JPH03185400A - Ｘ線源 - Google Patents
Ｘ線源Info
- Publication number
- JPH03185400A JPH03185400A JP32502989A JP32502989A JPH03185400A JP H03185400 A JPH03185400 A JP H03185400A JP 32502989 A JP32502989 A JP 32502989A JP 32502989 A JP32502989 A JP 32502989A JP H03185400 A JPH03185400 A JP H03185400A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray source
- synchrotron
- shape
- radiation
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、反射結塚糸を用いた走査型ｘ森露光装置にお
けるＸＨ源に関する。
けるＸＨ源に関する。
［従来の技術］
従来、シンクロトロン放射光は、円軌道にて目幅する加
速電子の接祿方回に第２図に示す如きほぼ矩形に近い形
の放射光２をべＩＪ リウム窓から放射させるのが通例
であった。
速電子の接祿方回に第２図に示す如きほぼ矩形に近い形
の放射光２をべＩＪ リウム窓から放射させるのが通例
であった。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、上記従来技術によると、透過系Ｘ線マスクを用
いて、グロキシミティー露光する場合には走査露光法に
より用いる事ができるが、Ｘ線反射投影露光装置による
結像液を用いたｘ！！露光では矩形状光源では面収差が
生じ、解像力が低下すると云う課題があった。
いて、グロキシミティー露光する場合には走査露光法に
より用いる事ができるが、Ｘ線反射投影露光装置による
結像液を用いたｘ！！露光では矩形状光源では面収差が
生じ、解像力が低下すると云う課題があった。
本発明は、かかる従来技術の課題を解決し、解像力を向
上する為のシンクロトロン放射光の新らしい形状を提供
すると共に、その形状を得る為の新らしい方法をも提供
する事を目的とする。
上する為のシンクロトロン放射光の新らしい形状を提供
すると共に、その形状を得る為の新らしい方法をも提供
する事を目的とする。
［課題を解決するための手段］
上記課題を解決する為に、本発明は、Ｘ線源に一シ、シ
ンクロトロン走行電子＃！を磁場又は電場により円弧状
に整形する手段を取り、結果として放射Ｘａ、の形状を
円弧状となす手段を取る。
ンクロトロン走行電子＃！を磁場又は電場により円弧状
に整形する手段を取り、結果として放射Ｘａ、の形状を
円弧状となす手段を取る。
［実施例コ
以下、実施例により本発明を詳述する。
いま、シンクロトロン内にて円運動をしている電子に対
し、丁度ウィンゲラ−による電子軌道の変更の如く、磁
場又は電場により、わずかに左右に円弧状に振る力を印
加する事により、放射される放射光は、第１図に示す円
弧状の放射光１の如くになる。該円弧状放射光は、反射
投影減光装置に例えば反射マスクを反射させて導くこと
により、面数差の無いパターンが、被電光試料表面に結
像することとなる。
し、丁度ウィンゲラ−による電子軌道の変更の如く、磁
場又は電場により、わずかに左右に円弧状に振る力を印
加する事により、放射される放射光は、第１図に示す円
弧状の放射光１の如くになる。該円弧状放射光は、反射
投影減光装置に例えば反射マスクを反射させて導くこと
により、面数差の無いパターンが、被電光試料表面に結
像することとなる。
［発明の効果］
本発明により反射投影減光装置ＩＩＬを用いた高解像力
の１８ｍ光が可能となる効果がある。
の１８ｍ光が可能となる効果がある。
ｆｇ１図は本発明の一実施例を示すシンクロトロン放射
光の断面形状を示す図であり、第２図は従来技術による
。シンクロトロン放射光の断面形状を示す図である。 １．２・・・・・・放射光 第１ 図 第２図
光の断面形状を示す図であり、第２図は従来技術による
。シンクロトロン放射光の断面形状を示す図である。 １．２・・・・・・放射光 第１ 図 第２図
Claims (1)
- シンクロトロン走行電子線を磁場又は電場により円弧状
に整形して、放射Ｘ線の形状を円弧状となす事を特徴と
するＸ線源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32502989A JPH03185400A (ja) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | Ｘ線源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32502989A JPH03185400A (ja) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | Ｘ線源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03185400A true JPH03185400A (ja) | 1991-08-13 |
Family
ID=18172352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32502989A Pending JPH03185400A (ja) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | Ｘ線源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03185400A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0838837A3 (en) * | 1996-10-25 | 2000-03-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam exposure apparatus and method |
-
1989
- 1989-12-15 JP JP32502989A patent/JPH03185400A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0838837A3 (en) * | 1996-10-25 | 2000-03-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam exposure apparatus and method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3689516B2 (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
| US6356620B1 (en) | Method for raster scanning an X-ray tube focal spot | |
| ATE133808T1 (de) | Verfahren und vorrichtung für röntgenaufnahme | |
| JPS62222634A (ja) | Ｘ線露光方法 | |
| DE68922929T2 (de) | Photokathoden-Bildprojektionsapparat für die Mustergestaltung auf einer Halbleitervorrichtung. | |
| US3732426A (en) | X-ray source for generating an x-ray beam having selectable sectional shapes | |
| JPH01159955A (ja) | 電子イメージプロジェクタ | |
| US4021674A (en) | Charged-particle beam optical apparatus for irradiating a specimen in a two-dimensional pattern | |
| JPH03185400A (ja) | Ｘ線源 | |
| JP2000059686A (ja) | 画像変換装置 | |
| JPH03504285A (ja) | Ｘ線リソグラフイの投影スケール変更方法 | |
| JPS6199330A (ja) | パタ−ン形成方法 | |
| JP3034285B2 (ja) | 荷電ビーム露光装置 | |
| JPS58158925A (ja) | Ｘ線露光方法 | |
| JPH0836978A (ja) | Ｘ線発生装置 | |
| JPH0322905Y2 (ja) | ||
| JPH05234856A (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH06274106A (ja) | 三次元表示装置 | |
| JPS61190931A (ja) | 描画装置 | |
| JPS58103134A (ja) | 電子ビ−ム露光方法 | |
| JPS59144129A (ja) | Ｘ線源装置 | |
| JPS6028137Y2 (ja) | 電子ビ−ム露光装置 | |
| JPS59108319A (ja) | 放射線装置 | |
| JPH11237728A (ja) | 描画方法及び描画装置 | |
| JPH01289246A (ja) | 光電子転写装置 |