JPH03183039A - Optical disc and its manufacturing method - Google Patents

Optical disc and its manufacturing method

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JPH03183039A
JPH03183039A JP1321003A JP32100389A JPH03183039A JP H03183039 A JPH03183039 A JP H03183039A JP 1321003 A JP1321003 A JP 1321003A JP 32100389 A JP32100389 A JP 32100389A JP H03183039 A JPH03183039 A JP H03183039A
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JP
Japan
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substrate
layer
adhesive
optical disc
recording layer
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JP1321003A
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Japanese (ja)
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Masahiro Yatake
正弘 矢竹
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To improve the weatherability of recording layers by extending ceramics layers to the inner side and outer side of reflecting layers and the recording layers. CONSTITUTION:Protective layers 2, 10, the recording layers 3, 11, and the protective layers 4, 12 are successively formed on substrates 1, 9. The reflecting layers 5, 13 are provided in the region on the side outer than center holes 16 on the layers 4, 12 and the side inner than the outside diameter of the substrates 1, 9. The ceramics layers 6, 14 consisting of SiAlNO, etc., are then formed on the side inner than the inside diameter of the reflecting layers 5, 13 and the recording layers 3, 11 and the side outer than the outside diameter thereof. The substrates are thereafter stuck to each other via an adhesive layer 7. Thus, the weatherability of the recording layers is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ディスク及びその製造方法に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to an optical disc and a method for manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の光ディスクの構造は、特開昭63−94140の
様に記録層の側面がセラミック保護膜又は金属反射膜等
によって覆われていない。又、USP4,731,62
0の様に紫外線硬化性樹脂による接着層は記録層が形成
されていない領域に限られる。更に、USP4,731
,620の様に熱硬化性樹脂による接着層は基板の外周
領域では基板と直接接合されている。
In the structure of a conventional optical disk, the side surface of the recording layer is not covered with a ceramic protective film or a metal reflective film, as in Japanese Patent Laid-Open No. 63-94140. Also, USP4,731,62
As in No. 0, the adhesive layer made of ultraviolet curable resin is limited to the area where the recording layer is not formed. Furthermore, USP4,731
, 620, the adhesive layer made of thermosetting resin is directly bonded to the substrate in the outer peripheral area of the substrate.

一方、従来の光ディスクの製造方法は紫外線硬化性又は
熱硬化の何れか一つを用いているに過ぎない。
On the other hand, conventional optical disc manufacturing methods only use either ultraviolet curing or heat curing.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかし、前述の光ディスクの構造は ■ 基板の内周部及び外周部の接着強度が低い■ 記録
層の側面が劣化しやすいという欠点がある。
However, the structure of the optical disk described above has the following disadvantages: (1) Adhesion strength is low at the inner and outer peripheral portions of the substrate; and (2) the side surfaces of the recording layer are susceptible to deterioration.

更に、前述の光ディスクの製造方法は、■ 熱硬化工程
で基板を平置きするため基板に歪みが生じ易い ■ 接着剤の硬化工程等で接着剤が基板の側面にはみ出
す という欠点がある。
Furthermore, the above-mentioned optical disk manufacturing method has the following disadvantages: (1) the substrate is laid flat during the heat curing process, which tends to cause distortion of the board; and (2) the adhesive protrudes onto the sides of the substrate during the adhesive curing process.

そこで、本発明はこのような問題点を解決するもので、
その目的とするところは記録層の耐候性を高めることで
あり、第2の目的は熱硬化工程での基板の縦置を可能に
することであり、第3の目的は熱硬化工程等における接
着剤のはみ出しを防止することにある。
Therefore, the present invention aims to solve these problems.
The purpose of this is to improve the weather resistance of the recording layer, the second purpose is to enable vertical placement of the substrate during the thermosetting process, and the third purpose is to improve the adhesion during the thermosetting process, etc. The purpose is to prevent the agent from spilling out.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明の光ディスクは (1)第1の基板、第2の基板、前記第1の基板と前記
第2の基板とを貼り合わせる接着層とを有する光ディス
クにおいて、 前記基板の上に延在する第1の保護層、該第1の保護層
の上に設けられた記録層、該記録膜の上に延在する第2
の保護層、該第2の保護層の上に延在し巨つ前記基板に
設けられたセンター穴より外側でしかも前記基板の外径
より内側の領域に設けられた前記反射層、及び該反射層
の上に延在し且つ前記反射層及び前記記録層の内径より
小さい径と前記反射層及び前記記録層の外径より大きい
径とに囲まれた領域に延在するセラミック層を有するこ
とを特徴とする。
The optical disc of the present invention includes (1) a first substrate, a second substrate, and an adhesive layer for bonding the first substrate and the second substrate together, the optical disc comprising: a first substrate extending above the substrate; a first protective layer, a recording layer provided on the first protective layer, and a second protective layer extending over the recording film.
a protective layer extending over the second protective layer and provided in a region outside a center hole provided in the substrate and inside an outer diameter of the substrate; a ceramic layer extending over the layer and extending in an area surrounded by a diameter smaller than the inner diameter of the reflective layer and the recording layer and a diameter larger than the outer diameter of the reflective layer and the recording layer; Features.

(2)第1の基板、第2の基板、前記第1の基板と前記
第2の基板とを貼り合わせる接着層とを有する光ディス
クにおいて、 前記接着層が熱硬化性樹脂と紫外線硬化性樹脂とからな
ることを特徴とする特 (3)基板が、該基板の上に延在する第1の保護層、該
第1の保護層の上に設けられた記録層、前記記録膜の上
に延在する第2の保護層、該第2の保護層の上に延在し
月つ前記センター穴より外側でしかも前記基板の外径よ
り内側の領域に設けられた反射層を有することを特徴と
する。
(2) An optical disc having a first substrate, a second substrate, and an adhesive layer for bonding the first substrate and the second substrate, wherein the adhesive layer is made of a thermosetting resin and an ultraviolet curable resin. Particular feature (3) characterized in that the substrate comprises a first protective layer extending on the substrate, a recording layer provided on the first protective layer, and a recording layer extending on the recording film. a reflective layer extending over the second protective layer and provided in a region outside the center hole and inside the outer diameter of the substrate; do.

(4)記録層が希土類−遷移金属合金からなることを特
徴とする。
(4) The recording layer is made of a rare earth-transition metal alloy.

(5)記録層が前記第1の基板又は前記第2の基板の一
方に形成されたことを特徴とする。
(5) A recording layer is formed on one of the first substrate and the second substrate.

又、本発明の光ディスクの製造方法は (6)第1の基板、第2の基板、前記第1の基板と前記
第2の基板とを貼り合わせる接着層とからなり、前記基
板の上に薄膜を形成する工程と前記第1の基板と前記第
2の基板とを貼り合わせる工程とを有する光ディスクの
製造方法において、前記第1の基板又は前記第2の基板
に熱硬化性樹脂及び紫外線硬化性樹脂からなる接着剤を
塗布する工程、前記第1の基板と前記第2の基板とを貼
り合わせる工程、前記貼り合わせた基板に紫外線を照射
する紫外線照射工程、該紫外線照射工程の後に前記貼り
合わせた基板を加熱する工程とを有することを特徴とす
る。
Further, the method for manufacturing an optical disk of the present invention includes (6) a first substrate, a second substrate, and an adhesive layer for bonding the first substrate and the second substrate, and a thin film is formed on the substrate. and bonding the first substrate and the second substrate, wherein the first substrate or the second substrate includes a thermosetting resin and an ultraviolet curable a step of applying an adhesive made of resin, a step of bonding the first substrate and the second substrate, a step of irradiating ultraviolet rays to the bonded substrates, and a step of bonding after the step of irradiating ultraviolet rays. The method is characterized by comprising a step of heating the substrate.

(7)基板の上に薄膜を形成する工程が、前記基板の上
に延在する第1の保護層を形成する工程、前記第1の保
護層の上に記録層を形成する工程、該記録膜の上に延在
する第2の保護層を形成する工程、前記第2の保護層の
上に延在し且つ前記基板に設けられたセンター穴より外
側でしかも前記基板の外径より内側の領域に反射層を形
成する工程、前記反射層の上に延在し且つ前記反射層及
び前記記録層の内径より内側でしかも前記反射層及び前
記記録層の外径より外側の領域に延在するセラミック層
を形成する工程とを有することを特徴とする。
(7) The step of forming a thin film on a substrate includes a step of forming a first protective layer extending on the substrate, a step of forming a recording layer on the first protective layer, and a step of forming a recording layer on the first protective layer. forming a second protective layer extending over the film; forming a second protective layer extending over the second protective layer outside a center hole provided in the substrate and inside an outer diameter of the substrate; forming a reflective layer in a region extending above the reflective layer and inside the inner diameter of the reflective layer and the recording layer and outside the outer diameter of the reflective layer and the recording layer; The method is characterized by comprising a step of forming a ceramic layer.

(8)記録層が希土類−遷移金属合金からなることを特
徴とする。
(8) The recording layer is made of a rare earth-transition metal alloy.

(9)記録層が前記第1−の基板又は前記第2の基板の
一方に形成されたことを特徴とする。
(9) A recording layer is formed on one of the first substrate and the second substrate.

〔実 施 例〕〔Example〕

〔実施例1〕 以下本発明について図面に基づいて詳細に説明する。 [Example 1] The present invention will be explained in detail below based on the drawings.

第1図は本発明になる光ディスクの概略図である。1お
よび9はポリカーボネートの基板、2および10はSi
AgNの第1の保護層、3および11はNdDyFeC
oの記録層、4および12は5iAj7Nの第2の保護
層、5および13はAg層、6および14はSiA、Q
層O層、7は接着層、8および15はハードコート層、
16はセンター穴である。
FIG. 1 is a schematic diagram of an optical disc according to the present invention. 1 and 9 are polycarbonate substrates, 2 and 10 are Si
First protective layer of AgN, 3 and 11 are NdDyFeC
o recording layer, 4 and 12 are 5iAj7N second protective layers, 5 and 13 are Ag layers, 6 and 14 are SiA, Q
Layer O layer, 7 is an adhesive layer, 8 and 15 are hard coat layers,
16 is a center hole.

