JPH03181148A - Dicing method - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
二産業上の利用分野〕
本発明はダイシング方法に係り、特に半導体ウェハ等の
脆性材料を切断加工するダイシング方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Second Industrial Fields] The present invention relates to a dicing method, and particularly to a dicing method for cutting brittle materials such as semiconductor wafers.
従来、ンリコンウエハを半導体チップに切断するダイシ
ング装置はダイシングブレードを高速回転させて、ウェ
ハの切断加工を行うが、切断時は、ブレードに切削水を
かげ、且つウェハを洗浄水で洗浄しながら切断作業を実
施する。切削水は切削抵抗を軽減するとともにブレード
の洗浄を行い、切断時の切粉による汚れを除去する。更
に、洗浄水は、ウェハを直接洗浄して、付着した切粉等
の汚れを除去しウェハの清浄度を保つ。Conventionally, dicing equipment that cuts silicon wafers into semiconductor chips rotates the dicing blade at high speed to cut the wafer, but during cutting, the blade is exposed to cutting water and the wafer is washed with cleaning water while cutting. Implement. Cutting water reduces cutting resistance, cleans the blade, and removes dirt caused by chips during cutting. Further, the cleaning water directly cleans the wafer, removes dirt such as attached chips, and maintains the cleanliness of the wafer.
ダイシング加工には大きく分けてアップカット、ダウン
カットの2種類があり、第4図は切断ヘッド移動式の場
合のダウンカットによるダイシング加工を行った場合の
加工軌跡を示した説明図である。第4図において、先ず
、切削水及び洗浄水を供給しながら左から右方向に実線
に示される加工ライン12Aでウェハ10をカットする
。そして、加工ライン12Aの切断終了後、切削水及び
洗浄水を供給しながら、次の加工ライン12Bの切断を
行うべく破線14Aに示すように、ウェハをY方向に所
定量インデックスさせて加工ライン12Bの切断ス名−
ト位置に位置させ、次5)で、ウェハ10を加工ライン
12Bに沿って切断する。このとき、カットフィン12
Bの切断時に供給される切削水によって一つ前に切断し
たカットライン12Aの溝及びその周辺の汚れを同時に
洗浄する。Dicing can be roughly divided into two types: up-cut and down-cut, and FIG. 4 is an explanatory diagram showing the machining trajectory when dicing is performed by down-cut using a movable cutting head. In FIG. 4, first, the wafer 10 is cut along a processing line 12A shown by a solid line from left to right while supplying cutting water and cleaning water. After cutting on the processing line 12A, while supplying cutting water and cleaning water, the wafer is indexed by a predetermined amount in the Y direction as shown by the broken line 14A to perform cutting on the next processing line 12B. Cutting name of -
Then, in step 5), the wafer 10 is cut along the processing line 12B. At this time, cut fin 12
The cutting water supplied when cutting B simultaneously cleans the groove of the previously cut cut line 12A and the dirt around it.
切断はこのような作業を繰りふして行われる。Cutting is performed by repeating such operations.
しかしながら、従来のダイシング方法ではλ最後に切断
を行ったライン上は切断時の一度だけしか洗浄されない
ため、カット溝及びその周辺に付着したパウダー状の切
粉等の汚れを完全に除去することができない欠点がある
。However, in the conventional dicing method, the line where the last cut was made is cleaned only once during cutting, so it is difficult to completely remove dirt such as powder chips that adhere to the cut groove and its surroundings. There is a drawback that it cannot be done.
また、ダイシング加工中、切断溝の幅、チッピング量、
センターずれ等を顕微鏡等で自動的に計測表示するカッ
トラインチエツクでは切断を一時停止し、ウェハの上面
をエアブロ−して乾燥させた後にウェハの観察を行う。Also, during the dicing process, the width of the cutting groove, the amount of chipping,
In the cut line check, which automatically measures and displays center deviation using a microscope or the like, cutting is temporarily stopped, the upper surface of the wafer is dried by air blowing, and then the wafer is observed.
このため、一時停止の直前に切断したライン上は切断時
の一度だけしか洗浄されないこととなり、汚れの除去が
不十分となる。切粉等の汚れが付着した状態でウェハを
乾燥させると、切粉が付着状態で固まり、どの様な洗浄
を行っても除去することは不可能となる。For this reason, the line cut immediately before the temporary stop is cleaned only once at the time of cutting, resulting in insufficient removal of dirt. If a wafer is dried with dirt such as chips attached, the chips will solidify and become impossible to remove no matter how much cleaning is performed.
