JPH03185568A - Method and device for plotting printed substrate mask - Google Patents
Method and device for plotting printed substrate maskInfo
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
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- H05K3/0005—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for designing circuits by computer
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、CAD/CAMシステムを適用したプリント
基板マスクの作画方式及び装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a printed circuit board mask drawing method and apparatus using a CAD/CAM system.
(従来の技術〕
従来、プリント基板マスクを作画する場合、特開昭64
−44580号公報に記載されているように、CAD/
CAMシステムを用いて作画することが行われている。(Prior art) Conventionally, when drawing a printed circuit board mask, Japanese Patent Laid-Open No. 64
As described in the -44580 publication, CAD/
Drawing is performed using a CAM system.
この場合、ディジタイザあるいは図形処理端末の管面を
使用して、プリント基板マスクのパターンを作画装置に
入力させるのであるが、アナログ基板のように頂点数が
多く複雑なぬりつぶしパターンが多い基板のときには、
複数の図形に分割して入力操作を行うことがある。この
ように複数に分割した方が、入力時の操作性が向上する
。In this case, a digitizer or the screen of a graphics processing terminal is used to input the printed circuit board mask pattern into the drawing device, but when the board is an analog board with many vertices and many complicated fill-in patterns,
Input operations may be performed by dividing the shape into multiple shapes. Dividing the data into multiple parts in this way improves the operability during input.
例えば第6図に示すように、頂点がアパチャ15で形成
される輪郭作画軌跡16で囲まれる3組のパターンとし
て入力させるようにするものである。For example, as shown in FIG. 6, three sets of patterns whose vertices are surrounded by a contour drawing locus 16 formed by an aperture 15 are input.
ところが、このように分割したパターンを入力させると
、分割されたそれぞれの図面を独立したぬりつぶしパタ
ーンとみなして作画してしまう。However, when inputting a pattern divided in this way, each divided drawing is regarded as an independent fill-in pattern and drawn.
このため、各分割パターンの頂点を形成するアパチャ1
5の径による丸みにより、各分割パターンの接触部両端
でのパターン細りが生じると共に、接触部分にスリット
が発生する場合があった。例えば、第6図のA部を第7
図に拡大して示すと、軌跡16どうしの接触部の端部で
パターン細り17が発生すると共に、軌跡16の接触が
完全でないことによるスリット18が発生してしまう。Therefore, the aperture 1 forming the apex of each division pattern
Due to the roundness due to the diameter of No. 5, pattern thinning occurred at both ends of the contact portion of each divided pattern, and slits were sometimes generated at the contact portion. For example, if part A of Fig. 6 is
When enlarged in the figure, pattern thinning 17 occurs at the end of the contact portion between the trajectories 16, and slits 18 occur due to incomplete contact between the trajectories 16.
このパターン細りゃスリットが発生すると、プリント基
板マスクの品質低下を招いてしまう。If this pattern becomes thinner and slits occur, the quality of the printed circuit board mask will deteriorate.
この問題点を解決するためには、例えば第8図に示すよ
うに、ぬりつぶしパターンを複数に分割する際に、各分
割パターン21.22.23の接触部分に図形型なり部
24を設けることが考えられる。ところが、このように
重なり部を設けるようにすると、分割パターンの入力作
業が非常に手間のかかるものになってしまう。In order to solve this problem, for example, as shown in FIG. 8, when dividing the fill-in pattern into a plurality of parts, it is possible to provide a figure-shaped curved part 24 at the contact part of each divided pattern 21, 22, 23. Conceivable. However, if the overlapping portions are provided in this way, inputting the division pattern becomes very time-consuming.
本発明の目的は、パターンを分割入力して処理したとき
に、パターン細りゃスリットの発生を容易になくすこと
ができるようにすることにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to easily eliminate the occurrence of slits when a pattern is inputted in parts and processed.
上記目的を達成するために、図形分割して入力させた1
つながりのパターン群の接続関係を認識して合成図形を
求め、求めた図形で輪郭を作画し、プリント基板マスク
の作画データを得るようにしたものである。また、この
とき合成図形のパターン細り及びスリットの発生を無く
すように作画するようにしたものである。In order to achieve the above purpose, I divided the shape and input it.
A composite figure is obtained by recognizing the connection relationship between a group of connected patterns, an outline is drawn using the obtained figure, and drawing data for a printed circuit board mask is obtained. Further, at this time, the composite figure is drawn so as to eliminate pattern thinning and occurrence of slits.
