JPH03184933A - ヘミアセタール化合物の製造方法 - Google Patents
ヘミアセタール化合物の製造方法Info
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- JPH03184933A JPH03184933A JP32314289A JP32314289A JPH03184933A JP H03184933 A JPH03184933 A JP H03184933A JP 32314289 A JP32314289 A JP 32314289A JP 32314289 A JP32314289 A JP 32314289A JP H03184933 A JPH03184933 A JP H03184933A
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- -1 hemiacetal compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 15
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 13
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 8
- HFFLGKNGCAIQMO-UHFFFAOYSA-N trichloroacetaldehyde Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C=O HFFLGKNGCAIQMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 7
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 7
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000007701 flash-distillation Methods 0.000 claims abstract description 4
- 229940029273 trichloroacetaldehyde Drugs 0.000 claims abstract description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 10
- 150000002373 hemiacetals Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic acid Substances OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 9
- 235000011148 calcium chloride Nutrition 0.000 description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- JVTSHOJDBRTPHD-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroacetaldehyde Chemical compound FC(F)(F)C=O JVTSHOJDBRTPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 238000002144 chemical decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 150000002271 geminal diols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- XXMFJKNOJSDQBM-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroacetic acid;hydrate Chemical compound [OH3+].[O-]C(=O)C(F)(F)F XXMFJKNOJSDQBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021564 Chromium(III) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006359 acetalization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004683 dihydrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- VBZWSGALLODQNC-UHFFFAOYSA-N hexafluoroacetone Chemical compound FC(F)(F)C(=O)C(F)(F)F VBZWSGALLODQNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 238000005185 salting out Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K trifluorochromium Chemical compound F[Cr](F)F FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、それ自身医薬、農薬の中間原料として有用で
あるとともに、同様に医薬、農薬の中間原料として有用
なトリフルオロアセトアルデヒドを安定的に保存するた
めの化合物であるヘミアセタール化合物の製造方法に関
するものである。
あるとともに、同様に医薬、農薬の中間原料として有用
なトリフルオロアセトアルデヒドを安定的に保存するた
めの化合物であるヘミアセタール化合物の製造方法に関
するものである。
［従来技術とその解決しようとする課題］トリフルオロ
アセトアルデヒド（以下、ＴＦＡと略す。）は、分解、
重合反応を起こし易い不安定な物質であり、通常は取扱
が容易なＴＰＡ−２８２０として運搬、貯蔵されるが、
長期間の保存中不溶物を生成することがある。
アセトアルデヒド（以下、ＴＦＡと略す。）は、分解、
重合反応を起こし易い不安定な物質であり、通常は取扱
が容易なＴＰＡ−２８２０として運搬、貯蔵されるが、
長期間の保存中不溶物を生成することがある。
一般に、反応性の高いカルボニル基を有する化合物は、
安定化のためｇｅｍ−ジオール化、ヘミアセタール化（
カルボニル基の保護）することが行われている。ｇｅｍ
−ジオールとして表わすことのできるＴＦＡ−Ｈ２Ｏの
へ室アセタール化は下式のように可逆的に進行する。
安定化のためｇｅｍ−ジオール化、ヘミアセタール化（
カルボニル基の保護）することが行われている。ｇｅｍ
−ジオールとして表わすことのできるＴＦＡ−Ｈ２Ｏの
へ室アセタール化は下式のように可逆的に進行する。
（Ｒ＝ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、Ｃ３Ｈ７）
従来の方法としては、ｇｅｍ−ジオール化合物であるＴ
ＦＡ−Ｈ２０を等モルの水に溶解して得られるＴＦＡ−
２Ｈ２０のエチルへミアセタール化が挙げられる。
ＦＡ−Ｈ２０を等モルの水に溶解して得られるＴＦＡ−
２Ｈ２０のエチルへミアセタール化が挙げられる。
ＴＦＡ−２８２０のエチルへミアセクール化は、エタノ
ールを１倍当量以上添加することにより、平衡反応的に
約６７モル％まで進行する。一方、エタノールと水が共
沸組成Ｃ２Ｈ６０Ｈ／ Ｈ２０（モル比）・８９．５／
１０．５を持つことを利用して、エタノール大過剰で蒸
留を行えば水の除去ができ、ＴＦＡからのエチルへミア
セクール化合物（以下、ＴＦＡ−ＥｔＯＨと略す。）を
容易に生成することができる。このＴＦＡ−ＥｔＯＨは
エタノールと沸点１０３℃で共沸し、共沸組成ＴＦＡ−
ＥｔＯＨ／ＥｔＯＨ（モル比）＝８２／１２のものが留
分として得られることが知られている。［Ｃｈｅｍｉｓ
ｃｈｅ Ｂｅｒｉｃｈｔｅ １０６゜２９６７ （１９
７３） ］ しかし、この方法ではエタノールを大過剰必要とするだ
けでなく、処理後のエタノールの脱水設備に多大のコス
トがかかる。
ールを１倍当量以上添加することにより、平衡反応的に
約６７モル％まで進行する。一方、エタノールと水が共
沸組成Ｃ２Ｈ６０Ｈ／ Ｈ２０（モル比）・８９．５／
１０．５を持つことを利用して、エタノール大過剰で蒸
留を行えば水の除去ができ、ＴＦＡからのエチルへミア
セクール化合物（以下、ＴＦＡ−ＥｔＯＨと略す。）を
容易に生成することができる。このＴＦＡ−ＥｔＯＨは
エタノールと沸点１０３℃で共沸し、共沸組成ＴＦＡ−
ＥｔＯＨ／ＥｔＯＨ（モル比）＝８２／１２のものが留
分として得られることが知られている。［Ｃｈｅｍｉｓ
