JPH03189539A - 水素濃度測定装置 - Google Patents
水素濃度測定装置Info
- Publication number
- JPH03189539A JPH03189539A JP32849089A JP32849089A JPH03189539A JP H03189539 A JPH03189539 A JP H03189539A JP 32849089 A JP32849089 A JP 32849089A JP 32849089 A JP32849089 A JP 32849089A JP H03189539 A JPH03189539 A JP H03189539A
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- JP
- Japan
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- hydrogen
- resistance value
- occluding alloy
- storage alloy
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- Prior art date
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- Pending
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は水素吸蔵合金が水素を吸収する時の特性を利用
した水素濃度の測定装置に関する。
した水素濃度の測定装置に関する。
従来例として特公昭５９−２５４５１号公報の装置を第
２図に示す。この従来例は、ナトリウム冷却高速増殖炉
用蒸気発生器の水漏洩検出計に用いて好適な水素検出器
に関するものである。図で、ナトリウム入口管１２に接
続される入口ナトリウム室１３と、水素透過膜１４が配
設される真空室１５と、水素透過膜１４により入口ナト
リウム室１３と連通されている出口ナトリウム室１６と
から形成されている。出口ナトリウム室１６にはす１〜
リウム出口管１７が接続され、真空室１５には真空排気
管１８が接続されている。１９は水素の流れを示し、２
０はナトリウムの流れを示す。この装置の作用は以下の
通りである。ナトリウム冷却高速増殖炉蒸気発生器より
採取したナトリウム２０は入口ナトリウム室１３をへて
、水素透過膜１４を通過し出口ナトリウム室１４へ流れ
る。その際、ナトリウム中に含まれる水素は水素通過膜
を通過し、真空室１５に流れる。真空室１５に流れた水
素は真空排気管１８をへて１元素分析器八と導かれて分
析を受ける。
２図に示す。この従来例は、ナトリウム冷却高速増殖炉
用蒸気発生器の水漏洩検出計に用いて好適な水素検出器
に関するものである。図で、ナトリウム入口管１２に接
続される入口ナトリウム室１３と、水素透過膜１４が配
設される真空室１５と、水素透過膜１４により入口ナト
リウム室１３と連通されている出口ナトリウム室１６と
から形成されている。出口ナトリウム室１６にはす１〜
リウム出口管１７が接続され、真空室１５には真空排気
管１８が接続されている。１９は水素の流れを示し、２
０はナトリウムの流れを示す。この装置の作用は以下の
通りである。ナトリウム冷却高速増殖炉蒸気発生器より
採取したナトリウム２０は入口ナトリウム室１３をへて
、水素透過膜１４を通過し出口ナトリウム室１４へ流れ
る。その際、ナトリウム中に含まれる水素は水素通過膜
を通過し、真空室１５に流れる。真空室１５に流れた水
素は真空排気管１８をへて１元素分析器八と導かれて分
析を受ける。
上記従来技術は、検出時間が遅く、また、計測配管中で
も水素ガスの吸着、あるいは、漏洩等があり４１す定精
度が悪い。さらに、このような水素検出装置は、ナトワ
ウ１１サンプリング系、および、真空系が一つの水素計
センサの専用となり、設備が複雑になるという欠点があ
った。
も水素ガスの吸着、あるいは、漏洩等があり４１す定精
度が悪い。さらに、このような水素検出装置は、ナトワ
ウ１１サンプリング系、および、真空系が一つの水素計
センサの専用となり、設備が複雑になるという欠点があ
った。
本発明は、小型で応答性、検出精度および信頼性が高い
水素濃度測定装置を提供することを目的とする。
水素濃度測定装置を提供することを目的とする。
上記目的は、水素透過性金属膜で形成される容器と、容
器内に設けられ水素吸収により電気抵抗値が変化する水
素吸蔵合金と、雰囲気温度が水素吸蔵合金におよぼす影
響を抑止する手段とをもつことにより達成される。
器内に設けられ水素吸収により電気抵抗値が変化する水
素吸蔵合金と、雰囲気温度が水素吸蔵合金におよぼす影
響を抑止する手段とをもつことにより達成される。
水素吸蔵合金は水素を吸収すると熱伝導率、電気抵抗値
が低下する。その低下率は水素の吸収量に比例する。こ
の電気伝導度の変化を測定することにより水素濃度の測
定が可能となる。
が低下する。その低下率は水素の吸収量に比例する。こ
の電気伝導度の変化を測定することにより水素濃度の測
定が可能となる。
本発明の一実施例を第１図に示す。この水素濃度検出装
置１において、内部が真空に保たれている真空容器２の
先端側には多数の孔が設けられ、その孔の部分の内側に
は水素透過性の良好な薄い水素透過膜３が設けられてい
る。水素透過性の良い物質には、ニッケル、バラジュウ
ム等があるが、ナトリウムとの両立性が良好なニッケル
膜が好適である。
置１において、内部が真空に保たれている真空容器２の
先端側には多数の孔が設けられ、その孔の部分の内側に
は水素透過性の良好な薄い水素透過膜３が設けられてい
る。水素透過性の良い物質には、ニッケル、バラジュウ
ム等があるが、ナトリウムとの両立性が良好なニッケル
膜が好適である。
水素透過膜３の内側には温度補償用抵抗体４がコイル状
に設けられ、その一端は真空容器２に接続し、その他端
はリード線５として真空容器２の他端に固定された端子
６に接続されている。温度補償用抵抗体４の材質は、後
述する水素吸蔵合金７と温度に対する抵抗変化率が同一
であるものが用いられる。
に設けられ、その一端は真空容器２に接続し、その他端
はリード線５として真空容器２の他端に固定された端子
６に接続されている。温度補償用抵抗体４の材質は、後
述する水素吸蔵合金７と温度に対する抵抗変化率が同一
であるものが用いられる。
真空容器２の真中には、水素吸蔵合金７が設けられてい
る。水素吸蔵合金７は、板状をなし、パラジウムが良好
である。水素吸蔵合金７の一端は、真空容器２に接続さ
れ、他端はリード線５を介して真空容器２の端部に固定
されている端子６に接続されている。
る。水素吸蔵合金７は、板状をなし、パラジウムが良好