合成図形よりパターンの輪郭を作画するようにしたこと
で、分割図形毎に個別に輪郭を作画させる場合のように
接触部が発生せず、パターン細りゃスリットの発生が防
止される。By drawing the outline of the pattern from the composite figure, unlike the case where the outline is drawn individually for each divided figure, contact parts do not occur, and the generation of slits when the pattern becomes thinner is prevented.
以下、本発明の一実施例を、第1図〜第5図を参照して
説明する。Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5.
第1図は作画装置の全体構成を示した図で、図中1はデ
ィジタイザ、2は図形処理端末を示し、このディジタイ
ザ1あるいは図形処理端末2より入力されるぬりつぶし
パターンデータを、CAD/’CAMシステムよりなる
作画装置10のぬりつぶしパターン入力部5に供給する
。この入力部5に得られるぬりつぶしパターンデータは
、パターンデータメモリ3に一旦記憶された後、ぬりつ
ぶしパターン合成部6に供給される。このぬりつぶしパ
ターン合或部6は、分割されて入力部5に入力した1つ
ながりのパターン群の合成処理を行うもので、合成後の
パターンの輪郭データを得る。この合成パターンの輪郭
データは、パターンデータメモリ4に一旦記憶された後
、ぬりつぶしパターンマスク作画データ作成部7に供給
され、1組の図形としてプリント基板マスクが作画され
る。そして、このぬりつぶしパターンマスク作画データ
作成部7で作画されたプリント基板マスクデータをフォ
トプロッタ作画データ記憶部8に供給し、プリン)M板
マスクを所定の処理により作成させる。FIG. 1 is a diagram showing the overall configuration of a drawing device, in which 1 is a digitizer and 2 is a graphic processing terminal. The data is supplied to the fill-in pattern input section 5 of the drawing device 10 consisting of a system. The fill-in pattern data obtained from the input section 5 is once stored in the pattern data memory 3 and then supplied to the fill-in pattern synthesis section 6. The fill-in pattern combining unit 6 performs a process of combining a group of patterns that are divided and inputted into the input unit 5, and obtains outline data of the combined pattern. The contour data of this composite pattern is once stored in the pattern data memory 4, and then supplied to the fill-in pattern mask drawing data creation section 7, where a printed circuit board mask is drawn as a set of figures. Then, the printed circuit board mask data drawn by the fill-in pattern mask drawing data creation section 7 is supplied to the photoplotter drawing data storage section 8, and a print/M board mask is created by predetermined processing.
次に、この作画装置によりプリント基板マスクの作画を
行う際の動作について説明すると、例えば第2図に示す
ぬりつぶしパターン11を作成する。Next, the operation of drawing a printed circuit board mask using this drawing device will be explained. For example, a filling pattern 11 shown in FIG. 2 is created.
この場合、第3図に示すように、図形12.13.14
に分割してディジタイザ1あるいは図形処理端末2によ
りぬりつぶしパターン入力部5に入力させる。In this case, as shown in FIG.
The data is divided into two parts and input into the fill-in pattern input section 5 using the digitizer 1 or the graphic processing terminal 2.
この分割された図形12.13.14のデータは、ぬり
つぶしパターン合成部6に供給されることで、合成され
た図形データとされ、第4図に示すように、頂点がアパ
チャ15により形成された輪郭作画軌跡16よりなる合
成図形データを得る。この場合、合成図形にはパターン
細り及びスリットの発生が無くなるようにデータを作成
する。そして、この合成図形データに基づいて、ぬりつ
ぶしパターンマスク作画データ作成部7でプリント基板
マスクのぬりつぶしパターンデータを得る。The data of the divided figures 12, 13, and 14 are supplied to the fill-in pattern synthesis section 6 to form synthesized figure data, and the vertices are formed by the apertures 15 as shown in FIG. Composite figure data consisting of the contour drawing locus 16 is obtained. In this case, data is created so that pattern thinning and slits do not occur in the composite figure. Then, based on this composite figure data, the fill-in pattern mask drawing data creation section 7 obtains fill-in pattern data for the printed circuit board mask.
このようにしてプリント基板マスクを作成するようにし
たことで、各分割図形の接触部には輪郭作画軌跡16が
設定されず、接触部でのパターン細り及びスリットの発
生が無くなる。従って、本例により作成されるプリント
基板マスクはパターン細り及びスリットが発生しない高
品質なものになる。また、分割図形の重ね処理が必要な
く、分割図形の入力作業が容易に行える。By creating the printed circuit board mask in this manner, the contour drawing locus 16 is not set at the contact portions of each divided figure, and pattern narrowing and slits do not occur at the contact portions. Therefore, the printed circuit board mask produced according to this example is of high quality without pattern thinning or slits. In addition, there is no need for overlapping processing of divided figures, and input work of divided figures can be easily performed.
