JPH03184890A - 電極パターンの形成法 - Google Patents

電極パターンの形成法

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JPH03184890A
JPH03184890A JP1326321A JP32632189A JPH03184890A JP H03184890 A JPH03184890 A JP H03184890A JP 1326321 A JP1326321 A JP 1326321A JP 32632189 A JP32632189 A JP 32632189A JP H03184890 A JPH03184890 A JP H03184890A
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信幸 吉池
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善博 渡辺
Akiyoshi Hattori
章良 服部
Kiyoaki Imoto
井元 清明
Akihiko Yoshida
昭彦 吉田
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業−1−の利用分野 本発明はハイブリットI C,サーマルヘッド、液晶表
示装置等の平板デイスプレィ等に用いられる電極パター
ン形成法に関するものであも従来の技術 従来 導電性パターン電極に(よ 基板上に蒸着、スパ
ッタリングのような真空薄膜形成プロセスにより金属の
導電性薄膜を形+1iiL  ホトリソエツチング法を
もちいてパターン形成した薄膜型のパターン電極と、基
板上にスクリーン印刷法により印刷した後、焼成するこ
とにより形成した厚膜型のパターン電極の2つのタイプ
が有り、前者はサーマルヘッドミ 液晶表示装置等の平
板デイスプレィ等に用いられ また 後者はハイブリッ
トIC等に良く用いられていも 発明が解決しようとする課題 」二に述べた二つの種類のパターン電極にはそれぞれ長
所と短所を有する。すなわ転 薄膜型はパターン精度は
高いという長所を有する爪 薄膜プロセスをもちいるた
めの設備コスト、バッチ生産などの生産法 低コスト化
の点から解決するべき問題点が多(t 一方、厚膜型は印刷焼成法を用いることから設備コスト
が低いこと、連続生産が容易なことなど利点が多賎 し
かし 従来のスクリーン印刷法によるパターン精度は±
50μm程度であり、パターン精度に問題があっtも 本発明は上記課題を解消することを目的とすも課題を解
決するための手段 本発明は金属の有機化合惧 樹脂および溶剤より主とし
て構成される印刷インキを用いて水無平版によりインキ
を被写体である基板上にパターン状に転写印刷し 焼成
することにより電極群を形成することを特徴とすも 作用 本発明によれば 高密度の電極パターンを直接パターン
印刷形成することが可能で、ホトリソエツチング工程を
簡略化でき従来のパターン電極よりさらに低コストで高
密度の電極を得ることが出来る。
実施例 (実施例−1〉 アルミナ基板上に金の有機化合物を主体とした混合有機
金属化合物 樹脂および溶剤より主として構成される印
刷インキをゴムローラを用いて水無平版(東し 製)上
の凹部に供給し 次いで凹部のインキを転写ブランケッ
ト上に転写せしめた後、該ブランケット上のインキを被
写体である基板1・にライン&スペース50μmの千鳥
状に印刷し 乾燥後700℃で焼成することにより導電
性パターン電極を形成した インキの転移量は転写厚3μmで焼成後の電極厚は0.
2μmであった 電極は設計パターン中25μmライン/25μmスペー
スに対して、 30μmライン/20μmスペースが形
成でき、スクリーン印刷では形成できないファインパタ
ーンが水無平版法を用いて金属の有機化合物をインキ化
することにより遠戚できることが分った な叙 有機金属化合物としては炭素数が20までの低級
脂肪酸のエステ)Q  アルコラード、メルカプチドミ
 多環式有機金属化合徴 その他のレジネI・、ロジネ
ート、の単体もしくはいずれかの混合物が好ましかった (実施例−2) 実施例1において、混合有機金属化合物として、焼成後
の含有金属重量比で金が80部〜98敵ビスマスがO部
〜5訊 ロジュウムが0部〜1゜餓 バナジュウムが0
部〜5部の混合有機金属化合物を用いることにより、製
膜性のよL\ なおかつ、導電性の高い金の導電性パタ
ーン電極が得られることが分った また 基板としてガラス基板 ガラスグレーズ基板を用
いた場合には さらに シリコンが0部〜8部 鉛が0
部〜8部を添加することにより基板との付着力を向上さ
せることが明かとなツ’F。
金電極用の最適な有機金属化合物としてζよ 焼成後の
含有金属重量比で金が88部〜98敵 シリコンが0.
