JPH0318367B2 - - Google Patents
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- JPH0318367B2 JPH0318367B2 JP19842182A JP19842182A JPH0318367B2 JP H0318367 B2 JPH0318367 B2 JP H0318367B2 JP 19842182 A JP19842182 A JP 19842182A JP 19842182 A JP19842182 A JP 19842182A JP H0318367 B2 JPH0318367 B2 JP H0318367B2
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 14
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 14
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/08—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/25—Constructional features of resonators using surface acoustic waves
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は表面波装置に関し、より詳しくは、無
機質感光性基板を露光および現像処理して無機質
感光性基板の表面を伝播する弾性表面波の反射器
を形成するようにした弾性表面波装置に関するも
のである。
機質感光性基板を露光および現像処理して無機質
感光性基板の表面を伝播する弾性表面波の反射器
を形成するようにした弾性表面波装置に関するも
のである。
従来技術
圧電物質の表面にすだれ状電極を有する弾性表
面波（以下、単に表面波と記す。）装置は、
VHF、UHF領域において、構造が簡単で、小
形、低損失であるという利点を有する優れた電気
通信回路装置であり、その実用化が極めて有望視
されている。
面波（以下、単に表面波と記す。）装置は、
VHF、UHF領域において、構造が簡単で、小
形、低損失であるという利点を有する優れた電気
通信回路装置であり、その実用化が極めて有望視
されている。
従来より、この種の表面波装置としては、たと
えば第１図に示すように、水晶あるいはLi Nb
O3のような圧電結晶基板１１の表面上に表面波
送・受波用すだれ状電極１２を形成し、その両側
に表面波反射器１３，１４を形成したものが一般
に知られている。
えば第１図に示すように、水晶あるいはLi Nb
O3のような圧電結晶基板１１の表面上に表面波
送・受波用すだれ状電極１２を形成し、その両側
に表面波反射器１３，１４を形成したものが一般
に知られている。
上記表面波反射器１３，１４は圧電結晶基板１
１の表面に周期的に溝を設けたり、金属もしくは
誘電体の格子状薄膜を周期的に付着することによ
り、上記圧電結晶基板１１の表面上で音響インピ
ーダンスを周期的に変化させて、表面波の反射を
行う。
１の表面に周期的に溝を設けたり、金属もしくは
誘電体の格子状薄膜を周期的に付着することによ
り、上記圧電結晶基板１１の表面上で音響インピ
ーダンスを周期的に変化させて、表面波の反射を
行う。
圧電結晶基板１１の表面に上記のような溝を設
けるには、イオンエツチング等の装置を用いて選
択的に上記圧電結晶基板１１の表面を削つて得て
いる。このようにして圧電結晶基板１１に溝を形
成するには大規模なイオンエツチング装置が必要
で、しかも、このイオンエツチング処理に多大の
時間を費やすという欠点を有する。さらに、溝を
形成する工程は、すだれ状電極１２の形成工程と
異なるため、二度の微細パターン作製工程におけ
る目合せ誤差により、すだれ状電極１２と反射器
１３，１４の相対位置ずれが発生する。従つて損
失が増大して共振特性が劣化し好しくない。
けるには、イオンエツチング等の装置を用いて選
択的に上記圧電結晶基板１１の表面を削つて得て
いる。このようにして圧電結晶基板１１に溝を形
成するには大規模なイオンエツチング装置が必要
で、しかも、このイオンエツチング処理に多大の
時間を費やすという欠点を有する。さらに、溝を
形成する工程は、すだれ状電極１２の形成工程と
異なるため、二度の微細パターン作製工程におけ
る目合せ誤差により、すだれ状電極１２と反射器
１３，１４の相対位置ずれが発生する。従つて損
失が増大して共振特性が劣化し好しくない。
一方、誘電体の格子形被膜による表面波反射器
１３，１４は、通常、良好な反射効率を得るた
め、密度、もしくは弾性定数が、基板材料と大幅
に異なる薄膜材料を選択し、これを真空蒸着もし
くはスパツタリングで成膜し、その後、フオトエ
ツチングの手法で所望の格子状にエツチングして
形成する。この場合も、上記の溝形の表面波反射
器と同様、表面波反射器１３，１４はすだれ状電
極１２と形成工程を異にすることから発生する欠
点を有する。
１３，１４は、通常、良好な反射効率を得るた
め、密度、もしくは弾性定数が、基板材料と大幅
に異なる薄膜材料を選択し、これを真空蒸着もし
くはスパツタリングで成膜し、その後、フオトエ
ツチングの手法で所望の格子状にエツチングして
形成する。この場合も、上記の溝形の表面波反射
器と同様、表面波反射器１３，１４はすだれ状電
極１２と形成工程を異にすることから発生する欠
点を有する。
さらに、Li Nb O3のように圧電性の大きい基