ｃｈｅ Ｂｅｒｉｃｈｔｅ １０６゜２９６７ （１９
７３） ］ しかし、この方法ではエタノールを大過剰必要とするだ
けでなく、処理後のエタノールの脱水設備に多大のコス
トがかかる。
一方、原料となるＴＦＡ永和物の製造は一般にトリクロ
ロアセトアルデヒド（ＴＣＡと略す）を例えばクロム系
触媒の存在下にフッ化水素によりフッ素化することによ
り得られているものであるが、この際、完全にフッ素化
されていない低次フッ素化物が０．１〜１０％程度含ま
れているものである。
ロアセトアルデヒド（ＴＣＡと略す）を例えばクロム系
触媒の存在下にフッ化水素によりフッ素化することによ
り得られているものであるが、この際、完全にフッ素化
されていない低次フッ素化物が０．１〜１０％程度含ま
れているものである。
そのため、純粋なＴＦＡ永和物を得るためには過剰に用
いられるフッ化水素、反応にまり生成する塩化水素およ
びこの低次フッ素化物を除去する必要がある。
いられるフッ化水素、反応にまり生成する塩化水素およ
びこの低次フッ素化物を除去する必要がある。
低次フッ素化物の除去方法として、ＴＦＡ永和物および
低次フッ素化物の水和物の蒸留のよる精製は困難である
。また、低次フッ素化物のアルカリによる化学分解操作
により得られる液状混合物の塩析による二層分離が類似
のへキサフルオロアセトンのようにはおきないためにこ
の方法は、ＴＦＡ水和物には適用できないとされていた
。そのため、ＴＣＡの触媒フッ素化反応により得られる
反応生成ガスから純粋なＴＦＡ水和物を得る方法として
は特公昭６３−１９４９４号公報に、無水の条件下でま
ずフッ化水素を除去し、次いで反応生成物ガスをメタノ
ールに吸収させ、粗へミアセタールとし、これを蒸留精
製することにより塩化水素および低次フッ素化物等の副
生物を除去し精製へミアセクールとし、次いで蒸留塔中
において水を接触させ、塔頂からメタノール、缶底から
ＴＦＡ氷和物を回収することにより純粋なＴＰＡ水和物
を得る方法が示されている。この方法によれば、先ずヘ
ミアセタールの精製物が得られるため、ヘミアセタール
を得たい場合には、この段階で反応を終了させればよい
が、この方法においては、フッ化水素の除去を無水の条
件下でおこなうものであり、具体的な記載はないが、一
般には、フッ化ナトリウム等を用いる方法が知られてい
るが、この方法では処理能力、後処理等に問題がある。
低次フッ素化物の水和物の蒸留のよる精製は困難である
。また、低次フッ素化物のアルカリによる化学分解操作
により得られる液状混合物の塩析による二層分離が類似
のへキサフルオロアセトンのようにはおきないためにこ
の方法は、ＴＦＡ水和物には適用できないとされていた
。そのため、ＴＣＡの触媒フッ素化反応により得られる
反応生成ガスから純粋なＴＦＡ水和物を得る方法として
は特公昭６３−１９４９４号公報に、無水の条件下でま
ずフッ化水素を除去し、次いで反応生成物ガスをメタノ
ールに吸収させ、粗へミアセタールとし、これを蒸留精
製することにより塩化水素および低次フッ素化物等の副
生物を除去し精製へミアセクールとし、次いで蒸留塔中
において水を接触させ、塔頂からメタノール、缶底から
ＴＦＡ氷和物を回収することにより純粋なＴＰＡ水和物
を得る方法が示されている。この方法によれば、先ずヘ
ミアセタールの精製物が得られるため、ヘミアセタール
を得たい場合には、この段階で反応を終了させればよい
が、この方法においては、フッ化水素の除去を無水の条
件下でおこなうものであり、具体的な記載はないが、一
般には、フッ化ナトリウム等を用いる方法が知られてい
るが、この方法では処理能力、後処理等に問題がある。
［課題を解決するための手段］
本発明者らは、かかる問題点を解決すべく鋭意検討し、
ＴＣＡからヘミアセタール化合物を効率よく得る方法を
見出し本発明に到達した。
ＴＣＡからヘミアセタール化合物を効率よく得る方法を
見出し本発明に到達した。
すなわち本発明は、ＴＣＡの触媒フッ素化反応により得
られる反応生成ガスを水に吸収させ、ホウ酸によりフッ
酸をホウフッ酸として固定したのちフラッシュ蒸留によ
りフッ化水素酸を除去し、アルカリにより低次フッ素化
物を化学分解したのち液性をｐＨ５以下に調整してメタ
ノール、エタノール、プロパノールのうち少なくとも１
種類のアルコールを反応させる過程で、塩化カルシウム
を添加することを特徴とするヘミアセタール化合物の製
造方法である。
られる反応生成ガスを水に吸収させ、ホウ酸によりフッ
酸をホウフッ酸として固定したのちフラッシュ蒸留によ
