JPH03181809A - 外観形状評価装置 - Google Patents
外観形状評価装置Info
- Publication number
- JPH03181809A JPH03181809A JP32189689A JP32189689A JPH03181809A JP H03181809 A JPH03181809 A JP H03181809A JP 32189689 A JP32189689 A JP 32189689A JP 32189689 A JP32189689 A JP 32189689A JP H03181809 A JPH03181809 A JP H03181809A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- patterns
- signal waveforms
- sample
- repeated patterns
- repeated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は微細な繰返しパターンの繰返し回数を自動計数
する技術に関するものである。
する技術に関するものである。
従来の繰返しパターンの計数においては、外観形状評価
装置たとえば電子顕微鏡などで繰返しパターンを目視で
数えられる大きさまで拡大して、ある起点より繰返しパ
ターンの本数を目視で計数していた。
装置たとえば電子顕微鏡などで繰返しパターンを目視で
数えられる大きさまで拡大して、ある起点より繰返しパ
ターンの本数を目視で計数していた。
上述した従来の繰返しパターンの計数においては、繰返
しパターンが多くなるにつれ、作業者の計数間違いをお
こす可能性が高かった。また、計数が正確であるか否か
を確認する方法がなく、正確性に欠けていた。繰返しパ
ターンの線幅より移動距離を計算してサンプルを特定距
離だけ移動させる方法においても、高精度のステージを
必要とし、サンプルに傾斜をかけている際は更に精度が
悪くなり、目標観察点に移動できないという問題があっ
た。
しパターンが多くなるにつれ、作業者の計数間違いをお
こす可能性が高かった。また、計数が正確であるか否か
を確認する方法がなく、正確性に欠けていた。繰返しパ
ターンの線幅より移動距離を計算してサンプルを特定距
離だけ移動させる方法においても、高精度のステージを
必要とし、サンプルに傾斜をかけている際は更に精度が
悪くなり、目標観察点に移動できないという問題があっ
た。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、そ
の目的とするところは、繰返しパターンを認知できると
ともに、繰返しパターンを自動計数できる外観形状評価
装置を得ることにある。
の目的とするところは、繰返しパターンを認知できると
ともに、繰返しパターンを自動計数できる外観形状評価
装置を得ることにある。
このような目的を達成するために本発明による外観形状
評価装置は、繰返しパターンの周期を検出する検出手段
と、繰返し回数を自動計数する計数手段とを設けるよう
にしたものである。
評価装置は、繰返しパターンの周期を検出する検出手段
と、繰返し回数を自動計数する計数手段とを設けるよう
にしたものである。
本発明による外観形状評価装置においては、サンプルの
繰返しパターンからの情報を検出器によって繰返し周期
をもつ信号波形に変換し、比較器によって一定ピーク値
以上の信号波形を計数して繰返しパターンの本数を求め
る。
繰返しパターンからの情報を検出器によって繰返し周期
をもつ信号波形に変換し、比較器によって一定ピーク値
以上の信号波形を計数して繰返しパターンの本数を求め
る。
以下、本発明の実施例を図を用いて説明する。
第１図は本発明による外観形状評価装置の一実施例を示
す構成図であり、像形状観察手段として電子線を用いた
場合を示す。
す構成図であり、像形状観察手段として電子線を用いた
場合を示す。
第１図において、１は電子線のビーム絞り、２は電子ビ
ーム、３は対物レンズ、４はサンプル、５は検出手段と
しての検出器、６は増幅器、７は計数手段としての比較
器、８は画像処理器、９はＣＲＴ、１０はサンプルステ
ージ、１１は二次電子である。
ーム、３は対物レンズ、４はサンプル、５は検出手段と
しての検出器、６は増幅器、７は計数手段としての比較
器、８は画像処理器、９はＣＲＴ、１０はサンプルステ
ージ、１１は二次電子である。
また、第２図（ａ）および（ｂ）は、サンプル観察面の
拡大図および信号波形図である。同図において、１２は
繰返しパターン、１３は検出波形、１４はピーク値であ
る。
拡大図および信号波形図である。同図において、１２は
繰返しパターン、１３は検出波形、１４はピーク値であ
る。
第１図の装置において、電子線を用いる場合、ビーム絞
り１、対物レンズ３を通した電子線２がステージ１０上
にあるサンプル４の表面に照射される。サンプル４の表
面からは二次電子、反射電子、吸収電子、特性Ｘ線、透
過電子などが放出されるが、ここでは二次電子の場合に
ついて言及する。資料表面の繰返しパターンにより放出
された二次電子１１は検出器５を通してパターン形状に
対応した信号波形１３に変換され、増幅器６を通して増
幅される。信号波形中にはパターンエツジに対応してピ
ーク値１４が見られる。比較器７は、ピーク値１４のう
ち特定値以上のピーク値のみ拾って計測し、繰返しパタ
ーンの本数を計数する。
り１、対物レンズ３を通した電子線２がステージ１０上
にあるサンプル４の表面に照射される。サンプル４の表
面からは二次電子、反射電子、吸収電子、特性Ｘ線、透
過電子などが放出されるが、ここでは二次電子の場合に
ついて言及する。資料表面の繰返しパターンにより放出
された二次電子１１は検出器５を通してパターン形状に
対応した信号波形１３に変換され、増幅器６を通して増
幅される。信号波形中にはパターンエツジに対応してピ