1−および9のポリカーボネートの基板は射出圧縮成形
によって形成した。1や9のポリカーボネートの基板の
内外周部に記録層及び反射層がまわらないようにマスク
治具を取り付けて、SiAgNo層、NdDyFeCo
層、5tAj7N層、Ag層の順に連続成膜した。2お
よび10の5iAINの第1の保護層は5iAJ7の焼
結ターゲットを用いて、窒素とアルゴンの混合ガスを用
いることによるRF反応マグネトロンスパッタ法によっ
て成膜したものである。3および11のNdDyFeC
oの記録層はNdDyFeCoの合金ターゲットを用い
たDCマグネトロンスパッタ法によって成膜したもので
ある。4及び12の5iApNの第2の保護層は2およ
び10のSiAgNの第1の保護層と同様に、窒素とア
ルゴンの混合ガスを導入することによるRF反応マグネ
トロンスパッタ法によって成膜したものである。5およ
び13のA、Q層はANのターゲットを用いてアルゴン
ガスを導入することによるDCマグネトロンスパッタ法
によって成膜したものである。6および14SiAIN
の層はSiAgの合金ターゲットを用いて窒素と酸素と
アルゴンの混合ガスを用いることによるRF反応マグネ
トロンスパッタ法によって成膜したものである。5や1
3のAg層を成膜した後、真空系を一旦リークして、デ
ィスクの内外周を覆っていたマスク治具を取り外して成
膜した。7の接着層は大日本インキ化学工業のエピクロ
ンS−129と油化シェルエポキシのエビキュアーIB
MI−12と1,6−ヘキサンジオ−ルジアクリレート
とt−ブチルパーオキシイソブチレートとチバガイギー
社製のイルガキュアー907の混合物を、記録層が成膜
された側にリング状に塗布した。その後真空系内で別の
基板と合わせて、その貼り合わせた基板をホットプレー
ト上に乗せて加熱して接着剤を広げた。接着剤が均一に
広げられた後、メタル/ヘライドランプで紫外線を照射
して、記録層が成膜されていない部分の紫外線硬化接着
剤を硬化させて、それから50℃で3時間60℃で8時
間加熱して接着層を硬化させた。8および15のl\−
ドコート層はトリメチロールプロパントリアクリレート
と1.6−ヘキサンジオールジアクリレートとチバガイ
ギー社製のイルガキュアー907の混合物を基板表面に
スピンコードした後、高圧水銀灯により紫外線を照射し
て硬化させたものである。
Polycarbonate substrates 1- and 9 were formed by injection compression molding. A mask jig was attached to the inner and outer peripheries of the polycarbonate substrates Nos. 1 and 9 to prevent the recording layer and reflective layer from turning, and the SiAgNo layer, NdDyFeCo
A layer, a 5tAj7N layer, and an Ag layer were successively formed in this order. The first protective layer of 5iAIN in Nos. 2 and 10 was formed by RF reaction magnetron sputtering using a mixed gas of nitrogen and argon using a sintered target of 5iAJ7. 3 and 11 NdDyFeC
The recording layer o was formed by DC magnetron sputtering using a NdDyFeCo alloy target. Similar to the first protective layer of SiAgN in Nos. 2 and 10, the second protective layer of 5iApN in Nos. 4 and 12 was formed by the RF reaction magnetron sputtering method by introducing a mixed gas of nitrogen and argon. . The A and Q layers of Nos. 5 and 13 were formed by DC magnetron sputtering using an AN target and introducing argon gas. 6 and 14SiAIN
The layer was formed by RF reaction magnetron sputtering using a mixed gas of nitrogen, oxygen, and argon using a SiAg alloy target. 5 or 1
After forming the Ag layer No. 3, the vacuum system was once leaked, and the mask jig covering the inner and outer peripheries of the disk was removed, and the film was formed. The adhesive layer for No. 7 is Epicron S-129 from Dainippon Ink and Chemicals and Ebicure IB from Yuka Shell Epoxy.
A mixture of MI-12, 1,6-hexane diol diacrylate, t-butylperoxyisobutyrate, and Irgacure 907 manufactured by Ciba Geigy was applied in a ring shape to the side on which the recording layer was formed. After that, it was combined with another substrate in a vacuum system, and the bonded substrate was placed on a hot plate and heated to spread the adhesive. After the adhesive was evenly spread, UV rays were irradiated with a metal/helide lamp to cure the UV curable adhesive in the areas where the recording layer was not formed, and then heated at 50°C for 3 hours and 60°C for 8 hours. The adhesive layer was cured by heating. 8 and 15 l\-
The coat layer is made by spin-coating a mixture of trimethylolpropane triacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, and Irgacure 907 manufactured by Ciba Geigy on the substrate surface, and then curing it by irradiating ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp. .

次に、本発明になる光ディスクの貼り合わせ方法を従来
の方法を用いて作成した光ディスクを耐候性試験したと
きの性状を表1に示す。
Next, Table 1 shows the properties of optical discs produced using the conventional method for bonding optical discs according to the present invention when subjected to a weather resistance test.

表 比較例のエポキシ系の接着剤を用いて貼り合わせたもの
では、第1図の構造で反射層の上のセラミックス層がな
く、後はすべて同一の構造及び製造方法を用いて作成し
たものである。比較例のロールコートはホットメルト型
の接着剤をロールコート法によって塗布して貼り合わせ
たものである。
The comparative example in the table, which was bonded using an epoxy adhesive, had the structure shown in Figure 1 without the ceramic layer above the reflective layer, and everything else was created using the same structure and manufacturing method. be. The roll coat of the comparative example is one in which a hot melt adhesive is applied and bonded together by a roll coat method.

表1の結果をみると明らかなように、本発明になる光デ
ィスク及びその製造方法によれば高温高湿下に長時間放
置しても変化がない長期信頼性のある光ディスクになる
ことがわかる。
As is clear from the results in Table 1, it can be seen that the optical disc and the method for manufacturing the same according to the present invention result in an optical disc with long-term reliability that does not change even when left under high temperature and high humidity for a long time.

本発明はこれらの実施例の他に次の実施例でも同様な効
果をすることができる。
In addition to these embodiments, the present invention can achieve similar effects in the following embodiments.

例えば実施例1ではAIの反射層の上のセラミックス層
は5iAfINO層を例にとっているが、これらはS 
1A1t BNO,S i/l PNOSS fPO等
のオキシナイトライド、SiN、AρN18N、StA
ρNSS iAgPNSS i/l BN等の窒化物の
他にA i) Os S 10− M g Oz B 
eO等の酸化物、その他フッ化物、カーバイト硅化物等
透明、不透明にかかわらずほとんど全てのセラミックス
を用いることができる。
For example, in Example 1, the ceramic layer on the AI reflective layer is a 5iAfINO layer, but these are S
Oxynitride such as 1A1t BNO, S i/l PNOSS fPO, SiN, AρN18N, StA
ρNSS iAgPNSS i/l In addition to nitrides such as BN, A i) Os S 10- M g Oz B
Almost all ceramics, whether transparent or opaque, such as oxides such as eO, other fluorides, and carbide silicides, can be used.

また、実施例1では、基板に第1の保護層、記録層、第
2の保護層、反射層の順に、その基板の外周部と内周部
に前記記録層が成膜されないようにした例について述べ
たが、記録層を保護層で挟んだ構造にした後、すなわち
反射層のない構造の上にセラミックス層を形成する構造
でも構わない。
In addition, in Example 1, the first protective layer, the recording layer, the second protective layer, and the reflective layer are formed on the substrate in this order, and the recording layer is not formed on the outer circumference and inner circumference of the substrate. However, a structure in which a ceramic layer is formed on a structure in which a recording layer is sandwiched between protective layers, that is, a structure without a reflective layer may also be used.

又、第1及び第2の保護層が、記録層及び反射層より大
きく、例えば基板表面を全て覆っていても良い。
Further, the first and second protective layers may be larger than the recording layer and the reflective layer, and may cover the entire surface of the substrate, for example.

基板材料としてポリカーボネイト樹脂以外に、アクリル
樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹
脂及びそれらの重合樹脂でも良い。
In addition to polycarbonate resin, the substrate material may be acrylic resin, styrene resin, polyester resin, polyimide resin, or polymer resin thereof.

〔実施例2〕 光ディスクの構造を第1図に示す。[Example 2] The structure of an optical disc is shown in FIG.

接着層に用いたエポキシは主剤として大日本インキ化学
工業のエビクロンS−129を用いて、硬化剤は油化シ
ェルエポキシ(株)のBMI−12を用いた。主剤と硬
化剤の配合比は重量で20:1とした。光硬化性樹脂は
重量比でトリメチロールプロパントリアクリレート20
と1.6−ヘキサンジオールジアクリレート10の混合
物にチバガイギー社のイルガキュアー907を1、日本
化薬のKAYARAD  DETXを0,3、ジクミル
パーオキシドを1添加したものを用いた。エポキシ樹脂
と光硬化性樹脂の配合割合は重量比でエポキシ樹脂70
に対して光硬化性樹脂30である。
For the epoxy used in the adhesive layer, Evicron S-129 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals was used as the main agent, and BMI-12 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. was used as the curing agent. The blending ratio of the main agent and curing agent was 20:1 by weight. The photocurable resin has a weight ratio of 20% trimethylolpropane triacrylate.
and 1,6-hexanediol diacrylate to which 1 portion of Irgacure 907 from Ciba Geigy, 0.3 portions of KAYARAD DETX from Nippon Kayaku, and 1 portion of dicumyl peroxide were added. The blending ratio of epoxy resin and photocurable resin is epoxy resin 70% by weight.
In contrast, the photocurable resin 30 is used.

次に表2に、第1図に示す構成の光学的情報記録媒体に
おいて、接着剤を種々変更して貼り合わせたときの80
℃90%RH下で3000時間耐候性試験後のピットエ
ラーレートを耐候性試験前のピットエラーレートで規格
化した値及びその時の性状を示す。
Next, Table 2 shows the results of 80% when the optical information recording medium having the structure shown in FIG.
The values obtained by normalizing the pit error rate after a 3000-hour weathering test at 90% RH with the pit error rate before the weathering test and the properties at that time are shown.

