JPH03181519A - ポリエーテル系ブロック共重合体およびその製造方法 - Google Patents
ポリエーテル系ブロック共重合体およびその製造方法Info
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- JPH03181519A JPH03181519A JP32100789A JP32100789A JPH03181519A JP H03181519 A JPH03181519 A JP H03181519A JP 32100789 A JP32100789 A JP 32100789A JP 32100789 A JP32100789 A JP 32100789A JP H03181519 A JPH03181519 A JP H03181519A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は新規なポリエーテル系ブロック共重合体および
その製造方法に関し、さらに詳しくは。
その製造方法に関し、さらに詳しくは。
結晶性を有して充分な耐熱性を示すとともに、耐溶剤性
、機械的強度等に優れ、たとえば電気・電子機器分野、
機械分野等における素材として有用なポリエーテル系ブ
ロゴ・り共重合体と、それを簡単な工程で効率良く得る
ことのできる製造方法とに関する。
、機械的強度等に優れ、たとえば電気・電子機器分野、
機械分野等における素材として有用なポリエーテル系ブ
ロゴ・り共重合体と、それを簡単な工程で効率良く得る
ことのできる製造方法とに関する。
[従来技術および発明が解決しようとする課題]近年、
エンジニアリング樹脂として種々の構造を有するプラス
チックが開発され、たとえば自動車分野、電気・電子分
野、trI密機械分野、OA機器分野、光通信機器分野
などの広い分野において用いられている。
エンジニアリング樹脂として種々の構造を有するプラス
チックが開発され、たとえば自動車分野、電気・電子分
野、trI密機械分野、OA機器分野、光通信機器分野
などの広い分野において用いられている。
しかし、その性能はすべての面で充分に満足し得るには
至っておらず、その上、要求性能が厳しくなってきてい
るので、新しい素材の開発が望まれている。
至っておらず、その上、要求性能が厳しくなってきてい
るので、新しい素材の開発が望まれている。
一方、このエンジニアリング樹脂の1つであるポリエー
テル系共重合体は、特に耐熱性に優れた樹脂であり、こ
の樹脂についても種々の提案がなされている。
テル系共重合体は、特に耐熱性に優れた樹脂であり、こ
の樹脂についても種々の提案がなされている。
たとえば、特開昭47−14270号公報においては、
ジニトロベンゾニトリルとジハロゲノベンゾフェノンと
二価フェノールとをアルカリ金属化合物の存在下に反応
させる芳香族ポリエーテル系共重合体の製造方法が提案
されている。
ジニトロベンゾニトリルとジハロゲノベンゾフェノンと
二価フェノールとをアルカリ金属化合物の存在下に反応
させる芳香族ポリエーテル系共重合体の製造方法が提案
されている。
しかしながら、この方法によると、400℃における溶
融粘度が200ボイズに満たない低い分子量の共重合体
しか得ることができず、得られる共重合体は耐熱性や機
械的強度が充分であるとは言い難い。
融粘度が200ボイズに満たない低い分子量の共重合体
しか得ることができず、得られる共重合体は耐熱性や機
械的強度が充分であるとは言い難い。
また、特開昭60−235835号公報においては、ジ
ハロゲノベンゾニトリルと4,4゛−ジハロゲノベンゾ
フェノンと二価フェノールのアルカリ金属塩とを同時に
反応させることにより、 次式(a): で表わされる繰り返し単位と1次式(b);で表わされ
る繰り返し単位からなり(ただし、上記式中のArは二
価の芳香族基である。)、前記式(a)で表わされる繰
り返し単位の組成比が0.5以上であるポリエーテル系
共重合体を製造する方法が提案されている。
ハロゲノベンゾニトリルと4,4゛−ジハロゲノベンゾ
フェノンと二価フェノールのアルカリ金属塩とを同時に
反応させることにより、 次式(a): で表わされる繰り返し単位と1次式(b);で表わされ
る繰り返し単位からなり(ただし、上記式中のArは二
価の芳香族基である。)、前記式(a)で表わされる繰
り返し単位の組成比が0.5以上であるポリエーテル系
共重合体を製造する方法が提案されている。
しかしながら、このポリエーテル系共重合体は非晶質で
あるので、ガラス転移温度を超える温度領域においては
機械的強度を維持することができず、耐熱性が充分であ
るとは言い難い。
あるので、ガラス転移温度を超える温度領域においては
機械的強度を維持することができず、耐熱性が充分であ
るとは言い難い。
本発明は前記事情を改善するためになされたものである
。
。
