミック材料による各種部品においても適用で
き、広範囲な応用分野が期待され、工業的価値の高いも
のである。
本発明による部分薄膜形成装置によればｌ〉マスク２も
しくは複合構造体としてのマスク９．１０を支持する支
柱などがないため、機構が簡単であり、２）マスク２も
しくは複合構造体としてのマスク９．１０を支持する支
柱などがないため、試料を回転しても支柱の陰となる場
所が無く、レンズの外周全面を蒸着することが可能であ
り、３）マスク２或いは９．ｌＯおよびガラスレンズｌ
或いは８が磁気吸引で固定されていて機械的固定機構が
無いためガラスレンズｌ或いは８およびマスク２或いは
９，１０の着脱が容易である、等の効果がある。
しくは複合構造体としてのマスク９．１０を支持する支
柱などがないため、機構が簡単であり、２）マスク２も
しくは複合構造体としてのマスク９．１０を支持する支
柱などがないため、試料を回転しても支柱の陰となる場
所が無く、レンズの外周全面を蒸着することが可能であ
り、３）マスク２或いは９．ｌＯおよびガラスレンズｌ
或いは８が磁気吸引で固定されていて機械的固定機構が
無いためガラスレンズｌ或いは８およびマスク２或いは
９，１０の着脱が容易である、等の効果がある。
第１図は本発明の第１の実施例としての部分薄膜形成装
置の概略的構成図であって、■はガラスレンズ、２は強
磁性材料からなるマスク、３は非磁性体から成るレンズ
ホルダ、４は永久磁石、５は回転軸、６はモータ、７は
蒸着源である。 第２図は本発明の第２の実施例としての部分薄膜形成装
置の概略的構成図であって、８はガラスレンズ、９はマ
スクを構成する非磁性体構造部材、１０は構造部材９に
固定された第１の永久磁石、１１は非磁性体から成るレ
ンズホルダ、１２は第２の永久磁石、１３は回転軸、１
４はモータ、１５は蒸着源である。
置の概略的構成図であって、■はガラスレンズ、２は強
磁性材料からなるマスク、３は非磁性体から成るレンズ
ホルダ、４は永久磁石、５は回転軸、６はモータ、７は
蒸着源である。 第２図は本発明の第２の実施例としての部分薄膜形成装
置の概略的構成図であって、８はガラスレンズ、９はマ
スクを構成する非磁性体構造部材、１０は構造部材９に
固定された第１の永久磁石、１１は非磁性体から成るレ
ンズホルダ、１２は第２の永久磁石、１３は回転軸、１
４はモータ、１５は蒸着源である。
Claims (1)
- 試料の一部を除いてその周辺に薄膜を形成する装置にお
いて、該試料の一部分を薄膜の被着から保護するマスク
に強磁性体材料から成るマスクまたは非磁性体と永久磁
石から成る複合構造体から成るマスクを用い、試料の裏
面に設置した永久磁石または電磁石で前記マスクを所定
の位置に保持することを特徴とする部分薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31958789A JPH03180463A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 部分薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31958789A JPH03180463A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 部分薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03180463A true JPH03180463A (ja) | 1991-08-06 |
Family
ID=18111935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31958789A Pending JPH03180463A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 部分薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03180463A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009249706A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Sumco Corp | 蒸着用マスク、ならびにそれを用いる蒸着パターン作製方法、半導体ウェーハ評価用試料の作製方法、半導体ウェーハの評価方法および半導体ウェーハの製造方法 |
-
1989
- 1989-12-08 JP JP31958789A patent/JPH03180463A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009249706A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Sumco Corp | 蒸着用マスク、ならびにそれを用いる蒸着パターン作製方法、半導体ウェーハ評価用試料の作製方法、半導体ウェーハの評価方法および半導体ウェーハの製造方法 |
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