りフッ化水素酸を除去し、アルカリにより低次フッ素化
物を化学分解したのち液性をｐＨ５以下に調整してメタ
ノール、エタノール、プロパノールのうち少なくとも１
種類のアルコールを反応させる過程で、塩化カルシウム
を添加することを特徴とするヘミアセタール化合物の製
造方法である。
ＴＣＡのフッ素化反応は、三フッ化クロムおよび三酸化
ニクロムのような触媒の存在下にＴＣＡを無水フッ化水
素と反応させることにより、良好な収率でおこなわれる
。本発明においては、この反応生成ガスを水に吸収させ
るものであるが、水の量は、全有機物に対して当量以上
、ＴＦＡの損失を少なくするため使用する水は好ましく
はＴＦＡの３倍当量以上、１００倍当量以下とすること
が望ましい。
ニクロムのような触媒の存在下にＴＣＡを無水フッ化水
素と反応させることにより、良好な収率でおこなわれる
。本発明においては、この反応生成ガスを水に吸収させ
るものであるが、水の量は、全有機物に対して当量以上
、ＴＦＡの損失を少なくするため使用する水は好ましく
はＴＦＡの３倍当量以上、１００倍当量以下とすること
が望ましい。
このようにして得た液の組成はＴＦＡ ２０〜３０ｗｔ
％、塩化水素１０〜３０ｗｔ％、フッ化水素１５〜２５
ｗｔ％であって、フッ化水素を固定するためのホウ酸の
量としてはフッ化水素に対して０．２５倍当量から１倍
当量の範囲であり、より好ましくは０．３〜０．４倍当
量の範囲である。この範囲未満ではフッ酸の固定が十分
におこなえず、この範囲を越えると経済的でないばかり
でなく、不溶のホウ酸スラリーにより操作性が悪くなる
。この場合、ホウ酸を予め吸収水に懸濁させた状態で吸
収と同時にフッ化水素をホウフッ酸として固定すること
もてきる。
％、塩化水素１０〜３０ｗｔ％、フッ化水素１５〜２５
ｗｔ％であって、フッ化水素を固定するためのホウ酸の
量としてはフッ化水素に対して０．２５倍当量から１倍
当量の範囲であり、より好ましくは０．３〜０．４倍当
量の範囲である。この範囲未満ではフッ酸の固定が十分
におこなえず、この範囲を越えると経済的でないばかり
でなく、不溶のホウ酸スラリーにより操作性が悪くなる
。この場合、ホウ酸を予め吸収水に懸濁させた状態で吸
収と同時にフッ化水素をホウフッ酸として固定すること
もてきる。
このようにしてフン化水素を固定したＴＦＡ水溶液は減
圧下にフン・ノシュ蒸留することにより効率よくフッ化
水素を除去することができる。
圧下にフン・ノシュ蒸留することにより効率よくフッ化
水素を除去することができる。
次いで、低次フッ素化物をアルカリにより化学分解する
ものであるが、アルカリとしては、アルカリ金属、アル
カリ土類金属の炭酸塩、水酸化物、酸化物を用いること
ができ、系のｐＨが７以上になるまで添加する。次いで
、鉱酸を用いて液性をｐＨ５以下に調整し、所望のへミ
アセクールを得るための対応するアルコールを添加して
反応をおこなうものであるが、本発明においてはこの反
応を塩化カルシウムの存在下におこなうものである。
ものであるが、アルカリとしては、アルカリ金属、アル
カリ土類金属の炭酸塩、水酸化物、酸化物を用いること
ができ、系のｐＨが７以上になるまで添加する。次いで
、鉱酸を用いて液性をｐＨ５以下に調整し、所望のへミ
アセクールを得るための対応するアルコールを添加して
反応をおこなうものであるが、本発明においてはこの反
応を塩化カルシウムの存在下におこなうものである。
この反応において塩化カルシウムを添加することにより
前述の反応式において平衡反応を右方向にずらすのみな
らず、二層分離が可能となり上層の有機物層に９９モル
％以上の回収率で有機物を回収することができ、回収有
機物層中のヘミアセタール化合物の選択率は９５モル％
以上になる。さらに残りの約５モル％のＴＦＡ−）１２
０をへよアセタール化するため、該有機物層をゼオライ
トと接触させることにより有機物相中のへくアセタール
化合物の選択率を９９モル％以上まで上げることができ
、全体としての収率も９９モル％以上となる。
前述の反応式において平衡反応を右方向にずらすのみな
らず、二層分離が可能となり上層の有機物層に９９モル
％以上の回収率で有機物を回収することができ、回収有
機物層中のヘミアセタール化合物の選択率は９５モル％
以上になる。さらに残りの約５モル％のＴＦＡ−）１２
０をへよアセタール化するため、該有機物層をゼオライ
トと接触させることにより有機物相中のへくアセタール
化合物の選択率を９９モル％以上まで上げることができ