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、切断
時にウェハのカットライン上及びその周辺に付着する切
粉等の汚れを切断中に確実に除去することのできるダイ
シング方法を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a dicing method that can reliably remove dirt such as chips that adhere to the cut line of a wafer and its surroundings during cutting. With the goal.
本発明は、前記目的を達成するために、切断ヘッドにダ
イシングブレードが回転自在に設けられると共に、切断
ヘッドにノズルが設けられ、ダイシングブレード及びウ
ェハを前記ノズルから噴出された切削水によって洗浄し
ながらウェハをダイシングブレードで所定のカットライ
ンに沿ってチップに切断するダイシングマシンにおいて
、切断終了又は一時停止の直後に、切断終了直前又は一
時停止直前に切断したウェハのライン上を、前記ダイシ
ングブレードが沿うようにウェハ載置台又は該切断ヘッ
ドを移動しながら前記ライン上を切削水によって再度、
洗浄することを特徴としている。In order to achieve the above object, the present invention includes a cutting head rotatably provided with a dicing blade, a nozzle provided in the cutting head, and cleaning the dicing blade and wafer with cutting water jetted from the nozzle. In a dicing machine that cuts a wafer into chips along predetermined cut lines with a dicing blade, immediately after cutting is finished or paused, the dicing blade follows the line of the wafer that was cut just before finishing cutting or just before stopping. While moving the wafer mounting table or the cutting head, the cutting water is again applied to the line.
It is characterized by cleaning.
本発明によれば、所定方向の切断終了時又は切断中の一
時停止時に、切断終了直前又は一時停止直前に切断した
ライン上をダイシングブレードが沿うようにウェハ載置
台又は切断ヘッドを移動させる。そして移動の際に、再
度、切削水によっでライン上の溝及りその周辺に付着し
た切粉等の汚れを洗浄、除去するようにしている。これ
により、切断後のウェハの清浄度を高めることができる
。According to the present invention, at the end of cutting in a predetermined direction or at a pause during cutting, the wafer mounting table or the cutting head is moved so that the dicing blade follows the line cut just before the end of cutting or just before the pause. When moving, the cutting water is again used to wash and remove dirt such as chips adhering to the grooves on the line and their surroundings. Thereby, the cleanliness of the wafer after cutting can be improved.
二実施例:
以下、添付図面に従っで本発明に係るダイシング方法の
好ましい実施例を詳説する。Second Embodiment: Hereinafter, preferred embodiments of the dicing method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
第1図;ま本発明に係るダイシング方法に使用されるダ
イシングマシンの要部であるダイシングブレード周辺を
示した側面図、第2図はダイシングブレード周辺の平面
図である。第1図に示すように、ダイシングブレード2
0が図示しない装置本体に駆動可能に配設され、ブレー
ド20の側方には、切断時に切削水を供給する切削水供
給管11.13が切断ヘッド15内に配管されている。FIG. 1 is a side view showing the periphery of a dicing blade, which is a main part of a dicing machine used in the dicing method according to the present invention, and FIG. 2 is a plan view of the periphery of the dicing blade. As shown in Figure 1, the dicing blade 2
Cutting water supply pipes 11 and 13 for supplying cutting water during cutting are installed in the cutting head 15 on the sides of the blade 20.
ブレード20の下方でダイシング装置の基台にはワーク
テーブル(ウェハ載置台)18が図示しない移動機構に
よってX方向、Y方向及びθ方向に移動自在に配設され
ている。A work table (wafer mounting table) 18 is disposed on the base of the dicing device below the blade 20 and is movable in the X direction, Y direction, and θ direction by a moving mechanism (not shown).
ワークテーブル18上にはウェハ16(脆性材料)が吸
着載置され、切断時、ワークテーブル18をウェハ上の
カットラインに沿って移動することにより、ウェハ16
をチップに切断加工する。A wafer 16 (brittle material) is placed on the work table 18 by suction, and when cutting, the wafer 16 is moved by moving the work table 18 along the cut line on the wafer.
Cut into chips.
