JPH03189936A - optical disk - Google Patents

optical disk

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JPH03189936A
JPH03189936A JP1330609A JP33060989A JPH03189936A JP H03189936 A JPH03189936 A JP H03189936A JP 1330609 A JP1330609 A JP 1330609A JP 33060989 A JP33060989 A JP 33060989A JP H03189936 A JPH03189936 A JP H03189936A
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JP
Japan
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layer
adhesive
substrate
film
optical disc
Prior art date
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Pending
Application number
JP1330609A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Yatake
正弘 矢竹
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH03189936A publication Critical patent/JPH03189936A/en
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、光ディスクに関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application fields] The present invention relates to optical discs.

[従来の技術] 従来の光ディスクは、基板にハードコートをした後、記
録層を成膜して貼り合わせていた。あるいは、記録層を
成膜した後貼り合わせて、それからディスクの表面にハ
ードコートしていた。そして、その後帯電防止剤を含有
するハードコート剤を用いたり、ハードコートした後に
帯電防止剤をスプレー塗布したり、帯電防止剤をスピン
コード等の方法によって塗布したりしていた。
[Prior Art] In conventional optical discs, a substrate is hard coated, and then a recording layer is formed and bonded together. Alternatively, the recording layer was formed and then bonded together, and then the surface of the disk was hard coated. Thereafter, a hard coat agent containing an antistatic agent is used, the antistatic agent is spray applied after hard coating, or the antistatic agent is applied by a method such as a spin cord.

[発明が解決しようとする課題] しかし従来技術では以下のような問題点を有していた。[Problem to be solved by the invention] However, the conventional technology had the following problems.

帯電防止剤を含有するハードコート剤は十分な表面硬度
が得られに<(、帯電防止スプレーやスピンコード法に
よる帯電防止剤の塗布では。
A hard coating agent containing an antistatic agent cannot obtain sufficient surface hardness. However, when applying the antistatic agent using an antistatic spray or spin cord method.

初期は帯電防止効果はあるが1次第に帯電防止効果が弱
くなってしまう。また、保護層を導電性のない物質にす
ると、その上に形成される紫外線硬化樹脂の有機保護層
を形成するときや、接着剤で貼り合わせるときなどに、
有機保護層や接着剤の中に静電気による不純物が混入し
、信頼性の低下や、エラーレートの増加をきたす。
Initially, there is an antistatic effect, but the antistatic effect gradually becomes weaker. In addition, if the protective layer is made of a non-conductive material, when forming an organic protective layer of ultraviolet curable resin on top of it, or when bonding with adhesive, etc.
Static impurities get mixed into organic protective layers and adhesives, reducing reliability and increasing error rates.

そこで本発明はそのような課題を解決するものでその目
的とするところは以下のようなところにある。帯電防止
剤を含有するハードコート剤は十分な表面硬度が得られ
、帯電防止スプレーやスピンコード法による帯電防止剤
の塗布のように2次第に帯電防止効果が弱くなってしま
うことがない。
The present invention is intended to solve such problems, and its objectives are as follows. A hard coating agent containing an antistatic agent can provide sufficient surface hardness, and the antistatic effect will not gradually become weaker, unlike when applying an antistatic agent using an antistatic spray or spin cord method.

また、保護層を導電性のない物質にすると、その上に形
成される紫外線硬化樹脂の有機保護層を形成するときや
、接着剤で貼り合わせるときなどに。
Also, if the protective layer is made of a non-conductive material, it can be used when forming an organic protective layer of ultraviolet curable resin on top of it, or when bonding with adhesive.

有機保護層や接着剤の中に静電気による不純物が混入す
ることがなく、信頼性の低下や、エラーレートの増加を
きたすことがないところにある。
Impurities due to static electricity will not be mixed into the organic protective layer or adhesive, and there will be no reduction in reliability or increase in error rate.

[課題を解決するための手段] 本発明の光ディスクは、基板の片面にトラッキング用の
溝またはピットを形成した後、その基板の前述の溝また
はピットが形成されない側に光硬化性樹脂よりなるハー
ドコート層を形成し、そのハードコート層の上にZnO
系の透明導電膜を成膜し、その後、前述の基板の前述の
溝またはピットが形成された側にセラミックス層、記録
層、セラミックス層9反射層、保護層と順時成膜した記
録層部を形成した前述の基板を2枚用いて貼り合わせた
ことを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] In the optical disc of the present invention, tracking grooves or pits are formed on one side of a substrate, and then a hard disk made of a photocurable resin is formed on the side of the substrate where the grooves or pits are not formed. A coat layer is formed, and ZnO is deposited on the hard coat layer.
A recording layer portion in which a transparent conductive film of the system is formed, and then a ceramic layer, a recording layer, a ceramic layer 9 reflective layer, and a protective layer are sequentially formed on the side of the substrate on which the grooves or pits are formed. The present invention is characterized in that two of the above-mentioned substrates each having a structure formed thereon are bonded together.