、全体としての収率も９９モル％以上となる。
ここで、アルコールはＴＦＡの水和物に対し、１．０〜
２．５倍当量、好ましくは１．０〜１．５倍当量加える
。
２．５倍当量、好ましくは１．０〜１．５倍当量加える
。
１．０倍当量より少ないと当然目的生成物の収率が低く
、２．５倍当量より多いと効果は全く変わらないが経済
的に不利となる。
、２．５倍当量より多いと効果は全く変わらないが経済
的に不利となる。
塩化カルシウムの添加量は、水和物中の水すなわちｇｅ
ｍ−ジオール化合物中の水に対し、Ｈ２０／ＣａＣ１□
のモル比で２〜２０、好ましくは３〜８が良い。２０よ
り多いと二層分離が難しく、２より少ないと粘度が高く
なり同様に層分離が難しい。塩化カルシウムは、無水物
に限らず二水物、大水物等を使用しても良い。
ｍ−ジオール化合物中の水に対し、Ｈ２０／ＣａＣ１□
のモル比で２〜２０、好ましくは３〜８が良い。２０よ
り多いと二層分離が難しく、２より少ないと粘度が高く
なり同様に層分離が難しい。塩化カルシウムは、無水物
に限らず二水物、大水物等を使用しても良い。
反応温度は、室温より還流温度までの範囲、好ましくは
５０°Ｃ〜還流温度の範囲である。反応温度が室温より
低い場合、粘度が高くなりすぎて層分離ができず、還流
温度より高いと蒸気圧が高くなりすぎ、設備等の面から
考えても工業的に不利である。
５０°Ｃ〜還流温度の範囲である。反応温度が室温より
低い場合、粘度が高くなりすぎて層分離ができず、還流
温度より高いと蒸気圧が高くなりすぎ、設備等の面から
考えても工業的に不利である。
ゼオライトは、有機物層に対し、重量で０．２倍当量以
上が好ましい。０．２倍等量より少ないと脱水効果が低
下するため好ましくない。本発明で使用するゼオライト
は、特に限定されず脱水効果のあるものなら何でも使用
することができる。
上が好ましい。０．２倍等量より少ないと脱水効果が低
下するため好ましくない。本発明で使用するゼオライト
は、特に限定されず脱水効果のあるものなら何でも使用
することができる。
得られた化合物は安定であり、長期的な保存、運搬など
が容易に行え、必要によっては硫酸等との接触により脱
アルコールを行って元のアルデヒドとして使用すること
もでき、またそのまま中間体等として使用することもで
きる。
が容易に行え、必要によっては硫酸等との接触により脱
アルコールを行って元のアルデヒドとして使用すること
もでき、またそのまま中間体等として使用することもで
きる。
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。
はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１
クロム系触媒充填気相反応管にＴＣＡおよびＨＦを予熱
器を介して送入し、ＴＣＡをフッ素化して得られる反応
生成ガス［平均重量組成二有機物３１．８％（ＴＦＡ選
択率９９．７％）、ＨＦ２８．８％、ＨＣ１３９゜４％
］を、水循環吸収塔へ導入し水１０Ｋｇに吸収させた。
器を介して送入し、ＴＣＡをフッ素化して得られる反応
生成ガス［平均重量組成二有機物３１．８％（ＴＦＡ選
択率９９．７％）、ＨＦ２８．８％、ＨＣ１３９゜４％
］を、水循環吸収塔へ導入し水１０Ｋｇに吸収させた。
１０時間経過後のＴＣＡ、ＨＦの全供給量はそれぞれ６
．９４Ｋ ｇ、６．５９Ｋｇであり、吸収液の重量増は
１３．０６ Ｋ ｇでそのときの重量組成はＴＦＡ１８
．０％、ＨＦ １６．３％、ＨＣ１２２，３％であった
。これは供給量に対する理論回収率としてＴＦＡ９０．
０％、ＨＦ９９．８％、ＨＣ１９９，８％である。これ
にさらに反応生成ガスを導入しつづけるとＴＦＡはほぼ
完全に吸収されつづけるが、Ｈ，Ｆ、ＨＣＩの合計重量
濃度は約３８％と一定値を保ち、ＨＦおよびＨＣＩはガ
スとして系外へ放出された。
．９４Ｋ ｇ、６．５９Ｋｇであり、吸収液の重量増は
１３．０６ Ｋ ｇでそのときの重量組成はＴＦＡ１８
．０％、ＨＦ １６．３％、ＨＣ１２２，３％であった
。これは供給量に対する理論回収率としてＴＦＡ９０．
０％、ＨＦ９９．８％、ＨＣ１９９，８％である。これ
にさらに反応生成ガスを導入しつづけるとＴＦＡはほぼ
完全に吸収されつづけるが、Ｈ，Ｆ、ＨＣＩの合計重量
濃度は約３８％と一定値を保ち、ＨＦおよびＨＣＩはガ
スとして系外へ放出された。
このようにして得た吸収液４．１７Ｋ ｇ （重量組成
ＴＦＡ ２５．１％、ＨＦ ２２．２％、ＨＣ］、１１
５．７％Ｈ２Ｏ３７，０％）にＨ３Ｂｏａ １．０５Ｋ