ーク値１４が見られる。比較器７は、ピーク値１４のう
ち特定値以上のピーク値のみ拾って計測し、繰返しパタ
ーンの本数を計数する。
また、信号波形は同時に、画像処理器８を通してＣＲＴ
Ｑ上にそのパターン形状を走査される。ステージ１０を
駆動させることにより、繰返しパターンからの信号波形
が順次発せられ、ＣＲＴ９画面上に走査される繰返しパ
ターンの像に対応して、繰返しパターンの計数が同時に
比較器７で行なわれる。この繰返しパターンの計数値を
ＣＲＴ９に表示することで、ＣＲＴ９画面上の繰返しパ
ターンの自動計測が実施される。
Ｑ上にそのパターン形状を走査される。ステージ１０を
駆動させることにより、繰返しパターンからの信号波形
が順次発せられ、ＣＲＴ９画面上に走査される繰返しパ
ターンの像に対応して、繰返しパターンの計数が同時に
比較器７で行なわれる。この繰返しパターンの計数値を
ＣＲＴ９に表示することで、ＣＲＴ９画面上の繰返しパ
ターンの自動計測が実施される。
なお、本実施例においては、外観形状認識方法として電
子線を用いた場合を示したが、サンプル表面からの情報
が得られるプローブであればよく、たとえばレーザ光な
どがあげられる。
子線を用いた場合を示したが、サンプル表面からの情報
が得られるプローブであればよく、たとえばレーザ光な
どがあげられる。
以上説明したように本発明は、サンプルの繰返しパター
ンからの信号波形のうち特定ピーク値以上のものを自動
的に計数するようにしたことにより、走査される繰返し
パターンに対応して繰返しパターンの本数の自動計数を
行なうことができ、目視計数に比べて微細パターンの計
数精度が向上する効果がある。
ンからの信号波形のうち特定ピーク値以上のものを自動
的に計数するようにしたことにより、走査される繰返し
パターンに対応して繰返しパターンの本数の自動計数を
行なうことができ、目視計数に比べて微細パターンの計
数精度が向上する効果がある。
第１図は本発明による外観形状評価装置の一実施例を示
す構成図、第２図（ａ）および（ｂ）はサンプル観察面
の拡大図および信号波形図である。 １・・・ビーム絞り、２・・・電子ビーム、３・・・対
物レンズ、４・・・サンプル、５・・・検出器、６・・
・増幅器、７・・・比較器、８・・・画像処理器、９・
・・ＣＲＴ、１０・・・ステージ、１１・・・二次電子
、１２・・・繰返しパターン、 ３・・・信号波形、 ４・・・ピーク値。 代 理 人 大 岩 増 雄 第１図 １；じ′−４輿ぶり ２；４ζＪこ′・−ムー ３；村拘Ｌ＞尺°°。 ４；ブ〉７°Ｉし。 ５；投法４゜ ６ ； ｔＩ！Ｉ＝ｉａ ！Ｉｔ−。 ７：九俟番 ８；帛４．丸芝器 ９ ： ＣＲＴ １０；ステージ′ １１：二：く電子 第２ 図 ２
す構成図、第２図（ａ）および（ｂ）はサンプル観察面
の拡大図および信号波形図である。 １・・・ビーム絞り、２・・・電子ビーム、３・・・対
物レンズ、４・・・サンプル、５・・・検出器、６・・
・増幅器、７・・・比較器、８・・・画像処理器、９・
・・ＣＲＴ、１０・・・ステージ、１１・・・二次電子
、１２・・・繰返しパターン、 ３・・・信号波形、 ４・・・ピーク値。 代 理 人 大 岩 増 雄 第１図 １；じ′−４輿ぶり ２；４ζＪこ′・−ムー ３；村拘Ｌ＞尺°°。 ４；ブ〉７°Ｉし。 ５；投法４゜ ６ ； ｔＩ！Ｉ＝ｉａ ！Ｉｔ−。 ７：九俟番 ８；帛４．丸芝器 ９ ： ＣＲＴ １０；ステージ′ １１：二：く電子 第２ 図 ２
Claims (1)
- 繰返しパターンの周期を検出する検出手段と、繰返し回
数を自動計数する計数手段とを備えたことを特徴とする
外観形状評価装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32189689A JPH03181809A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | 外観形状評価装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32189689A JPH03181809A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | 外観形状評価装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03181809A true JPH03181809A (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=18137611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32189689A Pending JPH03181809A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | 外観形状評価装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03181809A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006332069A (ja) * | 2001-07-12 | 2006-12-07 | Hitachi Ltd | 試料の凹凸判定方法、及び荷電粒子線装置 |
-
1989
- 1989-12-12 JP JP32189689A patent/JPH03181809A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006332069A (ja) * | 2001-07-12 | 2006-12-07 | Hitachi Ltd | 試料の凹凸判定方法、及び荷電粒子線装置 |
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