011部〜5部鉛が0.055部〜2部ビスマスが0.
 5部〜3舐 ロジュウムが0部〜5部の混合有機金属
化合物が好ましかった(実施例−3) 有機金属化合物として、実施例1の金にかえて、白を、
銀、ニッケル、タングステン、モリブデン、チタン、タ
ンタルの有機金属化合物をインキ化し爪無平版法で印刷
し 半還元雰囲気にて焼成することによりそれぞれの金
属電極が得られ丸製膜助相として(よ 実施例2に示し
た例の他にクロ人、シリコン、アルミニラへ ジルコニ
ラへヂクン、硼素が効果的であった (実施例−4) インジュウムとスズの有機金属化合物をインキ化し 実
施例1に示した方法と同様にガラス基板上に爪無平版法
で印刷し 約550℃で空気中で焼成することにより、
透明の導電性パターン電極が得られた 有機金属化合物
としてC友  焼成後の含有金属重量比でインジュウム
が90部〜98敵スズが0.5部〜10敵 鉛が0部〜
IK  シリコンが0部〜1敵 アンチモンが0部〜1
部の混合有機金属化合物が好ましかった 該透明導電性パターン電極基板を用いて単純マトリック
ス型液晶素子を作製したとこ& 従来品と間等の表示装
置が出来た (実施例−5) ルテニュウムの有機金属化合物を製膜助材としてのシリ
コン、ジルコニラへ 硼魚 ビスマ入鉛の有機金属化合
物と共にインキ化し 実施例1に小した方法と同様に基
板上に爪無平版法で印刷し、空気中で焼成することによ
り、酸化ルテニウムの導電性パターン電極が得られた 
該パターン電極は抵抗体として利用できた (実施例−6) インキ化に必要な樹脂として、天然僧服 天然樹脂誘導
体 フェノール僧服 ロジン変性フェノル&J BL 
 キシレン樹脂 メラミン僧服 ケトン樹脂 テルペン
僧服 環化ゴム 塩化ゴん アルキッド樹B’tL  
ポリアミド僧服 アクリル樹111.  ポリ塩化ビニ
ル僧服 ポリ酢酸ビニノk ポリビニルアルコール、エ
ポキシ樹Jl!、  ポリビニルブチラール、ポリウレ
タン、セルロース誘導体が利用でき、特には有機金属化
合物と相溶性がよくインキ化に優れた樹脂としてl、l
t、  天然樹脂 フェノール僧服ロジン変性フェノー
ル僧服 アルキッド僧服 ロジン変性アルキッド樹脂 
アクリル僧服 ポリビニルアルコ−に、  エポキシ樹
脂でありん(実施例−7) 迅1図に示す様に 50/ljm〜100μmのガラス
グレーズ層(12)を有する厚さ0.801111のア
ルミナ基板(11)の上に実施例2に示した組成の混合
有機金属化金敷 ロジン変性樹脂および石油系溶−〇− 剤より主として構成される印刷インキを水無平版印刷法
により81ines/imの千鳥型の電極パターン状に
印刷し 乾燥後焼成することにより電極(13)を形成
した 以上の成膜法により電極群を形成後、RuO2フ
リットペーストのスクリーン開扉1上  焼成によって
ライン状の抵抗体(14)を形成じ このうえに最後に
ガラスペーストの印刷焼成により耐磨耗層(約5μm)
(15)を形成した作製後の各ドツト抵抗値の抵抗値ば
らつきは±13%であり、それぞれのドツトの抵抗値を
通電過負荷トリミング法(発熱抵抗体の自己発生ジュー
ル処により抵抗値を調整する方法)を用いてトリミング
することにより、発熱部の抵抗値を±2%以内にそろえ
た抵0.4W/dot、1/4duty、16m5/c
ycleの駆動条件で感熱紙に印字した結電 均一な印
字が出来た (実施例−8) 第2図に示す様番へ 50μm−100μmのガラスグ
レーズ層(22)を有する厚さ0.8n+mのアルミナ
基板(21)の上に実施例2に示した組成の混−10= 合有機金属化合4独 ロジン変性樹脂および石油系溶剤
より主として構成される印刷インキを爪無平版印刷法に
より81ines/mmの対向電極パターン状に印刷し
 乾燥後焼成することにより電極(23)を形成した 
以上の成膜法により電極群を形成後、実施例5に記載し
た方法を用いてRuO2のスドット状の抵抗体(24)
を形tL、、  このうえに最後にガラスペーストの印
刷焼成により耐磨耗層(約5μrn)(25)を形成し
た 作製後の各ドツト抵抗値の抵抗値ばらつきは±8%であ
り、特にトリミングをしなくても良好な印字が得られた 発明の効果 以上のように 本発明によれば 金属の有機化合1扱 
