JPH03185568A - プリント基板マスクの作画方法とその装置 - Google Patents

プリント基板マスクの作画方法とその装置

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JPH03185568A
JPH03185568A JP1323983A JP32398389A JPH03185568A JP H03185568 A JPH03185568 A JP H03185568A JP 1323983 A JP1323983 A JP 1323983A JP 32398389 A JP32398389 A JP 32398389A JP H03185568 A JPH03185568 A JP H03185568A
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Japan
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pattern
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mask
plotting
divided
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JP1323983A
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Takeyoshi Shirakawa
白川 武義
Fumiya Tada
多田 史哉
Shinichiro Kawai
河合 紳一郎
Kenji Ochi
健二 越智
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0002Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for manufacturing artworks for printed circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K3/0005Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for designing circuits by computer

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、CAD/CAMシステムを適用したプリント
基板マスクの作画方式及び装置に関する。
(従来の技術〕 従来、プリント基板マスクを作画する場合、特開昭64
−44580号公報に記載されているように、CAD/
CAMシステムを用いて作画することが行われている。
この場合、ディジタイザあるいは図形処理端末の管面を
使用して、プリント基板マスクのパターンを作画装置に
入力させるのであるが、アナログ基板のように頂点数が
多く複雑なぬりつぶしパターンが多い基板のときには、
複数の図形に分割して入力操作を行うことがある。この
ように複数に分割した方が、入力時の操作性が向上する
例えば第6図に示すように、頂点がアパチャ15で形成
される輪郭作画軌跡16で囲まれる3組のパターンとし
て入力させるようにするものである。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、このように分割したパターンを入力させると
、分割されたそれぞれの図面を独立したぬりつぶしパタ
ーンとみなして作画してしまう。
このため、各分割パターンの頂点を形成するアパチャ1
5の径による丸みにより、各分割パターンの接触部両端
でのパターン細りが生じると共に、接触部分にスリット
が発生する場合があった。例えば、第6図のA部を第7
図に拡大して示すと、軌跡16どうしの接触部の端部で
パターン細り17が発生すると共に、軌跡16の接触が
完全でないことによるスリット18が発生してしまう。
このパターン細りゃスリットが発生すると、プリント基
板マスクの品質低下を招いてしまう。
この問題点を解決するためには、例えば第8図に示すよ
うに、ぬりつぶしパターンを複数に分割する際に、各分
割パターン21.22.23の接触部分に図形型なり部
24を設けることが考えられる。ところが、このように
重なり部を設けるようにすると、分割パターンの入力作
業が非常に手間のかかるものになってしまう。
本発明の目的は、パターンを分割入力して処理したとき
に、パターン細りゃスリットの発生を容易になくすこと
ができるようにすることにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、図形分割して入力させた1
つながりのパターン群の接続関係を認識して合成図形を
求め、求めた図形で輪郭を作画し、プリント基板マスク
の作画データを得るようにしたものである。また、この
とき合成図形のパターン細り及びスリットの発生を無く
すように作画するようにしたものである。
〔作用〕
合成図形よりパターンの輪郭を作画するようにしたこと
で、分割図形毎に個別に輪郭を作画させる場合のように
接触部が発生せず、パターン細りゃスリットの発生が防
止される。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を、第1図〜第5図を参照して
説明する。
第1図は作画装置の全体構成を示した図で、図中1はデ
ィジタイザ、2は図形処理端末を示し、このディジタイ
ザ1あるいは図形処理端末2より入力されるぬりつぶし
パターンデータを、CAD/’CAMシステムよりなる
作画装置10のぬりつぶしパターン入力部5に供給する
。この入力部5に得られるぬりつぶしパターンデータは
、パターンデータメモリ3に一旦記憶された後、ぬりつ
ぶしパターン合成部6に供給される。このぬりつぶしパ
ターン合或部6は、分割されて入力部5に入力した1つ
ながりのパターン群の合成処理を行うもので、合成後の
パターンの輪郭データを得る。この合成パターンの輪郭
データは、パターンデータメモリ4に一旦記憶された後
、ぬりつぶしパターンマスク作画データ作成部7に供給
され、1組の図形としてプリント基板マスクが作画され
る。そして、このぬりつぶしパターンマスク作画データ
作成部7で作画されたプリント基板マスクデータをフォ
トプロッタ作画データ記憶部8に供給し、プリン)M板
マスクを所定の処理により作成させる。
次に、この作画装置によりプリント基板マスクの作画を
行う際の動作について説明すると、例えば第2図に示す
ぬりつぶしパターン11を作成する。
この場合、第3図に示すように、図形12.13.14
に分割してディジタイザ1あるいは図形処理端末2によ
りぬりつぶしパターン入力部5に入力させる。
この分割された図形12.13.14のデータは、ぬり
つぶしパターン合成部6に供給されることで、合成され
た図形データとされ、第4図に示すように、頂点がアパ
チャ15により形成された輪郭作画軌跡16よりなる合
成図形データを得る。この場合、合成図形にはパターン
細り及びスリットの発生が無くなるようにデータを作成
する。そして、この合成図形データに基づいて、ぬりつ
ぶしパターンマスク作画データ作成部7でプリント基板
マスクのぬりつぶしパターンデータを得る。
このようにしてプリント基板マスクを作成するようにし
たことで、各分割図形の接触部には輪郭作画軌跡16が
設定されず、接触部でのパターン細り及びスリットの発
生が無くなる。従って、本例により作成されるプリント
基板マスクはパターン細り及びスリットが発生しない高
品質なものになる。また、分割図形の重ね処理が必要な
く、分割図形の入力作業が容易に行える。
なお、本例により作成されるプリント基板のぬりつぶし
パターンの一例を、第5図に示す。この第5図において
、30はぬりつぶしパターンを示し、このように複雑な
パターンの場合、特に大きな効果が得られる。
〔発明の効果〕
本発明によると、マスク作画データ作成の段階で分割図
形の台底を行うので、パターン細りゃスリットの発生が
防止され、マスク品質の向上及び入力操作の容易化によ
る設計効率の向上が行える。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す作画装置の構成図、第
2図、第3図及び第4図は一実施例の説明に供する路線
図、第5図はプリント基板マスクの一例を示す平面図、
第6図、第7図及び第8図は従来の作画方式の説明に供
する路線図である。 5・・・ぬりつぶしパターン入力部、6・・・ぬりつぶ
しパターン合成部、7・・・ぬりつぶしパターンマスク
作画データ作成部、 11・・・ぬりつぶしパターン、 12、13.14・・・分割図形、 15・・・アパチャ、 16・・・輪郭作 画軌跡。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、図形分割して作画装置に入力させた1つながりのパ
    ターン群の接続関係を認識して、1組の合成図形を求め
    、この合成図形により輪郭を作画することを特徴とする
    プリント基板マスクの作画方式。 2、合成図形の接触部のパターン細り及びスリットの発
    生を無くすように作画することを特徴とする請求項1記
    載のプリント基板マスクの作画方式。 3、図形分割して入力される1つながりのパターンの合
    成部と、該合成部により合成されたパターンよりマスク
    作画データを得るマスク作画データ作成部とを有するこ
    とを特徴とするプリント基板マスクの作画装置。
JP1323983A 1989-12-15 1989-12-15 プリント基板マスクの作画方法とその装置 Expired - Lifetime JP2878740B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012168730A (ja) * 2011-02-14 2012-09-06 Fujitsu Ltd 図形処理プログラム、方法及び装置

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JPH01293476A (ja) * 1988-05-20 1989-11-27 Fanuc Ltd 金型設計方法

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