板に対しては、表面波反射器１３，１４に金属薄
膜が用いられる。しかしながら、Li Nb O3は温
度安定度が悪く、これを用いた弾性波装置は実用
性に欠ける問題があつた。
板に対しては、表面波反射器１３，１４に金属薄
膜が用いられる。しかしながら、Li Nb O3は温
度安定度が悪く、これを用いた弾性波装置は実用
性に欠ける問題があつた。
発明の目的
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであつ
て、その目的は、無機質感光性基板を露光および
現像処理して表面波の反射用の溝を形成すること
により、表面波反射器の形成を容易にし、表面波
装置の製造の簡単化と特性の向上を図ることであ
る。
て、その目的は、無機質感光性基板を露光および
現像処理して表面波の反射用の溝を形成すること
により、表面波反射器の形成を容易にし、表面波
装置の製造の簡単化と特性の向上を図ることであ
る。
発明の要旨
このため、本発明は、平板状の無機質感光性基
板の主面の一部に圧電薄膜と、少なくとも一組の
インターデイジタル電極を形成する一方、上記圧
電薄膜の両側の無機質感光性基板を露光および現
像処理して互いにほぼ平行する複数本の溝からな
る表面波反射器を形成したことを特徴としてい
る。
板の主面の一部に圧電薄膜と、少なくとも一組の
インターデイジタル電極を形成する一方、上記圧
電薄膜の両側の無機質感光性基板を露光および現
像処理して互いにほぼ平行する複数本の溝からな
る表面波反射器を形成したことを特徴としてい
る。
実施例
以下、添付図面を参照して本発明の実施例を説
明する。
明する。
第２図において、２１は無機質感光性基板、２
２は圧電薄膜、２３は表面波送・受波用のすだれ
状のインターデイジタル電極、２４，２５は表面
波反射器である。
２は圧電薄膜、２３は表面波送・受波用のすだれ
状のインターデイジタル電極、２４，２５は表面
波反射器である。
上記無機質感光性基板２１は、たとえば、感光
性のガラスからなり、露光するとその部分が変色
し、変色部分が弗化水素酸等の現像液に溶けやす
くなる。
性のガラスからなり、露光するとその部分が変色
し、変色部分が弗化水素酸等の現像液に溶けやす
くなる。
上記無機質感光性基板２１は長方形状を有し、
その一方の主面の中央部に、Zn ＯもしくはAlN
等の圧電材料からなる四角形状の圧電薄膜２２を
形成し、その上にインターデイジタル電極２３を
フオトエツチングあるいはマスク蒸着等により形
成している。
その一方の主面の中央部に、Zn ＯもしくはAlN
等の圧電材料からなる四角形状の圧電薄膜２２を
形成し、その上にインターデイジタル電極２３を
フオトエツチングあるいはマスク蒸着等により形
成している。
上記インターデイジタル電極２３は複数のフイ
ンガー電極２６，２６，…を平行に形成し、これ
らフインガー電極２６，２６，…を一つおきに接
続して、無機質感光性基板２１に形成した引出電
極２７ａおよび２７ｂに夫々引き出している。
ンガー電極２６，２６，…を平行に形成し、これ
らフインガー電極２６，２６，…を一つおきに接
続して、無機質感光性基板２１に形成した引出電
極２７ａおよび２７ｂに夫々引き出している。
上記圧電薄膜２２の両側の無機質感光性基板２
１には、該無機質感光性基板２１を後述するよう
に露光および現像処理して、上記インターデイジ
タル電極２３のフインガ電極２６，２６，…に平
行する複数本の溝２８，２８，…からなる表面波
反射器２４，２５を夫々形成している。
１には、該無機質感光性基板２１を後述するよう
に露光および現像処理して、上記インターデイジ
タル電極２３のフインガ電極２６，２６，…に平
行する複数本の溝２８，２８，…からなる表面波
反射器２４，２５を夫々形成している。
上記表面波反射器２４，２５を構成する溝２
８，２８，…の巾およびピツチは、通常、数ミク
ロンのオーダであるが、これらは、表面波装置の
設定周波数により定まり、上記インターデイジタ
ル電極２３のフインガ電極２６，２６，…の巾や
ピツチに概略合わせる。
８，２８，…の巾およびピツチは、通常、数ミク
ロンのオーダであるが、これらは、表面波装置の
設定周波数により定まり、上記インターデイジタ
ル電極２３のフインガ電極２６，２６，…の巾や
ピツチに概略合わせる。
上記表面波反射器２４，２５の溝２８，２８，
…は次のようにして形成することができる。
…は次のようにして形成することができる。
先ず、第３図ａに示すように、第２図の表面波
装置の無機質感光性基板２１となる感光性ガラス
基板３１を用意し、この感光性ガラス基板３１の
表面波反射器２４，２５の溝２８，２８，…の形
成位置に、第３図ｂに示すように、紫外線３２を
投射して露光する。
装置の無機質感光性基板２１となる感光性ガラス
基板３１を用意し、この感光性ガラス基板３１の
表面波反射器２４，２５の溝２８，２８，…の形
成位置に、第３図ｂに示すように、紫外線３２を
投射して露光する。
この露光に際しては、たとえば、インターデイ
ジタル電極２３の形成時に、反射器２４，２５の
領域の溝２８以外の部分に、同時に金属薄膜を形
成させ、その金属薄膜をマスクとして溝２８の部
分を露光すれば、インターデイジタル電極２３と
溝２８との目あわせは問題なくできる。
ジタル電極２３の形成時に、反射器２４，２５の
領域の溝２８以外の部分に、同時に金属薄膜を形
成させ、その金属薄膜をマスクとして溝２８の部
分を露光すれば、インターデイジタル電極２３と
溝２８との目あわせは問題なくできる。
上記のように、紫外線３２が投射されると、感