本発明において接着剤には少なくともエポキシの主剤及
び硬化剤、紫外線硬化樹脂の主剤及び硬化剤の混合物に
有機過酸化物を添加したもの、あるいはエポキシ基と(
メタ)アクリロイル基を有する化合物、  例えばビス
フェノールAやビスフェノールF型、  フェノールノ
ボラック型、フレ7’ −ルツボラック型のエポキシの
部分(メタ)アクリロイル変性型の化合物に、光重合開
始剤、エポキシ硬化剤、必要に応じて有機加酸化物を添
加したものを用いるとよい。これらの接着剤において。
In the present invention, the adhesive includes at least an epoxy base agent and a curing agent, a mixture of an ultraviolet curable resin base agent and a curing agent, and an organic peroxide added thereto, or an epoxy group and (
A compound having a meth)acryloyl group, such as a partially (meth)acryloyl-modified epoxy compound such as bisphenol A, bisphenol F type, phenol novolac type, or ful7'-crucvolac type, is combined with a photopolymerization initiator, an epoxy curing agent, It is preferable to use one to which an organic oxide is added if necessary. In these adhesives.

エポキシ基の総量と(メタ)アクリロイル基の総量の比
はエポキシ基95から60%、 (メタ)ア3− 4− クリロイル基5から40%になるように作成するとよい
。願わくはエポキシ基90から80%、 (メタ)アク
リロイル基10から20%が適当である。
The ratio of the total amount of epoxy groups to the total amount of (meth)acryloyl groups is preferably 95 to 60% for epoxy groups and 5 to 40% for (meth)a3-4-acryloyl groups. Preferably, 90 to 80% epoxy groups and 10 to 20% (meth)acryloyl groups are suitable.

エポキシの主剤の例としては、ビスフェノールA系、 
ビスフェノールF系、ノボラック系等に。
Examples of epoxy base agents include bisphenol A,
For bisphenol F series, novolac series, etc.

低粘度エポキシである反応性希釈剤を添加したり。or by adding a reactive diluent, which is a low viscosity epoxy.

添加しなかったりするものを用いるとよい。反応性希釈
剤の含有量が多くなると、接着剤の粘度が低下して作業
性はよくなるが、接着層の耐熱性。
It is better to use one without adding it. When the content of the reactive diluent increases, the viscosity of the adhesive decreases and workability improves, but the heat resistance of the adhesive layer decreases.

反応性などが低下して、接着層の特性が悪くなるので添
加量はひかえた方がよい。
It is better to limit the amount of addition as it will reduce the reactivity and deteriorate the properties of the adhesive layer.

エポキシの硬化剤としては酸無水物、芳香族アミン、脂
肪族アミン、アミド等あるが、その中でポットライフが
常温で1から50時間にあるものを用いるとよ(,40
’Cから80℃で硬化できる硬化剤を選択するとよい。
Epoxy curing agents include acid anhydrides, aromatic amines, aliphatic amines, amides, etc. Among them, it is best to use one with a pot life of 1 to 50 hours at room temperature.
It is advisable to select a curing agent that can be cured at temperatures ranging from 'C to 80°C.

その例としては、2−エチル−4メチルイミダゾール、
1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、 1−イソブ
チル−2メチルイミダゾール等のイミダゾール系、メン
タンジアミン等の環状脂肪族アミンなどがある。
Examples include 2-ethyl-4methylimidazole,
Examples include imidazole series such as 1-benzyl-2-methylimidazole and 1-isobutyl-2methylimidazole, and cycloaliphatic amines such as menthanediamine.

紫外線硬化樹脂の主剤としては常温で比較的低粘度のも
のがよ<、シかも反応性の高いものを用いるとよく、そ
の例としては1,6−ヘキサンジオールジアクリレート
、 トリメチロールプロパントリアクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、ジペンタエリスルト
ールへキサアクリレート、トリプロピレングリコールジ
アクリレート等があるので、これらを主成分にするとよ
い。
As the main ingredient of the ultraviolet curable resin, it is best to use one that has a relatively low viscosity at room temperature and one that is highly reactive; examples include 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, Since there are neopentyl glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, tripropylene glycol diacrylate, etc., it is preferable to use these as the main ingredients.