光ディスクの製造方法を以下に示す。射出圧縮成型によ
り1.6μピツチでスパイラル状のトラッキング用の溝
を形成したポリカーボネートの基板の溝を形成した側に
5LAj7の焼結ターゲットを用いたRF反応マグネト
ロンスパッタ法により800人成膜した後、NdDyF
eCoの合金ターゲットを用いたDCマグネトロンスパ
ッタ法により900A成膜して、さらにその上に5iA
Iの合金ターゲットを用いたRF反応マグネトロンスパ
ッタ法により800人成膜したものを2枚用いて接着剤
を種々変更して貼り合わせた。貼り合わせ方法は、ロー
ルコート法以外は基板の記録層部が形成され、ている側
に接着剤をドーナツ状に塗布した後、真空系内において
脱泡して真空系内で別の基板と貼り合わせて、上下の基
板の中心(センター)穴が合うようにして、超高圧水銀
灯を用いて80mW/(7)のパワーで15秒間照射し
紫外線接着剤を硬化させたあと、60℃で5時間加熱し
て熱硬化性接着剤を仮硬化させて、100℃で2時間加
熱して硬化させた。
The method for manufacturing the optical disc is shown below. After forming a film by 800 people by RF reaction magnetron sputtering using a 5LAj7 sintered target on the grooved side of a polycarbonate substrate on which spiral tracking grooves were formed at a pitch of 1.6μ by injection compression molding, NdDyF
A 900A film was formed by DC magnetron sputtering using an eCo alloy target, and then a 5iA film was deposited on top of it.
Two films were formed by 800 people using an RF reaction magnetron sputtering method using an alloy target of I, and were bonded together using various adhesives. The bonding method, other than the roll coating method, is to apply an adhesive in a donut shape to the side where the recording layer part of the substrate is formed, then degas it in a vacuum system, and then bond it to another substrate in a vacuum system. At the same time, align the center holes of the upper and lower substrates, and use an ultra-high pressure mercury lamp to irradiate the adhesive with a power of 80 mW/(7) for 15 seconds to cure the ultraviolet adhesive, and then heat it at 60°C for 5 hours. The thermosetting adhesive was temporarily cured by heating and then cured by heating at 100° C. for 2 hours.

エピクロン S−129 エピクロン 830 エピクロン 830−S エピクロン 855 エピクロン 520 エピコート 807 エピコート 802 エピコート 815 エビキュア IBMI−1,2 エビキュア BMI−12 エビキュア EMT−24 KAYARAD IIDDA KAYARAD TMPTA KAYARAD DPIIA KAYARAD DPCA−6O NKエステル ・TMPT NKエステル HD イルガキュア 651 大日本インキ化学工業 油化シェルエポキシ 日本化薬 新中村化学工業 チバガイギ− イルガキュア 907    チバガイギーグロキュア
 11(6メルク KAYACURE BIBE       日本化薬K
AYACURE DETX         〃表2か
ら分かるように、本発明の光ディスクは80℃90%R
Hという条件下でもピットエラーレートが変化しないの
で長期信頼性があることがわかる。
Epicuron S-129 Epicuron 830 Epicuron 830-S Epicuron 855 Epicuron 520 Epicort 807 Epicort 802 Epicort 815 Evicure IBMI-1, 2 Evicure BMI-12 Evicure EMT-24 KAYARAD IIDDA KAYARAD TMPT A KAYARAD DPIIA KAYARAD DPCA-6O NK ester ・TMPT NK ester HD Irgacure 651 Dainippon Ink Chemicals Yuka Shell Epoxy Nippon Kayaku Shin Nakamura Chemical Ciba Geigy Irgacure 907 Ciba Geigy Grocure 11 (6 Merck KAYACURE BIBE Nippon Kayaku K
AYACURE DETX As can be seen from Table 2, the optical disc of the present invention is heated at 80°C and 90% R.
Since the pit error rate does not change even under the condition of H, it can be seen that there is long-term reliability.

尚、本発明は実施例2に限定されるものではなく、例え
ば記録層としてNdDyFeCo層を用いたが、NdD
yTbFeCo層、GdTbFeCo層、TbFeCo
層等の光磁気記録層の他にTe−TeOx層、In−A
g層等の光層変化型の記録層を用いても何等問題はない
。また保護層も5iADN層の他にSiN層、Si0層
、AJ7N層等を用いてもよい。さらに本実施例では両
面型の光記録媒体を例にとっているが、例えば記録層を
成膜した基板と記録層のない基板とを貼り合わせるよう
な片面型の光記録媒体であってもよい。
Note that the present invention is not limited to Example 2; for example, an NdDyFeCo layer was used as the recording layer;
yTbFeCo layer, GdTbFeCo layer, TbFeCo
In addition to the magneto-optical recording layer such as Te-TeOx layer, In-A
There is no problem in using a recording layer of an optical layer change type such as a g layer. Further, as for the protective layer, in addition to the 5iADN layer, a SiN layer, a Si0 layer, an AJ7N layer, etc. may be used. Further, in this embodiment, a double-sided optical recording medium is taken as an example, but a single-sided optical recording medium may be used, for example, in which a substrate on which a recording layer is formed and a substrate without a recording layer are bonded together.

本発明においては接着剤は主に主剤と硬化剤のみの組合
せであったが、硬化物の物性があまり変化しない程度に
反応性希釈剤、硬化促進剤、充填剤、シランカップリン
グ剤、レベリング剤、安定剤などの添加剤を添加しても
よい。
In the present invention, the adhesive is mainly a combination of only a base agent and a curing agent, but reactive diluents, curing accelerators, fillers, silane coupling agents, and leveling agents are used to the extent that the physical properties of the cured product do not change much. , stabilizers and other additives may be added.

接着剤を加熱硬化させる時、基板の置き方によっては基
板に歪が入る。基板の平置きの場合著しく歪が生じるが
、縦置きでは歪はほとんど生じない。
When the adhesive is heated and cured, the substrate may become distorted depending on how it is placed. When the board is placed horizontally, significant distortion occurs, but when it is placed vertically, almost no distortion occurs.

また接着剤は、基板の外周部と内周部を紫外線で硬化さ
れているので、加熱硬化工程で接着剤がはみだすことは
ない。
Furthermore, since the adhesive is cured with ultraviolet rays on the outer and inner circumferences of the substrate, the adhesive will not ooze out during the heat curing process.

エポキシ樹脂の主剤はビスフェノールF系やビスフェノ
ールA系に少量の反応性希釈剤を加えたもののように常
温において粘度が5000cps以下のものを用いた方
が作業性がよく、貼り合わせやすいし脱泡も容易である
。泡を多く含んだままで貼り合わせると、接着剤の硬化
に伴う応力により信号に悪影響を及ぼしたり、信頼性の
低下をきたす。また、エポキシの硬化剤はイミダゾール
系やメンタンジアミンのような環状脂肪族アミン系を用
いた方が硬化物の耐熱性や接着剤のポットライフの点か
ら好ましい。この添加量は主剤に対して1%から10%
が適当である。1%以下では接着剤の硬化に時間がかか
ったり、接着剤の硬化が不完全となりやすい。10%以
上では接着剤のポットライフが短くなり機械を用いた塗
布が難しくなったり、硬化物の耐熱性が低下したりする
It is easier to work with epoxy resins that have a viscosity of 5,000 cps or less at room temperature, such as bisphenol F or bisphenol A with a small amount of reactive diluent added, making it easier to bond and defoaming. It's easy. If the adhesive is laminated with a large amount of bubbles, the stress caused by the curing of the adhesive will adversely affect the signal and reduce reliability. Further, it is preferable to use an imidazole-based or cycloaliphatic amine-based epoxy curing agent such as menthanediamine from the viewpoint of heat resistance of the cured product and pot life of the adhesive. The amount added is 1% to 10% based on the base agent.
is appropriate. If it is less than 1%, it may take a long time to cure the adhesive, or the adhesive may be incompletely cured. If it exceeds 10%, the pot life of the adhesive becomes short, making it difficult to apply using a machine, and the heat resistance of the cured product decreases.

この添加量と主剤の成分により硬化物の特性が維持でき
て、ポットライフが5時間以上になるように調節すると
よい。硬化剤は常温で液体のものが主剤との混合が容易
になるため、常温で固形物のものは常温で液体のものと
混合したりして用いるとよい。
It is preferable to adjust the amount of addition and the components of the main agent so that the properties of the cured product can be maintained and the pot life is 5 hours or more. A curing agent that is liquid at room temperature is easier to mix with the main agent, so it is preferable to mix a curing agent that is solid at room temperature with a curing agent that is liquid at room temperature.

また、本発明で用いる光硬化性樹脂としては反応性が高
く、常温での粘度が低い方がよいので、光硬化性樹脂の
主成分はアクリレートモノマーやオリゴマーがよく、そ
の例としてはヘキサンジオールジアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、ブタンジオールジア
クリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(テトラ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールへキサアクリレートなどから選ばれた1種もし
くは2種以上の混合物を用いるとよい。硬化剤は300
nmより長い波長の吸収をもつものを用いる必要があり
、その例としてはメルク社のダロキュア−1116,2
273やチバガイギー社のイルガキュアー651.90
7やベンゾインイソプロピルエーテルやベンゾインイソ
ブチルエーテルなどを用いるとよい。また、光の当たら
ないところも硬化させる必要な両面媒体の場合はジクミ
ルパーオキシドやベンゾイルパーオキシドのような過酸
化物を添加して光硬化性に熱硬化性を付与してもよい。
In addition, the photocurable resin used in the present invention should have high reactivity and low viscosity at room temperature, so the main component of the photocurable resin is preferably an acrylate monomer or oligomer, such as hexanediol diol. One type or a mixture of two or more types selected from acrylate, neopentyl glycol diacrylate, butanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tri(tetra)acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc. It is recommended to use Hardening agent is 300
It is necessary to use a material that has absorption at wavelengths longer than nm, and an example of this is Merck's Darocure-1116,2.
273 and Ciba Geigy's Irgacure 651.90
7, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, or the like. Further, in the case of a double-sided medium that requires curing even in areas not exposed to light, a peroxide such as dicumyl peroxide or benzoyl peroxide may be added to impart thermosetting properties to the photocurable properties.

さらに、少量の増感剤、例えばジエチルチオキサント、
アントラセン、イソプロビルチオキザントンなどを加え
るのもよい。
Additionally, small amounts of sensitizers, such as diethylthioxant,
It is also good to add anthracene, isoprobylthioxanthone, etc.

〔実施例3〕 光ディスクの構造として第1図に示す構造を用いた。[Example 3] The structure shown in FIG. 1 was used as the structure of the optical disc.

ハードコート層はジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート30%、16−ヘキサンジオールジアクリレート
30%、ウレタンアクリレート35%、ベンジルジメチ
ルケタール3%、γ−グリシドキシプロビルトリメトキ
シシラン2%、ジアルキルスルホ琥珀酸ナトリウム11
00ppの混合物をスピンコード法によって基板の片面
に塗布した後、高圧水銀灯により光を照射して硬化させ
たものである。
The hard coat layer contains 30% dipentaerythritol hexaacrylate, 30% 16-hexanediol diacrylate, 35% urethane acrylate, 3% benzyl dimethyl ketal, 2% γ-glycidoxypropyl trimethoxysilane, and sodium dialkyl sulfosuccinate. 11
After applying a 00 pp mixture onto one side of a substrate by a spin code method, it was cured by irradiating light with a high-pressure mercury lamp.