本発明の目的は、結晶性を有して極めて優れた耐熱性を
示すとともに、充分に高分子量であって機械的強度等に
優れ、新しい素材として有用な新規なポリエーテル系ブ
ロック共重合体と、このポリエーテル系ブロック共重合
体を効率良く得ることのできる製造方法とを提供するこ
とにある。
示すとともに、充分に高分子量であって機械的強度等に
優れ、新しい素材として有用な新規なポリエーテル系ブ
ロック共重合体と、このポリエーテル系ブロック共重合
体を効率良く得ることのできる製造方法とを提供するこ
とにある。
[課題を解決するための手段ゴ
前記目的を遠戚するための、請求項1の発明は、次式(
I); (I) (ただし1mは10≦m≦100を満たす整数である)
で表わされる繰り返し単位および 次式(■); 4仰う で表わされる繰り返し単位からなり、前記式(I)で表
わされる繰り返し単位のモル組成比[(I)/((r)
+(II))] が0.15〜0.35であるとともに
、温度400℃における溶融粘度が500ボイズ以上で
あることを特徴とするポリエーテル系ブロック共重合体
である。
I); (I) (ただし1mは10≦m≦100を満たす整数である)
で表わされる繰り返し単位および 次式(■); 4仰う で表わされる繰り返し単位からなり、前記式(I)で表
わされる繰り返し単位のモル組成比[(I)/((r)
+(II))] が0.15〜0.35であるとともに
、温度400℃における溶融粘度が500ボイズ以上で
あることを特徴とするポリエーテル系ブロック共重合体
である。
また、請求項2に記載の発明は、ジハロゲノベンゾニト
リルとハイドロキノンとをアルカリ金属化合物の存在下
に中性極性溶媒中で反応させた後、反応系にハイドロキ
ノンと4.4゛−ジハロゲノベンゾフェノンとを順次も
しくは同時に加えて反応させることを特徴とする請求 ポリエーテル系ブロック共重合体の製造方法である。
リルとハイドロキノンとをアルカリ金属化合物の存在下
に中性極性溶媒中で反応させた後、反応系にハイドロキ
ノンと4.4゛−ジハロゲノベンゾフェノンとを順次も
しくは同時に加えて反応させることを特徴とする請求 ポリエーテル系ブロック共重合体の製造方法である。
以下、本発明を詳しく説明する。
一ボリエーテル系ブロック共重合体一
請求項1に記載のポリエーテル系ブロック共重合体にお
いて重要な点は、前記式(I)で表ゎされる繰り返し単
位と前記式(II)で表わされる繰り返し単位とからな
るとともに、前記式(I)で表わされる繰り返し単位の
組成比がモル比[(1)/I(I)+ (II))]
で0.15〜0.35の範囲にあり、しかもmが10<
m < 100を満たすことである。
いて重要な点は、前記式(I)で表ゎされる繰り返し単
位と前記式(II)で表わされる繰り返し単位とからな
るとともに、前記式(I)で表わされる繰り返し単位の
組成比がモル比[(1)/I(I)+ (II))]
で0.15〜0.35の範囲にあり、しかもmが10<
m < 100を満たすことである。
前記式(1)で表わされる繰り返し単位ブロックの組成
比が0.15未満であると、ポリエーテル系ブロック共
重合体のガラス転移温度が低くなって耐熱性が低下した
り、融点が高くなって成形性の低下を招いたりする。一
方、0,35を超えると、ポリエーテル系ブロック共重
合体の結晶性が失われて、耐熱性、耐溶剤性、#薬品性
が低下する。
比が0.15未満であると、ポリエーテル系ブロック共
重合体のガラス転移温度が低くなって耐熱性が低下した
り、融点が高くなって成形性の低下を招いたりする。一
方、0,35を超えると、ポリエーテル系ブロック共重
合体の結晶性が失われて、耐熱性、耐溶剤性、#薬品性
が低下する。
また、mが10未満であると、ブロック効果が生じない
し1mが100を超えると、ホモポリマーが生成される
ので好ましくない。
し1mが100を超えると、ホモポリマーが生成される
ので好ましくない。
さらに、本発明のポリエーテル系ブロック共重合体にお
いては、温度400’Cにおける溶融粘度が500ボイ
ズ以上であることが重要である。
いては、温度400’Cにおける溶融粘度が500ボイ
ズ以上であることが重要である。
この溶融粘度が500ボイズ未満である低分子量のポリ
エーテル系ブロック共重合体では、充分な耐熱性および
機械的強度を維持することができないからである。
エーテル系ブロック共重合体では、充分な耐熱性および
機械的強度を維持することができないからである。
本発明のポリエーテル系ブロック共重合体はまたとえば
結晶融点が330〜400℃程度であって、結晶性を有
するとともに、充分に高分子量であり、充分な#熱性を
示す上に、耐溶剤性、機械的強度に優れ、たとえば電気
・電子機器分野、機械分野等における新たな素材として
好適に用いることができる。
結晶融点が330〜400℃程度であって、結晶性を有