紫外線硬化樹脂の硬化剤の例としては300nmより長
い波長に吸収があるものを用いる。その例トしてはベン
ジルジメチルケタール、1−ヒ)’ロキシシクロへキシ
ルフェニルケトン、2−メチル−[4−(メチルチオ)
フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、ベン
ゾイン、ベンゾンエチルエーテル、ベンゾインイソブチ
ルエーテル、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−
ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒド
ロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン
、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等が
挙げられる。
As an example of the curing agent for the ultraviolet curable resin, one that absorbs at wavelengths longer than 300 nm is used. Examples include benzyl dimethyl ketal, 1-h)'roxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-[4-(methylthio)
phenyl]-2-morpholino-1-propanone, benzoin, benzone ethyl ether, benzoin isobutyl ether, 1-(4-isopropylphenyl)-2-
Examples include hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone.

有機過酸化物の例としては40℃から70℃に加熱する
と数時間で分解するものが好ましく、その例としては、
ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ミリ
スチルパーオキシジカーボネート、クミルパーオキシネ
オヘキサノエート。
Preferred examples of organic peroxides include those that decompose within several hours when heated from 40°C to 70°C;
Di-n-propyl peroxydicarbonate, di-myristyl peroxydicarbonate, cumyl peroxyneohexanoate.

ジ(2−エトキシエチル)パーオキシジカーボネート、
ジ(メトキシイソプロピル)パーオキシジカーボネート
、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート
、 t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、2,4
−ジクロロベンゾイルパーオキシド、 t−ヘキシルパ
ーオキシビバレート。
di(2-ethoxyethyl) peroxydicarbonate,
Di(methoxyisopropyl) peroxydicarbonate, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, t-hexyl peroxyneodecanoate, 2,4
-dichlorobenzoyl peroxide, t-hexyl peroxybivalate.

t−ブチルパーオキシビバレート、  3. 5. 5
トリメチルヘキサノイルパーオキシド、オクタノイルパ
ーオキシド、デカノイルパーオキシド、ラウロイルパー
オキシド、クミルパーオキシオクトエート、サクシン酸
パーオキシド、アセチルノ<−オキシド、  t−−ブ
チルパーオキシ(2−エチルヘキサノエート)1m−ト
ルイルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、 t−
ブチルパーオキシイソブチレート、  1. 1−ビス
(1−ブチルパーオキシ) 3. 3. 5−1リメチ
ルシクロヘキサン。
t-butyl peroxyvivalate, 3. 5. 5
Trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, cumyl peroxyoctoate, succinic acid peroxide, acetyl oxide, t-butyl peroxy (2-ethylhexanoate) 1 m -Toluyl peroxide, benzoyl peroxide, t-
Butyl peroxyisobutyrate, 1. 1-bis(1-butylperoxy) 3. 3. 5-1 Limethylcyclohexane.

1.1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン
、  t−7’チルパーオキシマレイン酸、tブチルパ
ーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシ3. 5.
 5−トリメチルヘキサノエート、シクロヘキサノンパ
ーオキシド、t−ブチルパーオキシアリルカーボネート
、 t−ブチルパーオキシイソプロビルカーボネート、
  2. 5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパー
オキシ)ヘキサン。
1.1-bis(t-butylperoxy)cyclohexane, t-7' tylperoxymaleic acid, t-butylperoxylaurate, t-butylperoxy3. 5.
5-trimethylhexanoate, cyclohexanone peroxide, t-butyl peroxyallyl carbonate, t-butyl peroxyisopropyl carbonate,
2. 5-dimethyl-2,5-di(benzoylperoxy)hexane.

2.2−ビス(t−ブチルパーオキシ)オクタン。2.2-bis(t-butylperoxy)octane.

t−ブチルパーオキシアセテート、  2. 2−ビス
(t−ブチルパーオキシ)ブタン、 t−ブチルパーオ
キシベンゾエート等が挙げられる。
t-butyl peroxyacetate, 2. Examples include 2-bis(t-butylperoxy)butane and t-butylperoxybenzoate.

本発明において、貼り合わせ時の温度は接着剤の粘度に
より変える必要があり9.常温より高くすることが好ま
しいが、一定の定状温度を得やすくするため、70℃以
下にすることが好ましい。より好ましくは40℃から6
0°Cである。接着剤を硬化させるための基板加熱は接
着剤の硬化温度に7− 合わせて,40℃から80℃が好ましい。より好ましく
は50℃から70℃である。
In the present invention, the temperature during bonding must be changed depending on the viscosity of the adhesive9. Although it is preferable to set the temperature higher than normal temperature, it is preferable to set the temperature to 70° C. or lower in order to easily obtain a constant constant temperature. More preferably from 40℃ to 6
It is 0°C. The substrate heating for curing the adhesive is preferably from 40°C to 80°C, depending on the curing temperature of the adhesive. More preferably it is 50°C to 70°C.