次に、接着剤について説明する。()は配合時の重量部
を示す。エポキシ環と(メタ)アクリロイル基を有する
化合物は、ビスフェノールFの一方にアクリロイル基も
う一方にエポキシ環があるものと、ビスフェノールFの
両側にエポキシ環を有するものの混合物(30)を用い
た。エポキシの重合開始剤として、2−エチル−4−メ
チルイミダゾール(2)を用いた。
Next, the adhesive will be explained. () indicates parts by weight at the time of blending. As the compound having an epoxy ring and a (meth)acryloyl group, a mixture (30) of bisphenol F having an acryloyl group on one side and an epoxy ring on the other side, and bisphenol F having an epoxy ring on both sides was used. 2-ethyl-4-methylimidazole (2) was used as an epoxy polymerization initiator.

光重合開始剤として、チバガイギー社のイルガキュアー
907 (1)を用いた。有機過酸化物としてt−ブチ
ルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(1)を用い
た。その他シランカップリング剤としてγ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン(1)を用いた。貼り合
わせは以下のようにして行なった。接着剤を光ディスク
の記録層が成膜されている側にリング状に塗布した後、
別の光ディスクと真空系内で貼り合わせて、取り出して
遠赤外線ランプでディスクを加熱して接着剤を広げて、
紫外線を照射してディスクを仮止めして、60℃で5時
間加熱して光が透過しない部分の接着剤を硬化させた。
Irgacure 907 (1) manufactured by Ciba Geigy was used as a photopolymerization initiator. T-butylperoxy-2-ethylhexanoate (1) was used as the organic peroxide. In addition, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (1) was used as a silane coupling agent. The bonding was carried out as follows. After applying adhesive in a ring shape to the side of the optical disc where the recording layer is formed,
Paste it with another optical disc in a vacuum system, take it out, heat the disc with a far-infrared lamp, and spread the adhesive.
The disks were temporarily fixed by irradiating them with ultraviolet rays, and heated at 60° C. for 5 hours to harden the adhesive in the areas where light did not pass through.

次に、第1図に示す構造の光ディスクを接着剤を変えて
貼り合わせたときの70℃90%RHでの耐候性試験結
果を表1に示す。表1の結果を見ると明らかなように本
発明になる接着剤を用いて貼り合わせた光ディスクは耐
候性に優れ、長期信頼性があることがわかる。
Next, Table 1 shows the results of a weather resistance test at 70° C. and 90% RH when optical disks having the structure shown in FIG. 1 were bonded together using different adhesives. As is clear from the results in Table 1, the optical disks bonded using the adhesive of the present invention have excellent weather resistance and long-term reliability.

表 ビスA−EP−AC:ビスフェノールAにエピクロルヒ
ドリンとアクリル酸 を付加した化合物 ビスA−EP−EP :ビスフェノールAの両側にエピ
クロルヒドリンを付加 した化合物 ビスF−EP−AC:ビスフェノールFにエビクロヒド
リンとアクリル酸を 付加した化合物 ビスI−EP−EP :ビスフェノールFの両側にエピ
クロルヒドリンを付加 した化合物 ビスF−AC−AC:ビスフェノールFの両側にアクリ
ル酸を付加した化合 物 H−EP−AC:ヘキサンジオールにエピクロルヒドリ
ンとアクリル酸 を付加した化合物 パーブチルO:日本油脂製 バーロイル355 :  l〆 バーロイルA   :日本油脂製 イルガキュア907:チバガイギー社製イルガキュア6
51:  〃 ダロキュア2273 :メルク社製 ダロキュア1164:  // IBM!−12:油化シェルエポキシのエビキュアIB
MI−12 8MI−12:   〃       エビキュアBM
I−12 本発明において、接着剤に少なくともエポキシ環と(メ
タ)アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する化
合物を用いると1、光照射によって硬化することができ
、熱によっても硬化することができる。熱硬化のみの性
質では、接着剤は貼り合わせて熱をかけたりすると、硬
化する前に粘度が低下して端の方からあふれるので、作
業性が悪い。従って、熱以外の方法で接着剤を仮止めし
ておく必要がある。本発明においては、記録層が戊辰さ
れていない部分まで接着層が回るようにして光を照射す
ることによってディスクを仮止めすることができるので
作業性がよい。光が透過しない記録層が戊辰されている
部分の接着剤は熱によって硬化することができるので問
題はない。以上のように本発明になる接着剤は光により
仮止めして熱により硬化する用途に向くことがわかる。
Table Bis A-EP-AC: Compound with epichlorohydrin and acrylic acid added to bisphenol A Bis A-EP-EP: Compound with epichlorohydrin added to both sides of bisphenol A Bis F-EP-AC: Bisphenol F with epichlorohydrin and acrylic acid Bis I-EP-EP: A compound in which epichlorohydrin is added to both sides of bisphenol F. Bis-F-AC-AC: A compound in which acrylic acid is added to both sides of bisphenol F. H-EP-AC: A compound in which epichlorohydrin and epichlorohydrin are added to hexanediol. Compounds with added acrylic acid Perbutyl O: Valloyl 355 manufactured by NOF Corporation: Irgacure 907 manufactured by NOF Corporation: Irgacure 6 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.
51: 〃 Darocure 2273: Merck Darocure 1164: // IBM! -12: Ebicure IB oil-based shell epoxy
MI-12 8MI-12: 〃 Ebicure BM
I-12 In the present invention, when a compound having at least an epoxy ring and a (meth)acryloyl group or a methacryloyl group is used as the adhesive, it can be cured by light irradiation and can also be cured by heat. If the adhesive only has a heat curing property, when the adhesive is pasted together and heated, the viscosity decreases before it hardens and it overflows from the edges, resulting in poor workability. Therefore, it is necessary to temporarily fix the adhesive using a method other than heat. In the present invention, the disk can be temporarily fixed by irradiating the adhesive layer with light so that the adhesive layer extends to the portion where the recording layer is not bent, and therefore, the workability is good. There is no problem because the adhesive in the portion where the recording layer is occluded through which light does not pass can be cured by heat. As described above, it can be seen that the adhesive of the present invention is suitable for use in temporarily fixing with light and curing with heat.

尚、本発明はこれらの実施例に限定されると考えられる
べきではなく、例えば本発明では記録層がNdDyFe
Coの光磁気記録層について述べたが、TbFeCoS
DgTbFeCoや、GdTbFe等の他に、Te−T
e0xSTe I nSb、I nAg等の光相変化型
、シアニン等の有機色素を用いた系でも適用できる。保
護層も5iAINO層の他に、SiN層、AgN層、S
iO層複合酸化物、複合酸窒化物等でも構わない。構造
も記録層を保護層で挟んだものに限らず、基板に直接記
録層を形成するものや、コンパクトディスクのように基
板に反射層を形成した構造でも構わない。
Note that the present invention should not be considered limited to these examples; for example, in the present invention, the recording layer is made of NdDyFe.
Although the Co magneto-optical recording layer has been described, TbFeCoS
In addition to DgTbFeCo, GdTbFe, etc., Te-T
A system using a light phase change type such as e0xSTe InSb or InAg or an organic dye such as cyanine can also be applied. In addition to the 5iAINO layer, the protective layer also includes a SiN layer, an AgN layer, and an S layer.
An iO layer composite oxide, composite oxynitride, etc. may also be used. The structure is not limited to one in which the recording layer is sandwiched between protective layers, but may also be one in which the recording layer is directly formed on the substrate, or a structure in which a reflective layer is formed on the substrate as in the case of a compact disc.

また、本実施例で示した接着剤の他に、エポキシ環を複
数あるいはアクリレート基を複数有する化合物を用いて
も良いし、アクリレートも、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート等の多
官能の他に単官能アクリレートを用いても構わない。有
機過酸化物も作業性を考えて、室温から80℃程度に分
解温度のあるものであれば構わない。シランカップリン
グ剤も、作業性を考えて、蒸気圧が比較的低く、80℃
以下で反応可能なものであればよい。
In addition to the adhesive shown in this example, compounds having multiple epoxy rings or multiple acrylate groups may be used, and acrylates such as trimethylolpropane triacrylate, neopentyl glycol diacrylate, dipentaerythritol In addition to polyfunctional acrylates such as hexaacrylate, monofunctional acrylates may also be used. Considering workability, any organic peroxide may be used as long as it has a decomposition temperature between room temperature and about 80°C. Considering workability, the silane coupling agent also has a relatively low vapor pressure and a temperature of 80°C.
Any material that can be reacted with below may be used.

本発明で用いるエポキシ環と(メタ)アクリロイル基を
有する化合物の例としては、エポキシ環の割合がアクリ
ロイル基またはメタクリロイル基の割合より多い方が接
着剤の硬化収縮率、耐熱性、密着力などの点から優れる
。より好ましくは、エポキシ環とアクリロイル基または
メタクリロイル基の比が90:10から70 : 30
の間にあった方がよい。
As an example of a compound having an epoxy ring and a (meth)acryloyl group used in the present invention, if the proportion of the epoxy ring is larger than the proportion of the acryloyl group or methacryloyl group, the curing shrinkage rate, heat resistance, adhesion strength, etc. of the adhesive will be improved. Excellent in terms of points. More preferably, the ratio of the epoxy ring to the acryloyl group or methacryloyl group is from 90:10 to 70:30.
It is better to be in between.

エポキシの硬化剤としては酸、アミン、アミドがあるが
、使用目的によって変えた方がよく、例えば、比較的透
明性を要求される場合は酸系の硬佐剤、低温で硬化させ
る場合はアミンやアミド系、常温で硬化させたい場合は
脂肪族または芳香族アミンを用いるとよく、液体の硬化
剤の方が作業性がよいので、固形物は液体の硬化剤と混
合したりして液状にして使用するとよい。
Epoxy hardeners include acids, amines, and amides, but it is better to change them depending on the purpose of use. For example, if relatively transparency is required, use acid-based hardeners, and if you want to harden at low temperatures, use amines. If you want to harden at room temperature, it is best to use aliphatic or aromatic amines.Liquid hardeners are easier to work with, so solids can be liquefied by mixing them with liquid hardeners. It is recommended to use it.

本発明で用いることのできるエポキシ環と(メタ)アク
リロイル基を有する化合物の例としては、ビスフェノー
ルAやビスフェノールFの両側にエポキシ環や(メタ)
アクリロイル基を有するような芳香族化合物やヘキサン
ジオールやブタンジオールの両側にエポキシ環や(メタ
)アクリロイル基を有するような脂肪族化合物などがあ
る。エポキシの重合開始剤の例としては常温硬化型とし
て脂肪族ポリアミン、ポリアミド樹脂、第3級アミン、
アミン塩などがあり、高温硬化型として芳香族ジアミン
、酸無水物、ルイス酸錯化合物などがある。その他イミ
ダゾール類などもある。
Examples of compounds having an epoxy ring and (meth)acryloyl group that can be used in the present invention include epoxy rings and (meth)acryloyl groups on both sides of bisphenol A and bisphenol F.
Examples include aromatic compounds having an acryloyl group, and aliphatic compounds having an epoxy ring or (meth)acryloyl group on both sides of hexanediol or butanediol. Examples of epoxy polymerization initiators include aliphatic polyamines, polyamide resins, tertiary amines,
There are amine salts, etc., and high temperature curing types include aromatic diamines, acid anhydrides, and Lewis acid complex compounds. There are also other imidazoles.

