JPH03184338A - 純水引き上げ乾燥装置 - Google Patents
純水引き上げ乾燥装置Info
- Publication number
- JPH03184338A JPH03184338A JP32343889A JP32343889A JPH03184338A JP H03184338 A JPH03184338 A JP H03184338A JP 32343889 A JP32343889 A JP 32343889A JP 32343889 A JP32343889 A JP 32343889A JP H03184338 A JPH03184338 A JP H03184338A
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Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野］
本発明は、半導体のシリコン基板、フォトマスク、液晶
パネルのガラス基板、光学レンズ等（以下、単に基板と
いう）の洗浄後の乾燥工程に用いる純水引き上げ乾燥装
置に関する。
パネルのガラス基板、光学レンズ等（以下、単に基板と
いう）の洗浄後の乾燥工程に用いる純水引き上げ乾燥装
置に関する。
従来の純水引き上げ乾燥装置について第４図で説明する
。純水加熱ユニット１５ニヨリ加温された純水は、純水
槽１に純水供給バイブ２より供給され分散板３により拡
散して槽内を流動する。純水槽１に純水が満たされると
、純水槽１の上部より純水はあふれ、オーバーフローし
た純水はオーバーフロー槽４で受け、排水バイブ５より
排出される。一方、基板６はカセット７にセットされ、
これをカゴ８で受けている。これらをロボットアーム９
に取り付け、ロボット１０で上下動を行う。基板の引き
上げ時は、まず第４図のように基板６を純水槽ｌに完全
に沈めた状態から、毎秒１〜１０ｍｍという微低速で引
き上げ、純水の表面張力を利用して基板に付着する水滴
を極力排除する。この引き上げを行うときに純水槽ｌの
純水をオーバーフローさせた状態だと、純水が純水加熱
ユニット１５で加熱された時に発生した水蒸気の泡が、
温純水に混ざって純水槽に供給されるため、この泡が純
水槽１の水面を出るときに水面が波立ちをおこす、水面
に波立ちがあると、基板６に水滴が残り易くなり、しま
模様のじみが残ったりして乾燥品質が落ちる。従って基
板引き上げ前は純水を供給してオーバーフローさせるが
、基板引き上げ時はバルブ１１で純水の供給をストップ
し、水面を静止させて基板の引き上げを行っていた。
。純水加熱ユニット１５ニヨリ加温された純水は、純水
槽１に純水供給バイブ２より供給され分散板３により拡
散して槽内を流動する。純水槽１に純水が満たされると
、純水槽１の上部より純水はあふれ、オーバーフローし
た純水はオーバーフロー槽４で受け、排水バイブ５より
排出される。一方、基板６はカセット７にセットされ、
これをカゴ８で受けている。これらをロボットアーム９
に取り付け、ロボット１０で上下動を行う。基板の引き
上げ時は、まず第４図のように基板６を純水槽ｌに完全
に沈めた状態から、毎秒１〜１０ｍｍという微低速で引
き上げ、純水の表面張力を利用して基板に付着する水滴
を極力排除する。この引き上げを行うときに純水槽ｌの
純水をオーバーフローさせた状態だと、純水が純水加熱
ユニット１５で加熱された時に発生した水蒸気の泡が、
温純水に混ざって純水槽に供給されるため、この泡が純
水槽１の水面を出るときに水面が波立ちをおこす、水面
に波立ちがあると、基板６に水滴が残り易くなり、しま
模様のじみが残ったりして乾燥品質が落ちる。従って基
板引き上げ前は純水を供給してオーバーフローさせるが
、基板引き上げ時はバルブ１１で純水の供給をストップ
し、水面を静止させて基板の引き上げを行っていた。
しかし、基板の引き上げ時に純水の供給を止めて水面を
静止させると、液中のパーティクルは上層部分に滞留す
るし、気中のパーティクルも水面上に捕捉され漂うため
、水面上ではパーティクルの濃度がきわめて高くなる。
静止させると、液中のパーティクルは上層部分に滞留す