するとともに、充分に高分子量であり、充分な#熱性を
示す上に、耐溶剤性、機械的強度に優れ、たとえば電気
・電子機器分野、機械分野等における新たな素材として
好適に用いることができる。
一ポリエーテル系ブロック共重合体の製造方法−請求項
1に記・戎のポリエーテル系ブロック共重合体は、請求
項2に記載の方法に従って、ジハロゲノベンゾニトリル
とハイドロキノンとをアルカリ金属化合物の存在下に中
性極性溶媒中で反応させた(第1工程)後、この反応系
にハイドロキノント4.4’−ジハロゲノベンゾフェノ
ントヲ順次もしくは同昨に加えて反応させる(第2工程
)ことにより、製造することができる。
1に記・戎のポリエーテル系ブロック共重合体は、請求
項2に記載の方法に従って、ジハロゲノベンゾニトリル
とハイドロキノンとをアルカリ金属化合物の存在下に中
性極性溶媒中で反応させた(第1工程)後、この反応系
にハイドロキノント4.4’−ジハロゲノベンゾフェノ
ントヲ順次もしくは同昨に加えて反応させる(第2工程
)ことにより、製造することができる。
この方法において、使用に供される前記ジハロゲノベン
ゾニトリルの具体例としては たとえ ば1次式; (ただし1式中、 又はハロゲン原子である。) で表わされる2、6 ジハロゲノベンゾニトリルや 次式; (ただし、式中、Xは前記と同じ意味である。)で表わ
される2、4−ジハロゲノベンゾニトリルなどが挙げら
れる。
ゾニトリルの具体例としては たとえ ば1次式; (ただし1式中、 又はハロゲン原子である。) で表わされる2、6 ジハロゲノベンゾニトリルや 次式; (ただし、式中、Xは前記と同じ意味である。)で表わ
される2、4−ジハロゲノベンゾニトリルなどが挙げら
れる。
これらの中でも4好ましいのは2,6−ジクロロベンゾ
ニトリル、2.6−ジフルオロベンゾニトリル、2.4
−ジクロロベンゾニトリル、2.4−ジフルオロベンゾ
ニトリルであり、特に好ましいのは2.6−ジクロロベ
ンゾニトリルである。
ニトリル、2.6−ジフルオロベンゾニトリル、2.4
−ジクロロベンゾニトリル、2.4−ジフルオロベンゾ
ニトリルであり、特に好ましいのは2.6−ジクロロベ
ンゾニトリルである。
本発明の方法においては、第1工程として上記ジハロゲ
ノベンゾニトリルと次式; で表わされるハイドロキノンとをアルカリ金属化合物の
存在下に中性極性溶媒の中で反応させる。
ノベンゾニトリルと次式; で表わされるハイドロキノンとをアルカリ金属化合物の
存在下に中性極性溶媒の中で反応させる。
このアルカリ金属化合物は、前記ハイドロキノンをアル
カリ金属塩にすることのできるものであれば特に制限が
なく、好ましいのはアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属
炭酸水素塩である。
カリ金属塩にすることのできるものであれば特に制限が
なく、好ましいのはアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属
炭酸水素塩である。
このアルカリ金属炭酸塩としては、たとえば炭酸リチウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、
炭酸セシウムなどが挙げられる。
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、
炭酸セシウムなどが挙げられる。
これらの中でも、好ましいのは炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムである。
リウムである。
前記アルカリ金属炭酸水;J塩としては、たとえば炭酸
水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
、炭酸水素ルビジウム、炭酸水素セシウムなどが挙げら
れる。
水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
、炭酸水素ルビジウム、炭酸水素セシウムなどが挙げら
れる。
これらの中でも、好ましいのは炭酸水素ナトリウム、’
rRW水素カリウムである。
rRW水素カリウムである。
本発明の方法においては、上記各種のアルカリ金属化合
物の中でも、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムを特に好適
に使用することができる。
物の中でも、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムを特に好適
に使用することができる。
前記中性極性溶媒としては、たとえばN、N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジエチルホルムアミド、N、N
−ジメチルアセトアミド、N、N−ジエチルアセトアミ