〔実施例4〕 以下本発明の製造方法について図面に基づいて詳細に説
明する。
[Example 4] Hereinafter, the manufacturing method of the present invention will be explained in detail based on the drawings.

第2図(a)から第2図(f)は本発明になる光ディス
クの製造方法を説明するための概略図である。第2図(
a)は光ディスクを示し21は基板の外周部の記録層が
成膜されない部分、22は基板の内周部の記録層が成膜
されない部分、23はディスクのセンターホール部であ
る。第2図(b)は24のデイスペンサーを用いて接着
剤を塗布している図である。第2図(C)は接着剤が塗
布された基板と別の基板を貼り合わせるところを示す図
で、25はリング状に塗布された接着層である。第2図
(d)は第2図(c)で貼り合わせたディスクの接着剤
を26のヒーターで広げるところを示す図である。第2
図(e)は27のメタルハライドランプを用いて、28
の紫外線を照射して、21や22の部分の接着剤を硬化
させるところを示す図である。第2図(f)は第2図(
e)で硬化しなかった、21や22の部分以外の接着層
を熱で硬化させるもので、2つはオープンである。この
工程は(a)〜(f)の順に進行する。
FIGS. 2(a) to 2(f) are schematic diagrams for explaining the method of manufacturing an optical disc according to the present invention. Figure 2 (
a) indicates an optical disk; 21 is a portion on the outer periphery of the substrate where the recording layer is not formed; 22 is a portion on the inner periphery of the substrate where the recording layer is not formed; and 23 is the center hole portion of the disk. FIG. 2(b) shows the adhesive being applied using 24 dispensers. FIG. 2(C) is a diagram showing a substrate coated with an adhesive and another substrate being bonded together, and 25 is an adhesive layer coated in a ring shape. FIG. 2(d) is a diagram showing the adhesive of the disks bonded together in FIG. 2(c) being spread by a heater 26. Second
Figure (e) shows 28 lamps using 27 metal halide lamps.
FIG. 3 is a diagram showing how the adhesive at portions 21 and 22 is cured by irradiating ultraviolet rays. Figure 2 (f) is shown in Figure 2 (
The adhesive layer other than the portions 21 and 22 that were not cured in step e) is cured by heat, and two of them are open. This step proceeds in the order of (a) to (f).

第3図は本発明になる光ディスクの基本構成図であり、
30及び36はポリカーボネートの基板、31及び37
はSiAgN層、32及び38はTbFeCo層、33
及び3つは5iApN層、34及び40はA、Q層、3
5は接着層、41及び42はハードコート層である。3
0及び36のポリカーボネートの基板は射出圧縮成形に
よって形成した。31及び37のSiA、9N層はSi
A、Qの焼結ターゲットを用いて、窒素とアルゴンの混
合ガスを用いることによるRF反応マグネトロンスパッ
タ法によって成膜したものである。32及び38のTb
FeCo層はTbFeCoの合金ターゲットを用いたD
Cマグネトロンスパッタ法によって成膜したものである
。33及び3つの5iAIIN層は31及び37の5t
Aj7N層と同様に、窒素とアルゴンの混合ガスを導入
することによるRF反応マグネトロンスパッタ法によっ
て成膜したものである。34及び40の11層はAIの
ターゲットを用いてアルゴンガスを導入することによる
DCマグネトロンスパッタ法によって成膜したものであ
る。35の接着層は大日本インキ化学工業のエビクロン
S−129と油化シェルエポキシのエビキュアーIBM
I−12と1,6−ヘキサンジオールジアクリレートと
t−ブチルパーオキシイソブチレートとチバガイギー社
製のイルガキュアー907の混合物を、記録層が成膜さ
れた側にリング状に塗布した後、真空系内で別の基板と
合わせて、その貼り合わせた基板をホットプレート上に
乗せて加熱に接着剤を広げて、メタルハライドランプで
紫外線を照射して、記録層が成膜されていない部分の接
着剤を仮硬化させて、それから50℃で3時間60℃で
8時間加熱して接着層を硬化させた。41及び42のハ
ードコート層はトリメチロールプロパントリアクリレー
トと16−ヘキサンジオールジアクリレートとチバガイ
ギー社製のイルガキュアー907の混合物を基板表面に
スピンコードした後、高圧水銀灯により紫外線を照射し
て硬化させたものである。
FIG. 3 is a basic configuration diagram of the optical disc according to the present invention,
30 and 36 are polycarbonate substrates, 31 and 37
is a SiAgN layer, 32 and 38 are TbFeCo layers, 33
and 3 are 5iApN layers, 34 and 40 are A and Q layers, 3
5 is an adhesive layer, and 41 and 42 are hard coat layers. 3
0 and 36 polycarbonate substrates were formed by injection compression molding. 31 and 37 SiA, 9N layers are Si
The films were formed using the sintered targets A and Q by RF reaction magnetron sputtering using a mixed gas of nitrogen and argon. 32 and 38 Tb
The FeCo layer was formed using a TbFeCo alloy target.
The film was formed by C magnetron sputtering. 33 and three 5i AIIN layers are 31 and 37 5t
Like the Aj7N layer, this film was formed by the RF reaction magnetron sputtering method by introducing a mixed gas of nitrogen and argon. The 11 layers 34 and 40 were formed by DC magnetron sputtering using an AI target and introducing argon gas. The adhesive layer of 35 is Dainippon Ink &Chemicals' Ebicuron S-129 and Yuka Shell Epoxy's Ebicure IBM.
After applying a mixture of I-12, 1,6-hexanediol diacrylate, t-butylperoxyisobutyrate, and Irgacure 907 manufactured by Ciba Geigy in a ring shape to the side on which the recording layer was formed, vacuum Combine the bonded substrate with another substrate within the system, place the bonded substrate on a hot plate, heat it to spread the adhesive, and irradiate it with ultraviolet light using a metal halide lamp to bond the areas where the recording layer is not formed. The agent was temporarily cured, and then the adhesive layer was cured by heating at 50°C for 3 hours and 60°C for 8 hours. For the hard coat layers 41 and 42, a mixture of trimethylolpropane triacrylate, 16-hexanediol diacrylate, and Ciba Geigy's Irgacure 907 was spin-coded onto the substrate surface, and then cured by irradiating ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp. It is something.

次に、従来の方法で光ディスクを作成した例について説
明する。ロールコート法で貼り合わせた光ディスクは、
70℃90%RHで1000時間耐候性試験したところ
、記録層が酸化してピットエラーレートが増大した。本
発明の光ディスクを同時に試験したがピットエラーレー
トの変化はなかった。通常のエポキシ樹脂を用いて貼り
合わせた光ディスクは貼り合わせ時の粘度が高かったた
め接着層が厚めになり、面振れ量が本発明になる光ディ
スクより大きくなった。通常のエポキシ樹脂を用いたも
のが最大7ミリラジアン、光ディスクが最大2ミリラジ
アンであった。また、通常のエポキシ樹脂を用いて貼り
合わせた光ディスクは、接着剤硬化時にディスクの外周
から溢れ出して光ディスクの概観を損なった。接着剤が
熱で硬化するタイプでは温度制御が難しく、基板が接着
層硬化時に動かないようにしておく必要があり、常温硬
化型の接着剤で貼り合わせると接着層硬化時に記録層に
応力がかかり再生信号のエンベロープが乱れ、エラーが
増加した。以上の様に従来の方法で作成した光ディスク
は耐候性が弱かったり、作成方法が難しく歩留りが低い
等の問題点を有している。しかし、本発明では従来発生
していた問題がない、信頼性が高く作成が容易な光ディ
スクであることがわかる。
Next, an example of creating an optical disc using a conventional method will be described. Optical discs bonded together using the roll coating method are
When a weather resistance test was conducted at 70° C. and 90% RH for 1000 hours, the recording layer was oxidized and the pit error rate increased. The optical disc of the present invention was tested at the same time, but there was no change in pit error rate. Optical disks laminated using a normal epoxy resin had a high viscosity at the time of lamination, so the adhesive layer was thicker, and the amount of surface runout was larger than that of the optical disk according to the present invention. The maximum resistance was 7 milliradians using ordinary epoxy resin, and the maximum 2 milliradians for optical discs. Furthermore, in optical discs bonded together using ordinary epoxy resin, the adhesive overflowed from the outer periphery of the disc when it cured, spoiling the appearance of the optical disc. Temperature control is difficult with adhesives that cure with heat, and it is necessary to ensure that the substrate does not move while the adhesive layer is curing.If the adhesive is bonded with an adhesive that cures at room temperature, stress will be applied to the recording layer when the adhesive layer hardens. The envelope of the playback signal was disturbed and errors increased. As described above, optical discs manufactured by conventional methods have problems such as poor weather resistance, difficult manufacturing methods, and low yields. However, it can be seen that the present invention provides an optical disc that is highly reliable and easy to produce without the problems that have conventionally occurred.

実施例4に於て接着剤には少なくともエポキシの主剤及
び硬化剤、紫外線硬化樹脂の主剤及び硬化剤の混合物に
有機過酸化物を添加したものを用いるとよい。
In Example 4, it is preferable to use a mixture of at least an epoxy main ingredient and a curing agent, an ultraviolet curing resin main ingredient and a curing agent, and an organic peroxide added thereto.