光性ガラス基板３１はその部分が変色する。
光性ガラス基板３１はその部分が変色する。
次いで、上記感光性ガラス基板３１を弗化水素
酸等の現像液に浸漬すると、感光性ガラス基板３
１の変色部分が溶解し、第３図ｃに示すように、
溝２８，２８，…が形成される。
酸等の現像液に浸漬すると、感光性ガラス基板３
１の変色部分が溶解し、第３図ｃに示すように、
溝２８，２８，…が形成される。
このようにすれば、フオトレジストを使用する
ことなく、感光性ガラス基板３１に、直接、表面
波反射器２４，２５を形成することができる。上
記溝２８，２８，…の深さも、紫外線等の光の露
光量を調節することによつて、簡単に調整するこ
とができる。
ことなく、感光性ガラス基板３１に、直接、表面
波反射器２４，２５を形成することができる。上
記溝２８，２８，…の深さも、紫外線等の光の露
光量を調節することによつて、簡単に調整するこ
とができる。
本発明は、第２図の電極構造を有する表面波装
置に限定されず、他の電極構造を有する表面波装
置に広く適用可能である。
置に限定されず、他の電極構造を有する表面波装
置に広く適用可能である。
たとえば、インターデイジタル電極２３は、圧
電薄膜２２と無機質感光性基板２１との間に形成
されていてもよい。
電薄膜２２と無機質感光性基板２１との間に形成
されていてもよい。
また、圧電薄膜２２は溝２８を含む基板２１の
全面にわたつて付着していてもよい。
全面にわたつて付着していてもよい。
発明の効果
以上、詳述したことからも明らかなように、本
発明は、無機質感光性基板を使用して表面波装置
の表面波の反射器の溝を形成するようにしたか
ら、無機質感光性基板自体を露光および現像処理
して反射器の溝を形成することができ、反射器の
形成がきわめて容易となる。
発明は、無機質感光性基板を使用して表面波装置
の表面波の反射器の溝を形成するようにしたか
ら、無機質感光性基板自体を露光および現像処理
して反射器の溝を形成することができ、反射器の
形成がきわめて容易となる。
また、無機質感光性基板は表面弾性波の減衰定
数が小さく、高周波域での伝播ロスが小さい表面
波装置を得ることができる。
数が小さく、高周波域での伝播ロスが小さい表面
波装置を得ることができる。
第１図は従来の表面波装置の斜視図、第２図は
本発明に係る表面波装置の一実施例の斜視図、第
３図ａ、第３図ｂおよび第３図ｃは夫々第２図の
表面波装置の反射器の形成工程の説明図である。 ２１…無機質感光性基板、２２…圧電薄膜、２
３…インターデイジタル電極、２４，２５…反射
器、２８…溝、３１…感光性ガラス基板、３２…
紫外線。
本発明に係る表面波装置の一実施例の斜視図、第
３図ａ、第３図ｂおよび第３図ｃは夫々第２図の
表面波装置の反射器の形成工程の説明図である。 ２１…無機質感光性基板、２２…圧電薄膜、２
３…インターデイジタル電極、２４，２５…反射
器、２８…溝、３１…感光性ガラス基板、３２…
紫外線。
Claims (1)
- １ 平板状の無機質感光性基板の主面に圧電薄膜
と、少くとも一組のインターデイジタル電極を形
成する一方、上記無機質感光性基板の主面を露光
および現像処理して互いにほぼ平行する複数本の
溝からなる表面波反射器を形成したことを特徴と
する表面波装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19842182A JPS5986917A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 表面波装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19842182A JPS5986917A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 表面波装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5986917A JPS5986917A (ja) | 1984-05-19 |
| JPH0318367B2 true JPH0318367B2 (ja) | 1991-03-12 |
Family
ID=16390823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19842182A Granted JPS5986917A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 表面波装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5986917A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3206285B2 (ja) * | 1994-03-25 | 2001-09-10 | 株式会社村田製作所 | 端面反射型表面波共振子 |
| JP4921032B2 (ja) * | 2006-05-09 | 2012-04-18 | 株式会社岡本工作機械製作所 | クラウニングロ−ルの溝加工方法 |
-
1982
- 1982-11-11 JP JP19842182A patent/JPS5986917A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5986917A (ja) | 1984-05-19 |
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