ド、N、N−ジプロピルアセトアミド、 N、N−ジメ
チル安思香酸アミド、N−メチル−2−ピロリドン、N
−エチル−2−ピロリドン、 N−インプロピル−2−
ピロリドン、N−イソブチル−2−ピロリドン、N−n
−プロピル−2−ピロリドン、Nn−ブチル−2−ピロ
リドン、N−シクロヘキシル−2−ピロリドン、N−メ
チル−3−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−3−
メチル−2−ピロリドン、N−メチル−3,4,5−)
リフチル−2−ピロリドン、Nメチル−2−ピペリドン
、N−エチル−2−ピペリドン、N−イソプロピル−2
−ピペリトン、N−メチル−6−メチル−2−ピペリド
ン、N−メチル−3−二チルビペリトン、ジメチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド、1−メチル−1−オ
キンスルホラン、1−エチル−1−オキンスルホラン、
1−フェニル−1オキソスルホラン、N、N・−ジメチ
ルイミダゾリジノン、ジフェニルスルホンなどが挙げら
れる。
ホルムアミド、N、N−ジエチルホルムアミド、N、N
−ジメチルアセトアミド、N、N−ジエチルアセトアミ
ド、N、N−ジプロピルアセトアミド、 N、N−ジメ
チル安思香酸アミド、N−メチル−2−ピロリドン、N
−エチル−2−ピロリドン、 N−インプロピル−2−
ピロリドン、N−イソブチル−2−ピロリドン、N−n
−プロピル−2−ピロリドン、Nn−ブチル−2−ピロ
リドン、N−シクロヘキシル−2−ピロリドン、N−メ
チル−3−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−3−
メチル−2−ピロリドン、N−メチル−3,4,5−)
リフチル−2−ピロリドン、Nメチル−2−ピペリドン
、N−エチル−2−ピペリドン、N−イソプロピル−2
−ピペリトン、N−メチル−6−メチル−2−ピペリド
ン、N−メチル−3−二チルビペリトン、ジメチルスル
ホキシド、ジエチルスルホキシド、1−メチル−1−オ
キンスルホラン、1−エチル−1−オキンスルホラン、
1−フェニル−1オキソスルホラン、N、N・−ジメチ
ルイミダゾリジノン、ジフェニルスルホンなどが挙げら
れる。
前記ジハロゲノベンゾニトリルの使用割合はジハロゲノ
ベンゾニトリルと4,4°−ジハロゲノベンゾフェノン
との合計量に対するモル比で、通常、0.15〜0.3
5.好ましくは0゜2〜0.3の割合である。
ベンゾニトリルと4,4°−ジハロゲノベンゾフェノン
との合計量に対するモル比で、通常、0.15〜0.3
5.好ましくは0゜2〜0.3の割合である。
前記モル比が0.15よりも小さいと、得られる共重合
体のガラス転移温度が低下して耐熱性が十分でなくなる
ほか、融点が高くなって成形性の低下を招くことになり
、前記モル比が0.35よりも大きいと、得られる共重
合体が非晶質のものになり耐熱性のほか耐溶剤性や耐薬
品性の低下を招くことになる。
体のガラス転移温度が低下して耐熱性が十分でなくなる
ほか、融点が高くなって成形性の低下を招くことになり
、前記モル比が0.35よりも大きいと、得られる共重
合体が非晶質のものになり耐熱性のほか耐溶剤性や耐薬
品性の低下を招くことになる。
また、前記ハイドロキノンの使用割合は上記ジハロゲノ
ベンゾニトリルに対するモル比で0.90〜0.99ま
たは1.01〜l、10である。
ベンゾニトリルに対するモル比で0.90〜0.99ま
たは1.01〜l、10である。
本発明においては、このようにノ\イドロキノンの使用
量をジハロゲノベンゾニトリルに対してやや不足気味に
、あるいは過剰気味になるように、モル比を前記範囲内
に調節することにより初めて未発明のブロック共重合体
を製造することができる。
量をジハロゲノベンゾニトリルに対してやや不足気味に
、あるいは過剰気味になるように、モル比を前記範囲内
に調節することにより初めて未発明のブロック共重合体
を製造することができる。
このモル比が0.90未満であったり1.10を超える
ときは、ブロック共重合体を得ることはできないし、モ
ル比が0.99を超えたりl、01未満のときは+ii
j記式(1)の単位からなるホモポリマーを生成するの
で好ましくない。
ときは、ブロック共重合体を得ることはできないし、モ
ル比が0.99を超えたりl、01未満のときは+ii
j記式(1)の単位からなるホモポリマーを生成するの
で好ましくない。
一力、前記アルカリ金属化合物の使用割合は、前記ハイ
ドロキノンの水酸基1個につき1通常1.01〜2.5
0当量、好ましくは1.02〜l、20当量の割合であ
る。
ドロキノンの水酸基1個につき1通常1.01〜2.5
0当量、好ましくは1.02〜l、20当量の割合であ
る。
前記中性極性溶媒の使用量については、特に制限はない
が1通常、前記ジハロゲノヘンゾニトリルと、前記ハイ