エポキシの主剤の例としては、ビスフェノールA系、ビ
スフェノールF系、ノボラック系等に、低粘度エポキシ
である反応性希釈剤を添加したり、添加しなかったりす
るものを用いるとよい。反応性希釈剤の含有量が多くな
ると、接着剤の粘度が低下して作業性はよくなるが、接
着剤の耐熱性、反応性などが低下するので接着層の特性
が悪くなるので添加量はひかえた方がよい。
Examples of the main epoxy agent include bisphenol A, bisphenol F, novolac, and the like, with or without the addition of a reactive diluent, which is a low-viscosity epoxy. If the content of the reactive diluent increases, the viscosity of the adhesive will decrease and workability will improve, but the heat resistance and reactivity of the adhesive will decrease and the properties of the adhesive layer will deteriorate, so the amount added should be limited. It is better to

エポキシの硬化剤としては酸無水物、芳香族アミン、脂
肪族アミン、アミド等あるが、その中でポットライフが
常温で1から50時間にあるものを用いるとよく、40
℃から80℃で硬化できる硬化剤を選択するとよい。そ
の例としては、2−エチル−4−メチルイミダゾール、
1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−イソブチ
ル−2−メチルイミダゾール等のイミダゾール系、メン
タンジアミン等の環状脂肪族アミンなどがある。
Epoxy curing agents include acid anhydrides, aromatic amines, aliphatic amines, amides, etc. Among them, those with a pot life of 1 to 50 hours at room temperature are best used.
It is preferable to select a curing agent that can be cured at a temperature of 80°C to 80°C. Examples include 2-ethyl-4-methylimidazole,
Examples include imidazole series such as 1-benzyl-2-methylimidazole and 1-isobutyl-2-methylimidazole, and cycloaliphatic amines such as menthanediamine.

紫外線硬化樹脂の主剤としては常温で比較的低粘度のも
のがよく、しかも反応性の高いものをもちいるとよく、
その例としては1.6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、ジペンタエリスルト
ールへキサアクリレート、トリメチロールプロパンジア
クリレート等があるのでこれらを主成分にするとよい。
It is best to use a base resin for UV curing resin that has a relatively low viscosity at room temperature and is highly reactive.
Examples include 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, neopentyl glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and trimethylolpropane diacrylate, so it is best to use these as the main ingredients. .

紫外線硬化樹脂の硬化剤の例としては3000mより長
い波長に吸収があるものを用いる。その例としてはベン
ジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルケトン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フ
ェニルコース−モルフォリノ−1−プロパノン、ベンゾ
イン、ベンゾンエチルエーテル、ベンゾインイソブチル
エーテル、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒ
ドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、
3.3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等が挙
げられる。
As an example of the curing agent for the ultraviolet curable resin, one that absorbs at wavelengths longer than 3000 m is used. Examples include benzyl dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-[4-(methylthio)phenylcose-morpholino-1-propanone, benzoin, benzone ethyl ether, benzoin isobutyl ether, 1-( 4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one,
Examples include 3.3-dimethyl-4-methoxybenzophenone.

有機過酸化物の例としては40℃から70’Cに加熱す
ると数時間で分解するものが好ましく、その例としては
、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ミ
リスチルパーオキシジカーボネート、クミルパーオキシ
ネオヘキサノエート、ジ(2−エトキシエチル)パーオ
キシジカーボネート、(ジ(メトキシイソプロピル)パ
ーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシル)パ
ーオキシジカーボネート、t−へキシルパーオキシネオ
デカノエート、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキシ
ド、t−ヘキシルパーオキシピバレート、t−ブチルパ
ーオキシピバレート、3.5゜5−トリメチルヘキサノ
イルパーオキシド、オクタノイルパーオキシド、デカノ
イルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、クミルパ
ーオキシオクトエート、サクシン酸パーオキシド、アセ
チルバ−オキシド、t−ブチルパーオキシ(2−エチル
ヘキサノエート)、m−トルイルパーオキシド、ベンゾ
イルパーオキシド、t−ブチルパーオキシイソブチレー
ト、1.1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3.5
−トリメチルシクロヘキサン、11−ビス(t−ブチル
パーオキシ)シクロヘキサン、t−ブチルパーオキシマ
レイン酸、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチ
ルパーオキシ3,5.5−トリメチルヘキサノエート、
シクロヘキサノンパーオキシド、t−ブチルパーオキシ
アリルカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピ
ルカーボネート、2,5−ジメチル2.5−ジ(ベンゾ
イルパーオキシ)へ牛サン、2.2−ビス(t−ブチル
パーオキシ)オクタン、(−ブチルパーオキシアセテー
ト、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t
−ブチルパーオキシベンゾエート等が挙げられる。
Preferred examples of organic peroxides include those that decompose within several hours when heated from 40°C to 70'C; examples include di-n-propyl peroxydicarbonate, di-myristyl peroxydicarbonate, and peroxyneohexanoate, di(2-ethoxyethyl)peroxydicarbonate, (di(methoxyisopropyl)peroxydicarbonate, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, t-hexylperoxyneodecano) ate, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, t-hexyl peroxypivalate, t-butyl peroxypivalate, 3.5゜5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl Peroxide, cumyl peroxyoctoate, succinic acid peroxide, acetyl peroxide, t-butyl peroxy (2-ethylhexanoate), m-tolyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butyl peroxyisobutyrate, 1.1-bis(t-butylperoxy)3,3.5
-trimethylcyclohexane, 11-bis(t-butylperoxy)cyclohexane, t-butylperoxymaleic acid, t-butylperoxylaurate, t-butylperoxy 3,5.5-trimethylhexanoate,
Cyclohexanone peroxide, t-butylperoxyallyl carbonate, t-butylperoxyisopropyl carbonate, 2,5-dimethyl 2,5-di(benzoylperoxy)beef san, 2,2-bis(t-butylperoxy) ) octane, (-butylperoxyacetate, 2,2-bis(t-butylperoxy)butane, t
-butyl peroxybenzoate and the like.

本発明において、貼り合わせ時の温度は接着剤の粘度に
より変える必要があり、常温より高くすることが好まし
いが、定状温度を得やすくするため、70℃以下にする
ことが好ましい。より好ましくは40℃から60℃であ
る。接着剤を硬化させるための基板加熱は接着剤の硬化
温度に合わせて、40℃から80℃が好ましい。より好
ましくは50℃から70℃である。
In the present invention, the temperature at the time of bonding needs to be changed depending on the viscosity of the adhesive, and is preferably higher than room temperature, but is preferably 70° C. or lower in order to make it easier to obtain a constant temperature. More preferably it is 40°C to 60°C. The substrate heating for curing the adhesive is preferably from 40°C to 80°C, depending on the curing temperature of the adhesive. More preferably it is 50°C to 70°C.

本発明に於て、エポキシと紫外線硬化樹脂の配合割合は
エポキシ樹脂の配合割合が多い方が接着剤としての特性
がよく、エポキシと紫外線硬化樹脂の比が重量比で95
;5から70 : 30が好ましい。ここでエポキシと
はエポキシの主剤と硬化剤のことを示し、紫外線硬化樹
脂とは紫外線硬化樹脂の主剤と硬化剤に有機過酸化物を
添加したものを示す。
In the present invention, as for the mixing ratio of epoxy and ultraviolet curing resin, the higher the mixing ratio of epoxy resin, the better the properties as an adhesive, and the ratio of epoxy and ultraviolet curing resin is 95% by weight.
;5 to 70:30 is preferred. Here, epoxy refers to an epoxy main ingredient and a curing agent, and an ultraviolet curable resin refers to an ultraviolet curable resin in which an organic peroxide is added to the main ingredient and a curing agent.

本発明に於て、貼り合わせを減圧下で行なうと接着剤の
脱泡も容易になり、接着層に気泡を取り込みにくくなる
In the present invention, if the bonding is performed under reduced pressure, the adhesive can be easily degassed and air bubbles are difficult to be incorporated into the adhesive layer.

更に接着層について説明する。エポキシの主剤として大
日本インキ化学工業のエビクロンS−129を、エポキ
シの硬化剤として油化シェルエポキシのエビキュアーB
MI−12を、光または熱カチオン重合開始剤としてチ
バガイギーのイルガキュアー261を、有機過酸化物と
してクメンヒドロパーオキシドを、シランカップリング
剤としてγ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン
を用いた。貼り合わせ方法はBMI−12を3にイルガ
キュアー261を1、クメンヒドロパーオキシドを1、
γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシランを2溶解
した硬化剤7重量%と、S−129を93重量%とを混
合して、片方のディスクの記録層が成膜されている側の
記録半径のほぼ中心にドーナツ状に塗布して、真空系内
でもう片方のディスクと貼り合わせて、系をリークして
ディスクを回転させながら紫外線を照射してディスクを
仮止めした後、60℃で5時間加熱して硬化させた。デ
ィスクは紫外線によって仮止めできるように、外周部と
内周部に記録層が形成されない部分がある。
Furthermore, the adhesive layer will be explained. Ebicuron S-129 from Dainippon Ink and Chemicals is used as the main epoxy agent, and Ebicure B from Oil Shell Epoxy is used as the epoxy curing agent.
MI-12 was used, Ciba Geigy's Irgacure 261 was used as a photo or thermal cationic polymerization initiator, cumene hydroperoxide was used as an organic peroxide, and γ-glycidoxyprobyltrimethoxysilane was used as a silane coupling agent. The bonding method is 3 parts of BMI-12, 1 part of Irgacure 261, 1 part of cumene hydroperoxide,
A recording radius on the side where the recording layer of one disk is formed is prepared by mixing 7% by weight of a curing agent in which 2 γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane is dissolved and 93% by weight of S-129. Apply it in a donut shape approximately in the center of the disc, attach it to the other disc in a vacuum system, leak the system and irradiate the disc with ultraviolet light while rotating the disc, temporarily fix the disc, and then heat the disc at 60°C for 50 minutes. It was cured by heating for a period of time. There are areas on the outer and inner peripheries where the recording layer is not formed so that the disc can be temporarily fixed using ultraviolet light.

次に、第1図において接着層を変えたときの70℃90
%RHで3000時間耐候性試験の結果を表1に示す。
Next, in Figure 1, when changing the adhesive layer,
The results of the 3000 hour weathering test at %RH are shown in Table 1.

表1の結果から分かるように、本発明になる光記録円板
は耐候性試験後も性状やピットエラーレートの変化がな
く、長期信頼性があることが分かる。また、本実施例で
は紫外線によってディスクの外周部と内周部を仮止めで
きるので量産性があることが分かる。
As can be seen from the results in Table 1, the optical recording disk of the present invention shows no change in properties or pit error rate even after the weather resistance test, indicating that it has long-term reliability. In addition, it can be seen that this embodiment is suitable for mass production because the outer and inner circumferential portions of the disk can be temporarily fixed using ultraviolet rays.