樹脂および溶剤より主として構成される印刷インキを用
いて爪無平版によりインキを被写体である基板上にパタ
ーン状に転写印刷し 焼成することにより、精度良く高
密度の電極パターンをi+’a−、+3パターン印刷形
戊することが可能となり、ホトリソエツチング工程を簡
略化でき低コストで高11− 密度の導電性パターン電極を連続的に生産できる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図Cヨ  本発明の一実施例の導電性
パターン電極の構成図である。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)金属の有機化合物、樹脂および溶剤より主として
    構成される印刷インキをゴムローラを用いて水無平版上
    の凹部に供給し、次いで凹部のインキを転写ブランケッ
    ト上に転写せしめた後、前記ブランケット上のインキを
    被写体である基板上にパターン状に転写印刷し、焼成す
    ることにより電極群を形成したことを特徴とする電極パ
    ターンの形成法。
  2. (2)白金族元素、金、銀、ニッケル、クロム、シリコ
    ン、ゲルマニウム、タンタル、アルミニウム、ジルコニ
    ウム、チタン、硼素、ビスマス、バナジウム、鉛、イン
    ジウム、スズ、タングステン、モリブデンから選ばれた
    有機金属化合物を用いることを特徴とする請求項1記載
    の電極パターンの形成法。
  3. (3)有機金属化合物が炭素数が20までの低級脂肪酸
    のエステル、アルコラード、メルカプチド、多環式有機
    金属化合物、その他のレジネート、ロジネート、の単体
    もしくはいずれかの混合物であることを特徴とする請求
    項2記載の電極パターンの形成法。
  4. (4)樹脂が天然樹脂、フェノール樹脂、ロジン変性フ
    ェノール樹脂、アルキッド樹脂、ロジン変性アルキッド
    樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、エポキシ
    樹脂であることを特徴とする請求項2記載の電極パター
    ンの形成法。
  5. (5)有機金属化合物として、焼成後の含有金属重量比
    で金が88部〜98部、シリコンが0.01部〜5部、
    鉛が0.05部〜2部、ビスマスが0.5部〜3部、ロ
    ジニウムが0部〜5部の混合有機金属化合物と樹脂およ
    び溶剤より主として構成される印刷インキを水無平版印
    刷法を用いて基板上にパターン状に印刷し、焼成するこ
    とにより形成したことを特徴とする請求項2記載の電極
    パターンの形成法。
  6. (6)有機金属化合物として、焼成後の含有金属重量比
    でインジュウムが90部〜98部、スズが0.5部〜1
    0部、鉛が0部〜1部、シリコンが0部〜1部、アンチ
    モンが0部〜1部の混合有機金属化合物と樹脂および溶
    剤より主として構成される印刷インキを水無平版印刷法
    を用いて基板上にパターン状に印刷し、焼成することに
    より形成したことを特徴とする請求項2記載の電極パタ
    ーンの形成法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5695571A (en) * 1993-06-01 1997-12-09 Fujitsu Limited Cleaning method using a defluxing agent
US6050479A (en) * 1993-06-01 2000-04-18 Fujitsu, Ltd. Defluxing agent cleaning method and cleaning apparatus
US7311937B2 (en) * 2001-10-31 2007-12-25 Seiko Epson Corporation Method for forming a line pattern, line pattern, and electro-optic device

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