ドロキノンと、前記アルカリ金属化合物との合計+oo
z3.部当り、 200〜2,000j%E部の穐囲で
選ばれる。
が1通常、前記ジハロゲノヘンゾニトリルと、前記ハイ
ドロキノンと、前記アルカリ金属化合物との合計+oo
z3.部当り、 200〜2,000j%E部の穐囲で
選ばれる。
第1工程における反応温度は、通常150〜250℃、
好ましくは180〜210℃であり、また反応時間は通
常30分〜3時間、好ましくは40分〜2時間である。
好ましくは180〜210℃であり、また反応時間は通
常30分〜3時間、好ましくは40分〜2時間である。
本発明の製造方法では、第2工程において、前記第1工
程で得られた反応生成物(オリゴマー)ト、ハイドロキ
ノンおよび4,4°−ジハロゲノベンゾフェノンとを反
応させる。
程で得られた反応生成物(オリゴマー)ト、ハイドロキ
ノンおよび4,4°−ジハロゲノベンゾフェノンとを反
応させる。
使用に供される上記4,4゛−ジハロゲノベンゾフェノ
ンは、次式: (ただし、Xは前記と同じ意味である。)で表わされる
化合物であり、本発明の方法において114.4’−ジ
フルオロベンゾフェノン、4.4“−ジクロロベンゾフ
ェノンを特に好適に使用することができる。
ンは、次式: (ただし、Xは前記と同じ意味である。)で表わされる
化合物であり、本発明の方法において114.4’−ジ
フルオロベンゾフェノン、4.4“−ジクロロベンゾフ
ェノンを特に好適に使用することができる。
第2工程において、ハイドロキノンの使用量は前記ジハ
ロゲノベンゾニトリルと4,4゛−ジハロゲノベンンフ
ェノンとの合計量に対する実質1モル51.から前記第
1工程で消費したl\イドロキノンのモル丑を差し引い
た贋である。
ロゲノベンゾニトリルと4,4゛−ジハロゲノベンンフ
ェノンとの合計量に対する実質1モル51.から前記第
1工程で消費したl\イドロキノンのモル丑を差し引い
た贋である。
第2工程においては、ハイドロキノンの方を先に仕込み
、後から4,4゛−ジハロゲノベンゾフェノンを仕込む
か、あるいはハイドロキノンを44°−ジハロゲノベン
ゾフェノンと同時に仕込む。
、後から4,4゛−ジハロゲノベンゾフェノンを仕込む
か、あるいはハイドロキノンを44°−ジハロゲノベン
ゾフェノンと同時に仕込む。
+iil Ptの場合、前記第1工程で得られた反応生
成物とハイドロキノンとの反応温度は、通常150〜3
50℃、好ましくは180〜320℃であり反応時間は
通常30分〜3時間、好ましくは30分〜1時間である
。また後から4.4゛−ジハロゲノベンゾフェノンを仕
込んだときの反応温度も、上記と同じでよいが、反応時
間は通常30分〜5時間、好ましくは30分〜2時間で
ある。
成物とハイドロキノンとの反応温度は、通常150〜3
50℃、好ましくは180〜320℃であり反応時間は
通常30分〜3時間、好ましくは30分〜1時間である
。また後から4.4゛−ジハロゲノベンゾフェノンを仕
込んだときの反応温度も、上記と同じでよいが、反応時
間は通常30分〜5時間、好ましくは30分〜2時間で
ある。
後者の場合、つまりハイドロキノンを4,4°−ジハロ
ゲノベンゾフェノンと同時に仕込む場合、第1工程で得
られた反応生成物との反応温度も上記と同じでよいが、
反応時間は通常10分〜5[1¥間、奸ましくは30分
〜2時間である。
ゲノベンゾフェノンと同時に仕込む場合、第1工程で得
られた反応生成物との反応温度も上記と同じでよいが、
反応時間は通常10分〜5[1¥間、奸ましくは30分
〜2時間である。
いずれの場合も、反応温度が150℃未満では反応ll
!!!度が遅すぎて実用的ではないし、 350 ’C
を超えると、副反応を招くことがある。
!!!度が遅すぎて実用的ではないし、 350 ’C
を超えると、副反応を招くことがある。
第2℃程の反応の終了後、目的のポリエーテル系ブロッ
ク共重合体は中性極性溶媒溶液から、公知の方法に従っ
て分離、請製することにより、↑することかできる。
ク共重合体は中性極性溶媒溶液から、公知の方法に従っ
て分離、請製することにより、↑することかできる。
このようにして、本発明によれば、請求sn 1に記伎
のポリエーテル系ブロック共重合体を簡?nなL程で効
率良く製造することができる。
のポリエーテル系ブロック共重合体を簡?nなL程で効
率良く製造することができる。
[実施例]
以下、実施例と比較例に基いて本発明をさらに具体的に
説明する。
説明する。
(実施例1)
第1王程:
トルエンを満たしたディーンスタルクトラップと攪拌装
置とアルゴンガス吹き込み管とを備えた内容積5文の反
応容器に、ハイドロキノン16.85g (0,153
モル) 、 2.S−ジクロロヘノジニトリル25.8
0 g (0,15モル)、)焚酸カリウム82.9
g(0,6モル)及びN−メチル−2−ピロリドン0.