ｇ （ＨＦ／Ｈ３ＢＯ２−１／２．７）を冷却しながら
徐々に添加したのち、フラッシュ蒸留（２０〜２５ｍｍ
Ｈｇ、 ５０〜７０℃）によりホウ酸、ヒドロキソフル
オロホウ酸、ホウフッ酸等を除去した。得られた留出液
３．６６Ｋ ｇの重量組成はＴＦＡ２８．６％、ＨＣ１
１５，６％でＴＦＡ回収率は１００％であった。
ＴＦＡ ２５．１％、ＨＦ ２２．２％、ＨＣ］、１１
５．７％Ｈ２Ｏ３７，０％）にＨ３Ｂｏａ １．０５Ｋ
ｇ （ＨＦ／Ｈ３ＢＯ２−１／２．７）を冷却しながら
徐々に添加したのち、フラッシュ蒸留（２０〜２５ｍｍ
Ｈｇ、 ５０〜７０℃）によりホウ酸、ヒドロキソフル
オロホウ酸、ホウフッ酸等を除去した。得られた留出液
３．６６Ｋ ｇの重量組成はＴＦＡ２８．６％、ＨＣ１
１５，６％でＴＦＡ回収率は１００％であった。
このようにして得たフラッシュ液の５００ｇを水酸化カ
ルシウム８０ｇ、水酸化ナトリウム４ｇで中和し、２時
間加熱還流し、低次フッ素化物を分解した。この反応液
に濃塩酸を加え、液性をｐＨ３に調整した。この液を攪
拌機付のＩｎ三ツロフラスコにいれ、エタノールをＴＦ
Ａの１．２倍当ｆに当たる７７ｇ加え、無水塩化カルシ
ウムをＴＦＡ水和物中の水に対しＨ２０／ＣａＣｌ２の
モル比が６．０になる量、すなわち１９０ｇ添加して攪
拌を行い、ジムロートコンデンサーにて冷却させながら
、油浴上で１時間還流を行った。還流温度は９５℃であ
った。
ルシウム８０ｇ、水酸化ナトリウム４ｇで中和し、２時
間加熱還流し、低次フッ素化物を分解した。この反応液
に濃塩酸を加え、液性をｐＨ３に調整した。この液を攪
拌機付のＩｎ三ツロフラスコにいれ、エタノールをＴＦ
Ａの１．２倍当ｆに当たる７７ｇ加え、無水塩化カルシ
ウムをＴＦＡ水和物中の水に対しＨ２０／ＣａＣｌ２の
モル比が６．０になる量、すなわち１９０ｇ添加して攪
拌を行い、ジムロートコンデンサーにて冷却させながら
、油浴上で１時間還流を行った。還流温度は９５℃であ
った。
攪拌を止め、内液温度が５０℃以下に冷却された所で分
液ロートに移し、二層分離した各層を分取した結果、上
層の有機物は３３０ｇ、下層は５１８ｇであった。
液ロートに移し、二層分離した各層を分取した結果、上
層の有機物は３３０ｇ、下層は５１８ｇであった。
上層の有機物は、トリフルオロ酢酸を基準としてＦ−Ｎ
ＭＲで求めたところ、エチルへミアセタール（ＴＦＡ−
ＥｔＯＨ）１７２ｇ 、 ｇｅｍ−ジオール（ＴＦＡ−
８２０） ６．５ｇでその他はエタノールであった。こ
こでのＴＰＡ−ＥｔＯＨの選択率は９５．５モ）ト％で
、原料の回収率は９５．０％であり、ＴＦＡ’−ＥｔＯ
Ｈの収率はＴＦ八へ準で９１．２％であった。
ＭＲで求めたところ、エチルへミアセタール（ＴＦＡ−
ＥｔＯＨ）１７２ｇ 、 ｇｅｍ−ジオール（ＴＦＡ−
８２０） ６．５ｇでその他はエタノールであった。こ
こでのＴＰＡ−ＥｔＯＨの選択率は９５．５モ）ト％で
、原料の回収率は９５．０％であり、ＴＦＡ’−ＥｔＯ
Ｈの収率はＴＦ八へ準で９１．２％であった。
該有機物６０ｇを、１００ｍ１二つ目フラスコに入れ、
モレキュラシーブ３Ａ（和光純薬製）１０ｇを入れてマ
グネチックスターラーで４時間攪拌した結果、ＴＦＡ−
ＥｔＯＨの選択率は９９．４モ）シ％まで上昇し、収率
は９９％であった。
モレキュラシーブ３Ａ（和光純薬製）１０ｇを入れてマ
グネチックスターラーで４時間攪拌した結果、ＴＦＡ−
ＥｔＯＨの選択率は９９．４モ）シ％まで上昇し、収率
は９９％であった。
実施例２
実施例工においてアルコールをメタノールに代えて同様
の反応を行った。メタノールは５４ｇ添加し、還流温度
は９６℃であった。
の反応を行った。メタノールは５４ｇ添加し、還流温度
は９６℃であった。
二層分離後の上層の有機物はメチルへミアセクール（Ｔ
ＦＡ−ＭｅＯＨ） １５８ ｇ 、 ｇｅｍ−ジオール
（ＴＦＡ−８２０）４ｇで、ＴＦＡ−ＭｅＯＨの選択率
は９７．３モル％であった。
ＦＡ−ＭｅＯＨ） １５８ ｇ 、 ｇｅｍ−ジオール
（ＴＦＡ−８２０）４ｇで、ＴＦＡ−ＭｅＯＨの選択率
は９７．３モル％であった。
一方、原料の回収率は９５．０％であり、ＴＦＡ−Ｍｅ
ＯＨの収率はＴＦＡ基準で９２．４％であった。
ＯＨの収率はＴＦＡ基準で９２．４％であった。
さらに、モレキュラシーブ３Ａで処理した結果、ＴＦＡ
−ＭｅＯＨの選択率は９９．７モル％まで上昇した。
−ＭｅＯＨの選択率は９９．７モル％まで上昇した。
比較例１
実施例１において無水塩化カルシウムを添加せずに同様