るし、気中のパーティクルも水面上に捕捉され漂うため
、水面上ではパーティクルの濃度がきわめて高くなる。
この状態で基板を引き上げて行くと、基板近傍の水面表
層は基板の上昇と共に基板表面に引き寄せられ、基板は
水面表層のパーティクルをくっつけながら上昇すること
となり、その分乾燥品質が落ちるという問題点を有する
。そこで、本発明は従来のこのような問題点を解決する
ため、純水槽に純水を供給する前に純水中の泡を除去し
て供給する、ちしくは純水槽に純水を供給後続水槽で純
水中の泡を除去することにより、純水槽の純水を常にオ
ーバーフローさせながら基板の引き上げを行なえるよう
にし、乾燥品質の向上を図ることを目的とする。
層は基板の上昇と共に基板表面に引き寄せられ、基板は
水面表層のパーティクルをくっつけながら上昇すること
となり、その分乾燥品質が落ちるという問題点を有する
。そこで、本発明は従来のこのような問題点を解決する
ため、純水槽に純水を供給する前に純水中の泡を除去し
て供給する、ちしくは純水槽に純水を供給後続水槽で純
水中の泡を除去することにより、純水槽の純水を常にオ
ーバーフローさせながら基板の引き上げを行なえるよう
にし、乾燥品質の向上を図ることを目的とする。
［課題を解決するための手段］
上記課題を解決するため、本発明の純水引き上げ乾燥装
置は、純水槽から基板を微低速で引き上げて乾かす純水
引き上げ乾燥装置において、純水槽に供給する純水中の
泡を除去する機能を備えたことを特徴とする。
置は、純水槽から基板を微低速で引き上げて乾かす純水
引き上げ乾燥装置において、純水槽に供給する純水中の
泡を除去する機能を備えたことを特徴とする。
［作 用〕
上記のように純水中の泡を除去することにより、純水槽
の純水を常にオーバーフローさせながら基板を引き上げ
られるので、水面表層に滞留するパーティクル濃度が低
減でき、基板に付着するパーティクルの数ち減るので基
板の乾燥品質が向上する。
の純水を常にオーバーフローさせながら基板を引き上げ
られるので、水面表層に滞留するパーティクル濃度が低
減でき、基板に付着するパーティクルの数ち減るので基
板の乾燥品質が向上する。
［実 施 例］
以下に本発明の実施例を図面にもとづいて説明する。第
１図に於て、純水加熱ユニット１５により加温され、水
蒸気の泡のまざった純水は純水槽１に入る前に、泡除去
槽１２にて温純水中の泡を分離する。泡は泡除去槽１２
の上部に移動して泡排出バイブ１３より排出され、温純
水は純水中に泡がない状態で純水槽ｌに供給される。こ
れによって純水中の泡による純水槽１の水面の波立ちが
なくなるため、純水槽１の純水を常にオーバーフローさ
せながら基板６を引き上げることができる。これにより
純水槽１の水面表層のパーティクルが低減でき、基板６
の乾燥品質が向上した１本実施例では、純水槽１に入る
前に泡を除去しているが第２図に示すような泡の除去の
方法もある。
１図に於て、純水加熱ユニット１５により加温され、水
蒸気の泡のまざった純水は純水槽１に入る前に、泡除去
槽１２にて温純水中の泡を分離する。泡は泡除去槽１２
の上部に移動して泡排出バイブ１３より排出され、温純
水は純水中に泡がない状態で純水槽ｌに供給される。こ
れによって純水中の泡による純水槽１の水面の波立ちが
なくなるため、純水槽１の純水を常にオーバーフローさ
せながら基板６を引き上げることができる。これにより
純水槽１の水面表層のパーティクルが低減でき、基板６
の乾燥品質が向上した１本実施例では、純水槽１に入る
前に泡を除去しているが第２図に示すような泡の除去の
方法もある。
この場合純水槽ｌの底より供給された純水中の泡は、純
水供給バイブ２の出口の上にある泡除去ボックス１４に
入り、泡排出バイブ１３より純水槽１の外に排出される
。又他の方法として第３図に示すような方法ちある、泡
除去槽１２に供給された純水中の泡は、泡除去槽１２の
上部より排出され、純水は泡除去槽１２よりオーバーフ
ローされ中間槽１６に入り、中間槽１６の下から純水槽
１に供給される。または泡除去槽１２を設けないで、中
間槽１６より純水を供給して純水中の泡を中間槽１６の
上部より排出し、純水を中間槽１６の下から純水槽ｌに