6文を仕込み、アルゴンガスを吹き込みなからl時間か
けて室温より195℃まで昇温させた。
置とアルゴンガス吹き込み管とを備えた内容積5文の反
応容器に、ハイドロキノン16.85g (0,153
モル) 、 2.S−ジクロロヘノジニトリル25.8
0 g (0,15モル)、)焚酸カリウム82.9
g(0,6モル)及びN−メチル−2−ピロリドン0.
6文を仕込み、アルゴンガスを吹き込みなからl時間か
けて室温より195℃まで昇温させた。
昇温後、少量のトルエンを加えて、生成する水を共沸に
より除去した。その後、195°Cで1時間反応を行な
った。
より除去した。その後、195°Cで1時間反応を行な
った。
ここで得られた生成物(オリゴマー)の分子晴を汚気圧
浸透法(VPO法)で測定したところ、V均分子量は5
800であった。
浸透法(VPO法)で測定したところ、V均分子量は5
800であった。
第2工程:
第1工程で得られた生成物の溶液に、ハイドロキノン3
7.65 g (0,315モル)をN−メチル−2ピ
ロリドン0.7見に溶解した溶液を加え、195℃にお
いて30分間反応させた後、4,4゛−ジフルオロベン
ゾフェノン76.35 g (0,15モル)をN−メ
チル−2−ピロリドン0.71に溶解した溶液を加えて
、195℃において1時間反応させた。
7.65 g (0,315モル)をN−メチル−2ピ
ロリドン0.7見に溶解した溶液を加え、195℃にお
いて30分間反応させた後、4,4゛−ジフルオロベン
ゾフェノン76.35 g (0,15モル)をN−メ
チル−2−ピロリドン0.71に溶解した溶液を加えて
、195℃において1時間反応させた。
なお、この第2工程においても、生成する水はトルエン
を加えて共沸により除犬した。
を加えて共沸により除犬した。
共π合体の回収:
第2工程の反応路T後、生成物をブレングーにより粉砕
し、メタノール、水、メタノールの順に洗浄し、乾燥し
て、共重合体126.5 g (収率96%)を得た。
し、メタノール、水、メタノールの順に洗浄し、乾燥し
て、共重合体126.5 g (収率96%)を得た。
ノを屯合体の同定:
このようにして得られたJ1合体について赤外吸収スペ
クトル分析を行なったところ、222゜ClIn川の位
置にニトリル基による吸収が、 1650cm−1の位
置にカルボニル基による吸収が1240c m Iの位
置にエーテル結合による吸収が確認された。
クトル分析を行なったところ、222゜ClIn川の位
置にニトリル基による吸収が、 1650cm−1の位
置にカルボニル基による吸収が1240c m Iの位
置にエーテル結合による吸収が確認された。
これらの結果、及び元素分析結果ならびに上記VPO法
による分子丑測定の結果より、この共π合体は、下記の
化学構造を有するポリエーテル系ブロック共重合体であ
ると認められた。
による分子丑測定の結果より、この共π合体は、下記の
化学構造を有するポリエーテル系ブロック共重合体であ
ると認められた。
(I)
(n)
モル組成比
[(1) / (CI) + (n) l E =o、
3゜ただし、mは28である。
3゜ただし、mは28である。
物性の測定:
上記ポリエーテル系ブロー2り共重合体につき、400
℃における溶融粘度(ゼロ剪断粘度)と、ガラス転移温
度と、結晶融点と、熱分解開始温度とを測定した。
℃における溶融粘度(ゼロ剪断粘度)と、ガラス転移温
度と、結晶融点と、熱分解開始温度とを測定した。
その結果を第1表に示す。
次に、広角X線による散乱強度に基いて結晶化度を測定
したところ、38%であった。 また、耐溶剤性につい
ては、アセトン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチ
レン、エタノール、トルエン、キシレンのいずれにも不
溶であり、#酸性についても塩酸や硝酸に侵されること
はなかった。 さらにこのポリエーテル系ブロー7り共
重合体から試験片を射出成形し、その引張り強度、弓張
り弾性率、伸びをASTM D−638に準拠して測
定した。
したところ、38%であった。 また、耐溶剤性につい
ては、アセトン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチ
レン、エタノール、トルエン、キシレンのいずれにも不
溶であり、#酸性についても塩酸や硝酸に侵されること
はなかった。 さらにこのポリエーテル系ブロー7り共
重合体から試験片を射出成形し、その引張り強度、弓張
り弾性率、伸びをASTM D−638に準拠して測
定した。
結果を第2表に示す。
(実施例2)
実施例1の第1工程におけるハイドロキノンと2.6−
ジクロロベンゾニトリルとの仕込みモル比を1.03と
し、2.6−ジクロロベンゾニトリルと4.4゛−ジフ