切断時には、第2図に示すように切削水供給管11.1
3に設けられた切削水ノズルIIAS 11A・・・
13Aから切削水をダイシングブレード10及びウェハ
16に向かって噴出してブレード10及びウェハ16の
洗浄を行いながら切断を行う。During cutting, the cutting water supply pipe 11.1 is
Cutting water nozzle IIAS 11A installed in 3...
Cutting water is jetted from 13A toward the dicing blade 10 and the wafer 16 to clean the blade 10 and the wafer 16 while cutting.
第3図は本発明に係るダイシング方法の説明図て、ウェ
ハをダウンカットした場合の加工軌跡を示している。第
3図においで、先ず、従来の場合と同様に切削水及び洗
浄水を供給しながら実線に示されるカットライン22A
に沿ってウェハ16をカットする。二のとき、ウェハ1
6はワークテーブル18を介して移動され、第3図のカ
ットライン22 Aに沿ってカットされる。そして、カ
ントライン22A゛の切断終了後、切削水の供給を停止
し、破線24Aに示すようにワークテーブル18をY方
向に所定量割り出し送り〈インデックス)しながら、カ
ットライン22Bのスタート位置に移動し、切削水を切
削水ノズルIIA、11A・・・ 13Aからブレード
20及びウェハ16に供給しブレード20によってカッ
トライン22Bをカットする。更に、カットライン22
Bの切断時にはカットライン22B上の洗浄が行われる
他、カットライン22A上も同時に洗浄され、切断時に
除去しきれなかった汚れの洗浄が行われる。FIG. 3 is an explanatory diagram of the dicing method according to the present invention, and shows a processing locus when a wafer is down-cut. In FIG. 3, first, while supplying cutting water and cleaning water as in the conventional case, the cut line 22A shown by the solid line is cut.
Cut the wafer 16 along. 2, wafer 1
6 is moved through the work table 18 and cut along the cut line 22A in FIG. After cutting the cant line 22A'', the supply of cutting water is stopped, and the work table 18 is indexed by a predetermined amount in the Y direction as shown by the broken line 24A, and moved to the start position of the cut line 22B. Then, cutting water is supplied from the cutting water nozzles IIA, 11A, . . . , 13A to the blade 20 and the wafer 16, and the blade 20 cuts the cut line 22B. Furthermore, cut line 22
When cutting B, in addition to cleaning on the cut line 22B, the top of the cut line 22A is also cleaned at the same time to clean dirt that could not be removed during cutting.
そして、カットラインチエツク等でカットライン22C
で切断を一時停止した際にはウェハの乾燥前に、Y座標
を維持しながらウェハ16をX方向に一往復させる。即
ち、ブレード20をX方向の一時停止直前に切断したカ
ットライン22C上に沿ってウェハ面よりブレード20
を逃がした状態で一往復させi;から切削水を切削水ノ
ズル11A、IIA・・・ 13 Aから供給して、再
度、カットライン22Cの洗浄を行う。この動作はダイ
ンングマンンに予め組み込まれた図示しない制御部によ
って制御される。Then, check cut line 22C etc.
When cutting is temporarily stopped, the wafer 16 is reciprocated once in the X direction while maintaining the Y coordinate before drying the wafer. That is, the blade 20 is cut from the wafer surface along the cut line 22C cut immediately before the blade 20 is temporarily stopped in the X direction.
Cutting water is supplied from the cutting water nozzles 11A, IIA, . . . 13A, and the cutting line 22C is cleaned again. This operation is controlled by a control section (not shown) that is pre-installed in the dingmann.
このように、切断直後のライン上を再度洗浄するように
しているので、切断後の各ラインから確実に汚れを除去
することができ、ウエノ\上の汚れを残らず洗い流すこ
とが可能となる。これにより、加工後のチップの清浄度
を飛躍的に高めることができる。また、噴カットから縦
カットへと、カッティングの方向を変える場合にも、切
断終了直前に切断したラインに沿ってダイシングブレー
ド20又はウェハ16を一往復させるように制御し、再
度、ライン上の洗浄を行えば、各ライン上の汚れを確実
に除去することができる。In this way, since the line immediately after cutting is washed again, dirt can be reliably removed from each line after cutting, and it is possible to wash away all dirt on the wafer. Thereby, the cleanliness of the chip after processing can be dramatically improved. Also, when changing the cutting direction from jet cutting to vertical cutting, the dicing blade 20 or wafer 16 is controlled to reciprocate once along the cut line just before the cutting is finished, and the cleaning on the line is performed again. By doing this, you can reliably remove dirt on each line.