なお、本例により作成されるプリント基板のぬりつぶし
パターンの一例を、第5図に示す。この第5図において
、30はぬりつぶしパターンを示し、このように複雑な
パターンの場合、特に大きな効果が得られる。Note that FIG. 5 shows an example of the filled-in pattern of the printed circuit board created according to this example. In FIG. 5, numeral 30 indicates a fill-in pattern, and a particularly large effect can be obtained with such a complicated pattern.
本発明によると、マスク作画データ作成の段階で分割図
形の台底を行うので、パターン細りゃスリットの発生が
防止され、マスク品質の向上及び入力操作の容易化によ
る設計効率の向上が行える。According to the present invention, since the bottom of the divided figures is determined at the stage of creating mask drawing data, generation of slits when the pattern is thinned is prevented, and design efficiency can be improved by improving mask quality and facilitating input operations.
第1図は本発明の一実施例を示す作画装置の構成図、第
2図、第3図及び第4図は一実施例の説明に供する路線
図、第5図はプリント基板マスクの一例を示す平面図、
第6図、第7図及び第8図は従来の作画方式の説明に供
する路線図である。
5・・・ぬりつぶしパターン入力部、6・・・ぬりつぶ
しパターン合成部、7・・・ぬりつぶしパターンマスク
作画データ作成部、
11・・・ぬりつぶしパターン、
12、13.14・・・分割図形、
15・・・アパチャ、
16・・・輪郭作
画軌跡。Fig. 1 is a block diagram of a drawing device showing an embodiment of the present invention, Figs. 2, 3, and 4 are route diagrams for explaining the embodiment, and Fig. 5 shows an example of a printed circuit board mask. A plan view showing,
FIGS. 6, 7, and 8 are route maps for explaining conventional drawing methods. 5... Filling pattern input section, 6... Filling pattern synthesis section, 7... Filling pattern mask drawing data creation section, 11... Filling pattern, 12, 13.14... Divided figure, 15. ...Aperture, 16...Contour drawing locus.
Claims (1)
ターン群の接続関係を認識して、1組の合成図形を求め
、この合成図形により輪郭を作画することを特徴とする
プリント基板マスクの作画方式。 2、合成図形の接触部のパターン細り及びスリットの発
生を無くすように作画することを特徴とする請求項1記
載のプリント基板マスクの作画方式。 3、図形分割して入力される1つながりのパターンの合
成部と、該合成部により合成されたパターンよりマスク
作画データを得るマスク作画データ作成部とを有するこ
とを特徴とするプリント基板マスクの作画装置。[Claims] 1. The method is characterized by recognizing the connection relationship of a group of connected patterns that are divided into figures and input into a drawing device, obtaining a set of composite figures, and drawing an outline using this composite figure. A printing method for printed circuit board masks. 2. The printed circuit board mask drawing method according to claim 1, wherein drawing is performed so as to eliminate pattern thinning and generation of slits at the contact portion of the composite figure. 3. Printed circuit board mask drawing characterized by having a compositing unit for a continuous pattern that is input by dividing figures, and a mask drawing data creation unit that obtains mask drawing data from the pattern synthesized by the compositing unit. Device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1323983A JP2878740B2 (en) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | Printed circuit board mask drawing method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP1323983A JP2878740B2 (en) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | Printed circuit board mask drawing method and apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03185568A true JPH03185568A (en) | 1991-08-13 |
| JP2878740B2 JP2878740B2 (en) | 1999-04-05 |
Family
ID=18160811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1323983A Expired - Lifetime JP2878740B2 (en) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | Printed circuit board mask drawing method and apparatus |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2878740B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012168730A (en) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Fujitsu Ltd | Program, method, and device for graphic processing |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01293476A (en) * | 1988-05-20 | 1989-11-27 | Fanuc Ltd | Mold designing method |
-
1989
- 1989-12-15 JP JP1323983A patent/JP2878740B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH01293476A (en) * | 1988-05-20 | 1989-11-27 | Fanuc Ltd | Mold designing method |
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| JP2012168730A (en) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Fujitsu Ltd | Program, method, and device for graphic processing |
| US8847971B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-09-30 | Fujitsu Limited | Graphic processing device, graphic processing method, and non-transitory medium for storing graphic processing program for generating corrected graphic data |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2878740B2 (en) | 1999-04-05 |
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