ルオロベンゾフェノンとの仕込みモル比を0.2とした
こと以外は実施例1と同様にして下記化学構造のポリエ
ーテル系ブロック共重合体を製造した。
ジクロロベンゾニトリルとの仕込みモル比を1.03と
し、2.6−ジクロロベンゾニトリルと4.4゛−ジフ
ルオロベンゾフェノンとの仕込みモル比を0.2とした
こと以外は実施例1と同様にして下記化学構造のポリエ
ーテル系ブロック共重合体を製造した。
このポリエーテル系ブロック共重合体の物性を実施例1
と同様にして測定した。
と同様にして測定した。
その結果を第1表と第2表に示す。
なお、このポリエーテル系ブロック共重合体の耐溶剤性
及び耐酸性は、実施例1と同様であった。
及び耐酸性は、実施例1と同様であった。
(I)
(II)
モル組成比
[(I) / (CI) +(II) l ] =0.
30ただし、mは18である。
30ただし、mは18である。
(実施例3)
fjIJl工程:
実施例1の第1工程と同じ。
第2工程:
第1工程で得られたオリゴマーの溶液に、/へイドロ午
ノン37.65 g (0,315モル)と4,4−ジ
フルオロベンゾフェノン76.37 g (0,35モ
ル)とをN−メチル−2−ピロリドン1.4文に溶解し
た溶液を加えて、195℃で1時間反応させた。
ノン37.65 g (0,315モル)と4,4−ジ
フルオロベンゾフェノン76.37 g (0,35モ
ル)とをN−メチル−2−ピロリドン1.4文に溶解し
た溶液を加えて、195℃で1時間反応させた。
なお、生成水は、トルエンを加えて共沸により除去した
。
。
共重合体の回収:
第2工程の反応終了後、生成物をブレンダーで粉砕し、
メタノール、水、メタノールの順に洗浄し、乾燥して、
共重合体129.1 g (収率98%)を得た。
メタノール、水、メタノールの順に洗浄し、乾燥して、
共重合体129.1 g (収率98%)を得た。
共重合体の同定:
上記共重合体の赤外吸収スペクトル分析を行なったとこ
ろ、2.220 c m−1の位置にニトリル基による
吸収が、1,650 c m川の位置にカルボニル基に
よる吸収が、1,240 c m lの位置にエーテル
結合による吸収が確認された。
ろ、2.220 c m−1の位置にニトリル基による
吸収が、1,650 c m川の位置にカルボニル基に
よる吸収が、1,240 c m lの位置にエーテル
結合による吸収が確認された。
これらの結果、及び元素分析の結果ならびにVPO法に
よる分子量測定の結果より、この共重合体は、下記の化
学構造を有するポリエーテル系ブロック共重合体である
と認められた。
よる分子量測定の結果より、この共重合体は、下記の化
学構造を有するポリエーテル系ブロック共重合体である
と認められた。
(I)
(TI )
モル組成化
E (I) / ((:I) + (IT) l ]
=0.30ただし1mは28である。
=0.30ただし1mは28である。
物性の測定:
」二記ポリエーテル系ブロック共毛合体の物性を実施例
1と同様にして測定した。
1と同様にして測定した。
結果を第1表と第2表に示す。
なお、4ユ記ポリ工−テル系ブロツク共重合体の耐溶剤
性及び耐酸性は、実施例1と同様であった。
性及び耐酸性は、実施例1と同様であった。
第
表
第
表
[発明の効果]
(1)請求田1の発明のポリエーテル系ブロック共重合
体は、組成比が特定の範囲にある特定の繰り返し中位と
もに特定の溶融粘度を示すものであるので、充分に高分
子量であり、しかも結晶性を右して充分な耐熱性を示す
、そして機械的強度や耐溶剤性等にも優れている。
体は、組成比が特定の範囲にある特定の繰り返し中位と
もに特定の溶融粘度を示すものであるので、充分に高分
子量であり、しかも結晶性を右して充分な耐熱性を示す
、そして機械的強度や耐溶剤性等にも優れている。
したがって、たとえば電気、電子機器分野、機械分野等
における新規な素材として有用である。
における新規な素材として有用である。
(2)また、請求項2の発明によると、前述の優れた性
質を有する新規なポリエーテル系ブロック共重合体を、
簡単な工程で効率良く得ることができる工業的に有用な
製造方法を提供することができる。
質を有する新規なポリエーテル系ブロック共重合体を、
簡単な工程で効率良く得ることができる工業的に有用な
製造方法を提供することができる。
Claims (2)
- (1)次式( I ); ▲数式、化学式、表等があります▼ ( I ) (ただし、mは10≦m≦100を満たす整数である)
で表わされる繰り返し単位および 次式(II); ▲数式、化学式、表等があります▼ (II) で表わされる繰り返し単位のブロックからなり、前記式
( I )で表わされる繰り返し単位のモル組成比[( I
)/{( I )+(II)}]が0.15〜0.35であ
るとともに、温度400℃における溶融粘度が500ポ