供給する方法もある。
水供給バイブ２の出口の上にある泡除去ボックス１４に
入り、泡排出バイブ１３より純水槽１の外に排出される
。又他の方法として第３図に示すような方法ちある、泡
除去槽１２に供給された純水中の泡は、泡除去槽１２の
上部より排出され、純水は泡除去槽１２よりオーバーフ
ローされ中間槽１６に入り、中間槽１６の下から純水槽
１に供給される。または泡除去槽１２を設けないで、中
間槽１６より純水を供給して純水中の泡を中間槽１６の
上部より排出し、純水を中間槽１６の下から純水槽ｌに
供給する方法もある。
［発明の効果］
本発明の純水中の泡を除去する機能を設けた純水引き上
げ乾燥装置は、純水中の泡による純水槽の水面の波立ち
がないので、純水槽の純水を常にオーバーフローさせな
がら基板の引き上げを行える為、水面表層のパーティク
ルを低減でき基板の乾燥品質を向上させる効果がある。
げ乾燥装置は、純水中の泡による純水槽の水面の波立ち
がないので、純水槽の純水を常にオーバーフローさせな
がら基板の引き上げを行える為、水面表層のパーティク
ルを低減でき基板の乾燥品質を向上させる効果がある。
第１図、第２図及び第３図は、本発明の純水中の泡を除
去する機能を備えた純水引き上げ乾燥装置の概略図。 第４図は従来の純水引き上げ乾燥装置の概略図。 １・・・純水槽 ２・・・純水供給バイブ ３・・・分散板 ４・・・オーバーフロー槽 ５ ・ ６ ・ ７ ・ ８ ・ ９ ・ １０ ・ １１ ・ ｌ ２ ・ １３ ・ １４ ・ ｌ ５ ・ ｌ ６ ・ ・排水パイプ ・基板 ・カセット ・カゴ ・ロボットアーム ・ロボット ・バルブ ・泡除去槽 ・泡排出パイプ ・泡除去ボックス ・純水加熱ユニット ・中間槽
去する機能を備えた純水引き上げ乾燥装置の概略図。 第４図は従来の純水引き上げ乾燥装置の概略図。 １・・・純水槽 ２・・・純水供給バイブ ３・・・分散板 ４・・・オーバーフロー槽 ５ ・ ６ ・ ７ ・ ８ ・ ９ ・ １０ ・ １１ ・ ｌ ２ ・ １３ ・ １４ ・ ｌ ５ ・ ｌ ６ ・ ・排水パイプ ・基板 ・カセット ・カゴ ・ロボットアーム ・ロボット ・バルブ ・泡除去槽 ・泡排出パイプ ・泡除去ボックス ・純水加熱ユニット ・中間槽
Claims (1)
- 純水槽から基板を微低速で引き上げて乾かす純水引き上
げ乾燥装置において、純水槽に供給する純水中の泡を除
去する機能を備えたことを特徴とする純水引き上げ乾燥
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32343889A JPH03184338A (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 純水引き上げ乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32343889A JPH03184338A (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 純水引き上げ乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03184338A true JPH03184338A (ja) | 1991-08-12 |
Family
ID=18154674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32343889A Pending JPH03184338A (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 純水引き上げ乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03184338A (ja) |
-
1989
- 1989-12-13 JP JP32343889A patent/JPH03184338A/ja active Pending
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