尚、本実施例ではダウンカットを行う場合について説明
したが、勿論アップカプト、アップ・ダウンカットを行
う場合のダイソング加工に適用することも可能である。In this embodiment, the case where down cutting is performed has been described, but of course it is also possible to apply to die song processing where up cutting or up/down cutting is performed.
更に、カットライン同士の間隔が広い場合には、−本の
カットラインを切断する毎に切断済のカットライン上を
切削水を供給しながち一往復させて再度洗、浄を行うよ
うにしてもよ′、)。Furthermore, if the distance between the cut lines is wide, it is recommended that cutting water be supplied over the already cut cut line every time one cut line is cut, and the cut line must be made to reciprocate once to perform washing and cleaning again. Moyo',).
〔発明の効果二
以上説明したように本発明に係るダイシング方法によれ
ば、切断終了時又は切断中の一時停止時に、切断終了直
前又は一時停止直前に切断したライン上に沿ってダイシ
ングブレードを一往復させてライン上を再度、洗浄する
ようにしている。このため、切断時にウェハの各カット
ライン及びその周辺に付着した切粉等の汚れを残らず除
去することがてきる。これにより、不良チップの生産を
未然に防止することができる。[Effects of the Invention As explained above, according to the dicing method of the present invention, at the end of cutting or at a pause during cutting, the dicing blade is moved along the line cut immediately before the end of cutting or immediately before the pause. The line is cleaned again by going back and forth. For this reason, it is possible to remove all dirt such as chips adhering to each cut line of the wafer and its surroundings during cutting. This makes it possible to prevent the production of defective chips.
第1図はブレードとウェハとの位置関係を示した説明図
、第2図はダイシングブレード周辺の平面図、第3図は
本発明に係るダイシング方法の説明図、第4図は従来の
ダウンカットによるダイソング加工を行った場合の加工
軌跡を示した説明図である。
11AS 13A・・・切削水ノズル、 15・・・
切断ヘッド、 16・・・ウェハ 18・・・ワー
クテーブル(ウェハ載置台)、−20・・・ダイシング
ブレード、 22A、22B・・・カットライン。Fig. 1 is an explanatory diagram showing the positional relationship between the blade and the wafer, Fig. 2 is a plan view of the vicinity of the dicing blade, Fig. 3 is an explanatory diagram of the dicing method according to the present invention, and Fig. 4 is a conventional down cut. FIG. 2 is an explanatory diagram showing a machining locus when die song machining is performed. 11AS 13A... Cutting water nozzle, 15...
Cutting head, 16... Wafer 18... Work table (wafer mounting stand), -20... Dicing blade, 22A, 22B... Cut line.
Claims (1)
れると共に、切断ヘッドにノズルが設けられ、ダイシン
グブレード及びウェハを前記ノズルから噴出された切削
水によって洗浄しながらウェハをダイシングブレードで
所定のカットラインに沿ってチップに切断するダイシン
グマシンにおいて、 切断終了又は一時停止の直後に、切断終了直前又は一時
停止直前に切断したウェハのライン上を、前記ダイシン
グブレードが沿うようにウェハ載置台又は該切断ヘッド
を移動しながら前記ライン上を切削水によって再度、洗
浄することを特徴とするダイシング方法。[Scope of Claims] A dicing blade is rotatably provided on the cutting head, and a nozzle is provided on the cutting head, and the wafer is placed in a predetermined position with the dicing blade while cleaning the dicing blade and the wafer with cutting water jetted from the nozzle. In a dicing machine that cuts chips into chips along a cut line, immediately after cutting is finished or paused, the dicing blade is placed on a wafer mounting table or on the line of the wafer that was cut just before finishing cutting or just before stopping. A dicing method characterized by cleaning the line again with cutting water while moving the cutting head.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32120389A JP2680453B2 (en) | 1989-12-11 | 1989-12-11 | Dicing method |
Applications Claiming Priority (1)
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| JPH03181148A true JPH03181148A (en) | 1991-08-07 |
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ID=18129947
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2680453B2 (en) |
Cited By (6)
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- 1989-12-11 JP JP32120389A patent/JP2680453B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2680453B2 (en) | 1997-11-19 |
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