エピクロンS−129 エビクロン830−S  大日本インキ化学工業、エビ
クロン520 イルガキュア261; チバガイギー エビコート808   油化シェルエピキシエピコート
807 アデカドール5O−120;旭電化 尚、本発明はこれらの実施例に限定されると考えられる
べきではなく、本発明の主旨を逸脱しない限り種々の変
更は可能である。例えば本発明ではPC基板上にセラミ
ックス層、記録層、セラミックス層、金属層の4層構造
としたが、セラミックス層、記録層、セラミックス層の
3層構造を貼り合わせた構造でも全く問題はなく、セラ
ミックス層、記録層、セラミックス層を成膜したものを
セラミックス層1層だけ成膜されたPC基板、あるいは
何も成膜されていないPC基板と貼り合わせた片面構造
でも構わないし、接着層の成分にエポキシの硬化剤を含
まない系でも構わない。
Epicron S-129 Ebicuron 830-S Dainippon Ink & Chemicals, Ebicuron 520 Irgacure 261; Ciba Geigy Ebicoat 808 Yuka Shell Epixy Epicoat 807 Adekadol 5O-120; Asahi Denka Inc. However, the present invention is limited to these examples. This should not be considered as such, and various changes are possible without departing from the spirit of the invention. For example, in the present invention, a four-layer structure of a ceramic layer, a recording layer, a ceramic layer, and a metal layer is used on a PC board, but there is no problem with a structure in which a three-layer structure of a ceramic layer, a recording layer, and a ceramic layer is bonded together. It may be a single-sided structure in which a ceramic layer, a recording layer, and a ceramic layer are bonded to a PC board with only one ceramic layer or a PC board with no film formed, or the components of the adhesive layer. A system that does not contain an epoxy curing agent may also be used.

また、セラミックス層の例としては、SiA、QN層の
他に、SiN層、A47N層、5iAltNO層などで
もよく記録層を挟むセラミックス層の材質が異なってい
ても問題ない。記録層としてはTbFeCo層の他に、
NdDyFeCo層、GdTbFe層等の光磁気記録層
の他に、Te−TeOx層、Te5bAs等の相変化型
、シアニン等の有機色素を用いたものでも適用できる。
Further, as examples of the ceramic layer, in addition to SiA and QN layers, SiN layer, A47N layer, 5iAltNO layer, etc. may be used, and there is no problem even if the ceramic layers sandwiching the recording layer are made of different materials. In addition to the TbFeCo layer, the recording layer includes
In addition to magneto-optical recording layers such as a NdDyFeCo layer and a GdTbFe layer, a Te-TeOx layer, a phase change type such as Te5bAs, and one using an organic dye such as cyanine can also be used.

記録層の種類によってはセラミックス層は必要ない場合
もある。
Depending on the type of recording layer, a ceramic layer may not be necessary.

さらに、本発明では紫外線を用いて仮止めをした例を示
したが、熱により硬化できる開始剤を用いると熱によっ
ても仮止めが可能となり、赤外線、マイクロ波、高周波
等を用いて硬化させることもできる。
Furthermore, in the present invention, an example was shown in which temporary fixing was performed using ultraviolet rays, but if an initiator that can be cured by heat is used, temporary fixing can also be done by heat, and curing can be performed using infrared rays, microwaves, high frequencies, etc. You can also do it.

本発明ではシランもしくは金属系のカップリング剤の添
加量は接着剤全重量の0. 5%から8%としたが、0
.5%未満では高温高湿下での密着力が弱くなるため信
頼性が劣り、逆に8%より多く添加するとカップリング
剤の分解によって生じる、アルコール、水、その他の低
分子量成分の影響によって耐候性が悪くなる傾向になる
。しかし、0.5%未満および8%より多く添加しては
いけないというのではなく、0.5%から8%の間が適
当というものである。より好ましくは、1%から5%程
度の添加量がよい。また、本発明では有機過酸化物を0
. 1から5重量%添加するが、0゜1%未満では接着
剤の硬化に時間がかかり、5%より多いと接着剤の物性
が悪くなる傾向にある。
In the present invention, the amount of silane or metal-based coupling agent added is 0.00% of the total weight of the adhesive. It was set from 5% to 8%, but 0
.. If it is less than 5%, the adhesion under high temperature and high humidity will be weak, resulting in poor reliability.On the other hand, if it is added more than 8%, weather resistance will be affected by the effects of alcohol, water, and other low molecular weight components caused by the decomposition of the coupling agent. tends to become worse. However, this does not mean that it should not be added less than 0.5% or more than 8%, but that it is appropriate to add between 0.5% and 8%. More preferably, the amount added is about 1% to 5%. In addition, in the present invention, organic peroxide is
.. It is added in an amount of 1 to 5% by weight, but if it is less than 0.1%, it takes time to cure the adhesive, and if it is more than 5%, the physical properties of the adhesive tend to deteriorate.

ここでも、0.1%未満及び5%より多く添加してはい
けないというのではなく、0.1%から5%程度が適当
というものである。より好ましくは0、 5%から3%
の添加がよい。
Again, this does not mean that it should not be added less than 0.1% or more than 5%, but that about 0.1% to 5% is appropriate. More preferably 0.5% to 3%
It is better to add

エポキシの主剤としては低粘度のものが作業性がよいの
で、ビスフェノールF型、フェノールノボラック型やビ
スフェノールA型のエポキシに反応性希釈剤として少量
のグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル等を添加
したものを用いるとよい。この反応性希釈剤は硬化した
後のエボキシの物性を悪くするので、添加量は控えた方
がよく、30重量%以下にした方がよい。
As the main epoxy agent, one with low viscosity is easy to work with, so use bisphenol F type, phenol novolac type, or bisphenol A type epoxy with a small amount of glycidyl ether, diglycidyl ether, etc. added as a reactive diluent. Good. Since this reactive diluent deteriorates the physical properties of the epoxy after hardening, it is better to limit the amount added, and it is better to keep it at 30% by weight or less.

エポキシの硬化剤としては用いる環状脂肪族アミンとし
ては、1−イソブチル−2−メチルイミダゾール、2−
エチル−4(5)−メチルイミダゾール、1−ベンジル
−2−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、
イミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル4(5)
−メチルイミダゾール、メンタンジアミン、N−アミノ
メチルピペラジン、N−メチルモルホリン、1,3−ジ
アミノサイクロヘキサン、イソホロンジアミン等から選
んだ1種または2種以上の混合物を用いるとよい。なか
でもエポキシの主剤と混合したときのポットライフを比
較的長くするために、メンタンジアミンやイミダゾール
系を用いるとよく、その添加量は2%から7%程度が適
当である。2%以下ではエポキシの硬化が不十分になり
、7%以上ではポットライフが短くなる。より好ましく
は3%から5%が適当である。
Cycloaliphatic amines used as epoxy curing agents include 1-isobutyl-2-methylimidazole, 2-
Ethyl-4(5)-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-methylimidazole,
Imidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl 4(5)
It is preferable to use one or a mixture of two or more selected from -methylimidazole, menthanediamine, N-aminomethylpiperazine, N-methylmorpholine, 1,3-diaminocyclohexane, isophoronediamine, and the like. Among them, menthanediamine and imidazole are preferably used in order to have a relatively long pot life when mixed with the epoxy main ingredient, and the appropriate amount of addition is about 2% to 7%. If it is less than 2%, the curing of the epoxy will be insufficient, and if it is more than 7%, the pot life will be shortened. More preferably 3% to 5% is appropriate.

本発明で接着剤のなかに添加するカップリング剤の例と
してはγ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−(アミノエチル)アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロビルト
リメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミ
ノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチ
ルジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチ
ルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、ビニルト
リクロルシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)
シラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルメチ
ルジェトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、メチルジクロロシラ
ン、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジクロロシ
ラン、テトラメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラ
ンフェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシ
シラン、デシルトリメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジェトキシ
シラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジェ
トキシシラン、ビストリメチルアセトアミドトリメチル
シリルアセトアミド、ビストリメチルシリルウレア、t
ert−ブチルジメチルクロロシラン、イソプロピルト
リイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデ
シルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリ
ス(ジオクチルパイロフォスフェート)チタネート、テ
トライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタ
ネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルフォスファ
イト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメ
チル−1−ブチル)ビス(ジトリデシル)フォスファイ
トチタネート、ビス(ジオクチルパイロフォスフェート
)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイル
チタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイ
ルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリ
ルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルフォスフ
ェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニル
チタネート、イソプロピルトリ(N−アミドエチル◆ア
ミノエチル)チタネート、ジクミルフェニルオキシアセ
テートチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネ
ート、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピエー
トなどが挙げられる。
Examples of coupling agents added to the adhesive in the present invention include γ-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, γ-(aminoethyl)aminopropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. Methoxysilane, N-β-(N-vinylbenzylaminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane,
γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ- Chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, vinyltrichlorosilane, vinyltris(βmethoxyethoxy)
Silane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, N-β(aminoethyl)γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ- Aminopropyltrimethoxysilane, Methyldichlorosilane, Phenyltrichlorosilane, Diphenyldichlorosilane, Tetramethoxysilane, Dimethyldimethoxysilane Phenyltrimethoxysilane, Diphenyldimethoxysilane, Decyltrimethoxysilane, Tetraethoxysilane, Methyltriethoxysilane, Dimethyljetoxysilane Toxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyljethoxysilane, bistrimethylacetamide trimethylsilylacetamide, bistrimethylsilylurea, t
ert-butyldimethylchlorosilane, isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl tris(dioctyl pyrophosphate) titanate, tetraisopropylbis(dioctyl phosphite) titanate, tetraoctyl bis(ditridecyl phosphite) titanate, Tetra(2,2-diallyloxymethyl-1-butyl)bis(ditridecyl)phosphite titanate, bis(dioctylpyrophosphate)ethylene titanate, isopropyltrioctanoyl titanate, isopropyl dimethacrylylisostearoyl titanate, isopropyl isostearoyl diacryl titanate, isopropyl tri(dioctyl phosphate) titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate, isopropyl tri(N-amidoethyl◆aminoethyl) titanate, dicumylphenyloxyacetate titanate, diisostearoyl ethylene titanate, acetalkoxyaluminum diisopropiate, etc. Can be mentioned.

これらのカップリング剤のなかでも、特にγ−グリシド
キプロピルトリメトキシシランやγ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン等のように沸点が150℃以
上あるものが取扱が容易である。
Among these coupling agents, those having a boiling point of 150° C. or higher, such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, are particularly easy to handle.