である。水素吸蔵合金７の一端は、真空容器２に接続さ
れ、他端はリード線５を介して真空容器２の端部に固定
されている端子６に接続されている。
真空容器２の」一端側には真空排気管８が接続され、１
０−３〜１０−’Ｔｏｒｒの真空が保持されるようにな
っている。
０−３〜１０−’Ｔｏｒｒの真空が保持されるようにな
っている。
次に、水素濃度測定装置１の作用について示す。
水素ａ度測定装置を適当な雰囲気においた場合を考える
（例えば、ナトリウム冷却高速増殖炉蒸気発生器内部）
。雰囲気中の水素ガスは水素透過膜３を透過して水素濃
度測定装置１の内部に拡散される。拡散された水素ガス
は水素吸蔵合金７に吸収される。吸収される水素ガスの
量に比例して水素吸蔵合金７の電気抵抗値が低下してい
く。この電気抵抗値の変化を端子６に通じてとらえるこ
とができる。又、温度補償用抵抗体４は水素吸蔵合金と
ホイストンブリッジ回路をなし、雰囲気温度による抵抗
変化の補償を行う。
（例えば、ナトリウム冷却高速増殖炉蒸気発生器内部）
。雰囲気中の水素ガスは水素透過膜３を透過して水素濃
度測定装置１の内部に拡散される。拡散された水素ガス
は水素吸蔵合金７に吸収される。吸収される水素ガスの
量に比例して水素吸蔵合金７の電気抵抗値が低下してい
く。この電気抵抗値の変化を端子６に通じてとらえるこ
とができる。又、温度補償用抵抗体４は水素吸蔵合金と
ホイストンブリッジ回路をなし、雰囲気温度による抵抗
変化の補償を行う。
本発明によれば、一部を水素透過性金属膜で形成される
真空容器と、真空容器の内部に設けられた水素吸蔵合金
と、雰囲気温度が水素吸蔵合金におよぼす影響を抑止す
る手段とをもつことにより。
真空容器と、真空容器の内部に設けられた水素吸蔵合金
と、雰囲気温度が水素吸蔵合金におよぼす影響を抑止す
る手段とをもつことにより。
小型で応答性が著しく向上し、水素発生設備内部に多数
を同時に挿入可能となり水素発生の有無を直接的に殖認
することが可能となって信頼性が向上し、又、検出排管
系や質量分析系等が不用となり設備が単純化される。
を同時に挿入可能となり水素発生の有無を直接的に殖認
することが可能となって信頼性が向上し、又、検出排管
系や質量分析系等が不用となり設備が単純化される。
第１図は、本発明に係る一実施例を示す断面図、第２図
は、従来例に係る水素検出器の一実施例を示す断面図で
ある。 １・・・水素濃度測定装置、２・・・真空容器、３・・
・水素透過膜、４・・・温度補償用抵抗体、５・・・リ
ード線、未 １ 図 呆 図
は、従来例に係る水素検出器の一実施例を示す断面図で
ある。 １・・・水素濃度測定装置、２・・・真空容器、３・・
・水素透過膜、４・・・温度補償用抵抗体、５・・・リ
ード線、未 １ 図 呆 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、水素透過性金属膜で形成される容器と、前記容器内
に設けられた水素吸収により電気抵抗値が変化する水素
吸蔵合金と、雰囲気温度が前記水素吸蔵合金におよぼす
影響を抑止する手段とを有することを特徴とする水素濃
度測定装置。 ２、前記雰囲気温度が前記水素吸蔵合金におよぼす影響
を抑止する手段は、電気抵抗値の温度変化率が前記水素
吸蔵合金と等しい温度補償用抵抗体と、前記水素吸蔵合
金を含むホイストンブリッジを用いることを特徴とする
特許請求の範囲第１項に記載の水素濃度測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32849089A JPH03189539A (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 水素濃度測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32849089A JPH03189539A (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 水素濃度測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03189539A true JPH03189539A (ja) | 1991-08-19 |
Family
ID=18210863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32849089A Pending JPH03189539A (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 水素濃度測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03189539A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000081404A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-03-21 | Equos Research Co Ltd | 水素量測定装置 |
| JP2000097931A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-04-07 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 水素吸蔵タンクの水素吸蔵量検出方法およびその装置 |
| JP2000206073A (ja) * | 1999-01-01 | 2000-07-28 | Equos Research Co Ltd | 水素吸蔵測定方法 |
-
1989
- 1989-12-20 JP JP32849089A patent/JPH03189539A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000081404A (ja) * | 1998-06-29 | 2000-03-21 | Equos Research Co Ltd | 水素量測定装置 |
| JP2000097931A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-04-07 | Toyota Autom Loom Works Ltd | 水素吸蔵タンクの水素吸蔵量検出方法およびその装置 |
| JP2000206073A (ja) * | 1999-01-01 | 2000-07-28 | Equos Research Co Ltd | 水素吸蔵測定方法 |
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