に行ったところ、均一層中のＴＦＡ−ＥｔＯＨは１２１
ｇ 、 ＴＦＡ−８２０は４８ｇで、ＴＦＡ−ＥｔＯ
Ｈの選択率は６７．０モ１１％であった。
に行ったところ、均一層中のＴＦＡ−ＥｔＯＨは１２１
ｇ 、 ＴＦＡ−８２０は４８ｇで、ＴＦＡ−ＥｔＯ
Ｈの選択率は６７．０モ１１％であった。
比較例２
実施例２において無水塩化カルシウムを添加せずに同様
に行ったところ、均一層中のＴＦＡ−ＭｅＯＨは１１９
ｇ 、 ＴＰＡ−ＨＪは３９ｇで、ＴＰＡ−ＭｅＯｔ
ｒの選択率は７３．５モル％であった。
に行ったところ、均一層中のＴＦＡ−ＭｅＯＨは１１９
ｇ 、 ＴＰＡ−ＨＪは３９ｇで、ＴＰＡ−ＭｅＯｔ
ｒの選択率は７３．５モル％であった。
［発明の効果］
本発明の製造方法によれば、ＴＣＡのフッ素化反応生成
ガス中の過剰フッ化水素を水系で容易に除去することが
でき、低次フッ素化物のアルカリによる化学分解で得た
液とアルコールとの反応過程で塩化カルシウムを添加す
ることによって、二層分離された有機層中に高収率、高
選択率でヘミアセタール化合物を得ることができ、該有
機物層をゼオライトと接触させることでヘミアセタール
化合物の選択率をさらに向上させることができるもので
ある。
ガス中の過剰フッ化水素を水系で容易に除去することが
でき、低次フッ素化物のアルカリによる化学分解で得た
液とアルコールとの反応過程で塩化カルシウムを添加す
ることによって、二層分離された有機層中に高収率、高
選択率でヘミアセタール化合物を得ることができ、該有
機物層をゼオライトと接触させることでヘミアセタール
化合物の選択率をさらに向上させることができるもので
ある。
Claims (2)
- （１）トリクロロアセトアルデヒドの触媒フッ素化反応
により得られる反応生成ガスを水に吸収させ、ホウ酸に
よりフッ酸をホウフッ酸として固定したのちフラッシュ
蒸留によりフッ化水素酸を除去し、アルカリにより低次
フッ素化物を化学分解したのち液性をｐＨ５以下に調整
してメタノール、エタノール、プロパノールのうち少な
くとも１種類のアルコールを反応させる過程で、塩化カ
ルシウムを添加することを特徴とするヘミアセタール化
合物の製造方法。 - （２）請求項（１）の反応により生じる有機物層をさら
にゼオライトと接触させることを特徴とするヘミアセタ
ール化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32314289A JPH0751526B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | ヘミアセタール化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32314289A JPH0751526B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | ヘミアセタール化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03184933A true JPH03184933A (ja) | 1991-08-12 |
| JPH0751526B2 JPH0751526B2 (ja) | 1995-06-05 |
Family
ID=18151556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32314289A Expired - Fee Related JPH0751526B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | ヘミアセタール化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0751526B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006315990A (ja) * | 2005-05-12 | 2006-11-24 | Tosoh F-Tech Inc | トリフルオロアセトアルデヒドヘミアセタールの回収方法 |
| JP2007119351A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Tosoh F-Tech Inc | トリフルオロアセトアルデヒドヘミアセタールの回収方法 |