また、本発明で接着剤のなかに添加する有機過酸化物の
例としては、ベンゾイルパーオキシド、イソノナノイル
パーオキシド、ラウロイルバーオキシド、t−ブチルパ
ー−2−エチルヘキサノエート、1.1−ビス(t−ブ
チルパーオキシ)3.3.5、−1リメチルシクロヘキ
サン、t−ブチルパーオキシイソプロビルカーボネート
、t−ブチルパーオキシベンゾエート、メチルエチルケ
トンパーオキシド、t−ブチルハイドロパーオキシド、
ジクミルパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、ジ
−t−ブチルバーオキシド等があげられる。これらの有
機過酸化物のなかでも半減期温度が60℃から100℃
にあるものがよく、その例としてはベンゾイルパーオキ
シド、イソノナノイルパーオキシド、t−ブチルパー2
−エチルヘキサノエート、クメンヒドロパーオキシド、
]。
Further, examples of organic peroxides added to the adhesive in the present invention include benzoyl peroxide, isononanoyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butyl per-2-ethylhexanoate, 1.1- Bis(t-butylperoxy) 3.3.5, -1-limethylcyclohexane, t-butylperoxyisopropyl carbonate, t-butylperoxybenzoate, methyl ethyl ketone peroxide, t-butyl hydroperoxide,
Examples include dicumyl peroxide, cumene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, and the like. Among these organic peroxides, the half-life temperature is between 60℃ and 100℃.
Examples include benzoyl peroxide, isononanoyl peroxide, and t-butyl peroxide.
-ethylhexanoate, cumene hydroperoxide,
].

]1−ビスターシャリ−ブチルパーオキシ)3゜3.5
−トリメチルシクロヘキサン等である。
]1-bistershari-butylperoxy)3゜3.5
-trimethylcyclohexane, etc.

さらに、本発明ではこれらの添加剤の他に、濡れ性を改
善するための界面活性剤や、安定剤、酸化防止剤などを
添加しても問題ない。
Furthermore, in the present invention, in addition to these additives, there is no problem in adding surfactants, stabilizers, antioxidants, etc. to improve wettability.

〔発明の効果〕 以上述べたように発明によれば、 ■ 耐候性に優れかつ長期信頼性のある光ディスクを工
業的に供給することが出来るようになった。
[Effects of the Invention] As described above, according to the invention, (1) optical disks with excellent weather resistance and long-term reliability can now be provided industrially.

■ 接着剤の加熱硬化工程で基板の変形及び歪みの発生
を防止でき信頼性の高い光ディスクを歩留良く製造する
ことが出来るようになった。
(2) It has become possible to prevent deformation and distortion of the substrate during the heating and curing process of the adhesive, making it possible to manufacture highly reliable optical discs at a high yield.

■ 接着剤の加熱硬化工程で接着剤が基板の間からはみ
出すことが無くなり、はみ出した接着剤の除去工程が不
要となり製造工程が簡素化でき更に接着剤の除去に伴う
不良の発生を絶滅させることができた。
■ Adhesive no longer protrudes from between the substrates during the adhesive heat curing process, eliminating the need to remove protruding adhesive, simplifying the manufacturing process, and eliminating the occurrence of defects associated with adhesive removal. was completed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の光ディスクの一実施例を示す主要断面
図。 第2図は本発明の光ディスクの製造方法の一実施例を示
す主要工程図。 第3図は従来の光ディスクを示す主要断面図。 1.9・・ポリカーボネートの基板 2.10・StAρNの第1保護層 11・NdDyFeCoの記録層 12・5iA(INの第2保護層 13・A、17層 14・5iAINo層 ・・・接着層 15・ハードコート層 ・・・センター穴 ・・・基板の外周部の記録層が成膜されない部分 ・・基板の内周部の記録層が成膜され ない部分 ・ディスクのセンター穴部 ・デイスペンサー ・リング状に塗布された接着層 ・ヒーター ・メタルハライドランプ ・紫外線 ◆オーブン ・ポリカーボネートの基板 ・5iAJ7N層 23・ ・ ・ 24 ・ ・ ・ 25 ・ ・ ・ 26 ・ ・ ・ 27 ・ ・ ・ 28・ ・ ・ 29 ・ ・ ・ 30.36 31.37 22・ ・ 32. 33. 34. 35・ 41. 43 ・ 38・TbFeCo層 3つ・5iApN層 40・A1層 ・・・接着層 42・ハードコート層 ・・・センター穴
FIG. 1 is a main sectional view showing an embodiment of the optical disc of the present invention. FIG. 2 is a main process diagram showing an embodiment of the optical disc manufacturing method of the present invention. FIG. 3 is a main sectional view showing a conventional optical disc. 1.9 Polycarbonate substrate 2.10 StAρN first protective layer 11 NdDyFeCo recording layer 12 5iA (IN second protective layer 13 A, 17 layers 14 5i AINo layer 15・Hard coat layer... Center hole... Area on the outer periphery of the substrate where the recording layer is not formed... Area on the inner periphery of the substrate where the recording layer is not formed ・Center hole of the disk ・Dispenser ring Adhesive layer coated in the shape Heater Metal halide lamp UV rays Oven Polycarbonate substrate 5iAJ7N layer 23 ・ ・ ・ 24 ・ ・ ・ 25 ・ ・ ・ 26 ・ ・ ・ 27 ・ ・ ・ 28 ・ ・ 29 ・ ・・ 30.36 31.37 22・ ・ 32. 33. 34. 35・ 41. 43 ・ 38・Three TbFeCo layers・5iApN layer 40・A1 layer...Adhesive layer 42・Hard coat layer...Center hole

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)第1の基板、第2の基板、前記第1の基板と前記
第2の基板とを貼り合わせる接着層とを有する光ディス
クにおいて、 前記基板の上に延在する第1の保護層、該第1の保護層
の上に設けられた記録層、該記録膜の上に延在する第2
の保護層、該第2の保護層の上に延在し且つ前記基板に
設けられたセンター穴より外側でしかも前記基板の外径
より内側の領域に設けられた前記反射層、及び該反射層
の上に延在し且つ前記反射層及び前記記録層の内径より
小さい径と前記反射層及び前記記録層の外径より大きい
径とに囲まれた領域に延在するセラミック層を有するこ
とを特徴とする光ディスク。
(1) In an optical disc having a first substrate, a second substrate, and an adhesive layer for bonding the first substrate and the second substrate, a first protective layer extending over the substrate; a recording layer provided on the first protective layer; a second recording layer extending on the recording film;
a protective layer, the reflective layer extending over the second protective layer and provided in a region outside the center hole provided in the substrate and inside the outer diameter of the substrate; and the reflective layer. characterized by having a ceramic layer extending over the top and extending in a region surrounded by a diameter smaller than the inner diameter of the reflective layer and the recording layer and a diameter larger than the outer diameter of the reflective layer and the recording layer. optical disc.
(2)第1の基板、第2の基板、前記第1の基板と前記
第2の基板とを貼り合わせる接着層とを有する光ディス
クにおいて、 前記接着層が熱硬化性樹脂と紫外線硬化性樹脂とからな
ることを特徴とする光ディスク。
(2) An optical disc having a first substrate, a second substrate, and an adhesive layer for bonding the first substrate and the second substrate, wherein the adhesive layer is made of a thermosetting resin and an ultraviolet curable resin. An optical disc characterized by comprising:
(3)基板が、該基板の上に延在する第1の保護層、該
第1の保護層の上に設けられた記録層、前記記録膜の上
に延在する第2の保護層、該第2の保護層の上に延在し
且つ前記センター穴より外側でしかも前記基板の外径よ
り内側の領域に設けられた反射層を有することを特徴と
する請求項2記載の光ディスク。
(3) the substrate includes a first protective layer extending over the substrate, a recording layer provided on the first protective layer, and a second protective layer extending over the recording film; 3. The optical disc according to claim 2, further comprising a reflective layer extending over the second protective layer and provided in a region outside the center hole and inside the outer diameter of the substrate.
(4)記録層が希土類−遷移金属合金からなることを特
徴とする請求項1又は3記載の光ディスク。
(4) The optical disc according to claim 1 or 3, wherein the recording layer is made of a rare earth-transition metal alloy.
(5)記録層が前記第1の基板又は前記第2の基板の一
方に形成されたことを特徴とする請求項1又は3記載の
光ディスク。
(5) The optical disc according to claim 1 or 3, wherein a recording layer is formed on one of the first substrate and the second substrate.
(6)第1の基板、第2の基板、前記第1の基板と前記
第2の基板とを貼り合わせる接着層とからなり、前記基
板の上に薄膜を形成する工程と前記第1の基板と前記第
2の基板とを貼り合わせる工程とを有する光ディスクの
製造方法において、前記第1の基板又は前記第2の基板
に熱硬化性樹脂及び紫外線硬化性樹脂からなる接着剤を
塗布する工程、前記第1の基板と前記第2の基板とを貼
り合わせる工程、前記貼り合わせた基板に紫外線を照射
する紫外線照射工程、該紫外線照射工程の後に前記貼り
合わせた基板を加熱する工程とを有することを特徴とす
る光ディスクの製造方法。
(6) comprising a first substrate, a second substrate, and an adhesive layer for bonding the first substrate and the second substrate, forming a thin film on the substrate; and and the step of bonding the second substrate together, the step of applying an adhesive made of a thermosetting resin and an ultraviolet curable resin to the first substrate or the second substrate, The method includes the steps of bonding the first substrate and the second substrate, an ultraviolet irradiation step of irradiating the bonded substrates with ultraviolet rays, and a step of heating the bonded substrates after the ultraviolet irradiation step. A method for manufacturing an optical disc characterized by:
(7)基板の上に薄膜を形成する工程が、前記基板の上
に延在する第1の保護層を形成する工程、前記第1の保
護層の上に記録層を形成する工程、該記録膜の上に延在
する第2の保護層を形成する工程、前記第2の保護層の
上に延在し且つ前記基板に設けられたセンター穴より外
側でしかも前記基板の外径より内側の領域に反射層を形
成する工程、前記反射層の上に延在し且つ前記反射層及
び前記記録層の内径より内側でしかも前記反射層及び前
記記録層の外径より外側の領域に延在するセラミック層
を形成する工程とを有することを特徴とする請求項6記
載の光ディスクの製造方法。
(7) The step of forming a thin film on a substrate includes a step of forming a first protective layer extending on the substrate, a step of forming a recording layer on the first protective layer, and a step of forming a recording layer on the first protective layer. forming a second protective layer extending over the film; forming a second protective layer extending over the second protective layer outside a center hole provided in the substrate and inside an outer diameter of the substrate; forming a reflective layer in a region extending above the reflective layer and inside the inner diameter of the reflective layer and the recording layer and outside the outer diameter of the reflective layer and the recording layer; 7. The method of manufacturing an optical disc according to claim 6, further comprising the step of forming a ceramic layer.
(8)記録層が希土類−遷移金属合金からなることを特
徴とする請求項7記載の光ディスクの製造方法。
(8) The method for manufacturing an optical disc according to claim 7, wherein the recording layer is made of a rare earth-transition metal alloy.
(9)記録層が前記第1の基板又は前記第2の基板の一
方に形成されたことを特徴とする請求項7記載の光ディ
スクの製造方法。
(9) The method of manufacturing an optical disc according to claim 7, wherein the recording layer is formed on one of the first substrate and the second substrate.
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