イズ以上であることを特徴とするポリエーテル系ブロッ
ク共重合体。 - (2)ジハロゲノベンゾニトリルとハイドロキノンとを
アルカリ金属化合物の存在下に中性極性溶媒中で反応さ
せた後、反応系にハイドロキノンと4,4’−ジハロゲ
ノベンゾフェノンとを順次もしくは同時に加えて反応さ
せることを特徴とする前記請求項1に記載のポリエーテ
ル系ブロック共重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32100789A JPH03181519A (ja) | 1989-12-11 | 1989-12-11 | ポリエーテル系ブロック共重合体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32100789A JPH03181519A (ja) | 1989-12-11 | 1989-12-11 | ポリエーテル系ブロック共重合体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03181519A true JPH03181519A (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=18127750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32100789A Pending JPH03181519A (ja) | 1989-12-11 | 1989-12-11 | ポリエーテル系ブロック共重合体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03181519A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021117814A1 (ja) * | 2019-12-12 | 2021-06-17 | 出光興産株式会社 | 芳香族ポリエーテル、芳香族ポリエーテル組成物、シート及び芳香族ポリエーテルの製造方法 |
| WO2023188842A1 (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | 東レ株式会社 | ポリエーテルニトリルフィルム、及びポリエーテルニトリルフィルムの製造方法 |
| WO2025170073A1 (ja) * | 2024-02-09 | 2025-08-14 | 出光興産株式会社 | 芳香族ポリエーテル、樹脂組成物、及び複合材料 |
-
1989
- 1989-12-11 JP JP32100789A patent/JPH03181519A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021117814A1 (ja) * | 2019-12-12 | 2021-06-17 | 出光興産株式会社 | 芳香族ポリエーテル、芳香族ポリエーテル組成物、シート及び芳香族ポリエーテルの製造方法 |
| JP2021091831A (ja) * | 2019-12-12 | 2021-06-17 | 出光興産株式会社 | 芳香族ポリエーテル、芳香族ポリエーテル組成物、シート及び芳香族ポリエーテルの製造方法 |
| CN114746476A (zh) * | 2019-12-12 | 2022-07-12 | 出光兴产株式会社 | 芳香族聚醚、芳香族聚醚组合物、片材和芳香族聚醚的制造方法 |
| CN114746476B (zh) * | 2019-12-12 | 2024-06-07 | 出光兴产株式会社 | 芳香族聚醚、芳香族聚醚组合物、片材和芳香族聚醚的制造方法 |
| US12559610B2 (en) | 2019-12-12 | 2026-02-24 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Aromatic polyether, aromatic polyether composition, sheet and method for producing aromatic polyether |
| WO2023188842A1 (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | 東レ株式会社 | ポリエーテルニトリルフィルム、及びポリエーテルニトリルフィルムの製造方法 |
| WO2025170073A1 (ja) * | 2024-02-09 | 2025-08-14 | 出光興産株式会社 | 芳香族ポリエーテル、樹脂組成物、及び複合材料 |
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