| WO2013118552A1 (ja) * | 2012-02-09 | 2013-08-15 | ポリプラスチックス株式会社 | ホルムアルデヒドガス製造方法、及びホルムアルデヒドガス製造装置 |
| WO2019026582A1 (ja) * | 2017-08-04 | 2019-02-07 | セントラル硝子株式会社 | フルオロアセトアルデヒド類の保存方法 |
| WO2021193878A1 (ja) | 2020-03-27 | 2021-09-30 | セントラル硝子株式会社 | ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、感光性樹脂組成物、硬化性樹脂組成物、硬化物、電子デバイス、ノボラック樹脂の製造方法およびエポキシ樹脂の製造方法 |
| WO2022009782A1 (ja) | 2020-07-10 | 2022-01-13 | セントラル硝子株式会社 | ポリベンゾオキサゾール、ポリアミド、ポリアミド溶液、高周波電子部品用絶縁材、高周波電子部品、高周波機器、高周波電子部品製造用絶縁材料、ポリアミドの製造方法、ポリベンゾオキサゾールの製造方法、高周波電子部品用絶縁材の製造方法、および、ジアミンまたはその塩 |
| WO2022030447A1 (ja) | 2020-08-05 | 2022-02-10 | セントラル硝子株式会社 | 含フッ素ジアミンまたはその塩、含フッ素ジアミンまたはその塩の製造方法、ポリアミド、ポリアミドの製造方法、ポリアミド溶液、ポリアミド環化体、ポリアミド環化体の製造方法、高周波電子部品用絶縁材、高周波電子部品用絶縁材の製造方法、高周波電子部品、高周波機器および高周波電子部品製造用絶縁材料 |
-
1989
- 1989-12-13 JP JP32314289A patent/JPH0751526B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006315990A (ja) * | 2005-05-12 | 2006-11-24 | Tosoh F-Tech Inc | トリフルオロアセトアルデヒドヘミアセタールの回収方法 |
| JP2007119351A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Tosoh F-Tech Inc | トリフルオロアセトアルデヒドヘミアセタールの回収方法 |
| WO2013118552A1 (ja) * | 2012-02-09 | 2013-08-15 | ポリプラスチックス株式会社 | ホルムアルデヒドガス製造方法、及びホルムアルデヒドガス製造装置 |
| WO2019026582A1 (ja) * | 2017-08-04 | 2019-02-07 | セントラル硝子株式会社 | フルオロアセトアルデヒド類の保存方法 |
| WO2021193878A1 (ja) | 2020-03-27 | 2021-09-30 | セントラル硝子株式会社 | ノボラック樹脂、エポキシ樹脂、感光性樹脂組成物、硬化性樹脂組成物、硬化物、電子デバイス、ノボラック樹脂の製造方法およびエポキシ樹脂の製造方法 |
| WO2022009782A1 (ja) | 2020-07-10 | 2022-01-13 | セントラル硝子株式会社 | ポリベンゾオキサゾール、ポリアミド、ポリアミド溶液、高周波電子部品用絶縁材、高周波電子部品、高周波機器、高周波電子部品製造用絶縁材料、ポリアミドの製造方法、ポリベンゾオキサゾールの製造方法、高周波電子部品用絶縁材の製造方法、および、ジアミンまたはその塩 |
| WO2022030447A1 (ja) | 2020-08-05 | 2022-02-10 | セントラル硝子株式会社 | 含フッ素ジアミンまたはその塩、含フッ素ジアミンまたはその塩の製造方法、ポリアミド、ポリアミドの製造方法、ポリアミド溶液、ポリアミド環化体、ポリアミド環化体の製造方法、高周波電子部品用絶縁材、高周波電子部品用絶縁材の製造方法、高周波電子部品、高周波機器および高周波電子部品製造用絶縁材料 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0751526B2 (ja) | 1995-06-05 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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