本発明に於て,エポキシと紫外線硬化樹脂の配合割合は
エポキシ樹脂の配合割合が多い方が接着剤としての特性
がよ(、エポキシと紫外線硬化樹脂の比が重量比で95
: 5から70:  aoが好ましい。ここでエポキシ
とはエポキシの主剤と硬化剤のことを示し,紫外線硬化
樹脂とは紫外線硬化樹脂の主剤と硬化剤に有機過酸化物
を添加したものを示す。
In the present invention, as for the blending ratio of epoxy and ultraviolet curable resin, the greater the blending ratio of epoxy resin, the better the properties as an adhesive (the ratio of epoxy and ultraviolet curable resin is 95% by weight).
: 5 to 70: ao is preferred. Here, epoxy refers to an epoxy main ingredient and a curing agent, and an ultraviolet curable resin refers to an ultraviolet curable resin in which an organic peroxide is added to the main ingredient and a curing agent.

本発明に於て,貼り合わせを減圧下で行なうと接着剤の
脱泡も容易になり,接着層に気泡を取り込みにくくなる
In the present invention, if the bonding is carried out under reduced pressure, the adhesive can be easily degassed and air bubbles are less likely to be incorporated into the adhesive layer.

本発明において,ディスクを貼り合わせて光を照射して
仮止めした後放置する時間は接着剤が自然に硬化する時
間以上に設定した方がよい。例えば、自然放置して50
時間で全く流動性がなくなって硬化する接着剤で貼り合
わせた場合には50時間以上に設定した方がよい。10
時間で全く流動性がなくなる場合は10時間以上に設定
する。
In the present invention, it is preferable that the time for which the disks are left to stand after being bonded together and temporarily fixed by irradiation with light is set to be longer than the time for the adhesive to harden naturally. For example, if you leave it alone for 50
In the case of bonding with an adhesive that completely loses fluidity and hardens over time, it is better to set the time to 50 hours or more. 10
If the fluidity disappears after a certain amount of time, set it to 10 hours or more.

[実施例コ 以下本発明について図面に基づいて詳細に説明する。[Example code] The present invention will be explained in detail below based on the drawings.

第1図は本発明になる光ディスクの基本構成図であり,
1及び8はポリカーボネートの基板,2及び9はSiA
IN層,3及び10はNdDyFeCo層,4及び11
はSiAIN層,5及び12はAI−Ge層,6及び1
3はZnA10層。
FIG. 1 is a basic configuration diagram of the optical disc according to the present invention.
1 and 8 are polycarbonate substrates, 2 and 9 are SiA
IN layers 3 and 10 are NdDyFeCo layers 4 and 11
is a SiAIN layer, 5 and 12 are AI-Ge layers, 6 and 1 are
3 is 10 layers of ZnA.

7は接着層, 14及び15はハードフート層, 16
及び17はZnA10層である。
7 is an adhesive layer, 14 and 15 are hard foot layers, 16
and 17 is a ZnA10 layer.

l及び8のポリカーボネートの基板は射出圧縮成形によ
って形成した。2及び9のSiAIN層はS iAlの
焼結ターゲットを用いて,窒素とアルゴンの混合ガスを
用いることによるRF反応マグネトロンスパッタ法によ
って成膜したものである。3及び10のNdDyFeC
o層はNdDyFeCoの合金ターゲットを用いたDC
マグネトロンスパッタ法によって成膜したものである。
The polycarbonate substrates of Nos. 1 and 8 were formed by injection compression molding. The SiAIN layers 2 and 9 were formed by RF reaction magnetron sputtering using a mixed gas of nitrogen and argon using a SiAl sintered target. 3 and 10 NdDyFeC
The o layer is a DC using an alloy target of NdDyFeCo.
The film was formed by magnetron sputtering.

4及び11のSiAIN層は2及び9のSiAIN層と
同様に,窒素とアルゴンの混合ガスを導入することによ
るRF反応マグネトロンスパッタ法によって成膜したも
のである。5及び12のAtGe層はAl−Geのター
ゲットを用いてアルゴンガスを導入することによるDC
マグネトロンスパッタ法によって成膜したものである。
Similar to the SiAIN layers 2 and 9, the SiAIN layers 4 and 11 were formed by the RF reaction magnetron sputtering method by introducing a mixed gas of nitrogen and argon. AtGe layers 5 and 12 were DC-treated by introducing argon gas using an Al-Ge target.
The film was formed by magnetron sputtering.

9及び13の保護層はZnAl0の焼結ターゲットを用
いてアルゴンと酸素の混合ガスを導入することによるR
Fマグネトロンスパッタ法によって成膜したものである
The protective layers 9 and 13 are formed by R by introducing a mixed gas of argon and oxygen using a sintered target of ZnAl0.
The film was formed by F magnetron sputtering.

第2図(a)から第2図(f)は本発明になる光ディス
クの製造方法の概略図である。18は基板の外周部の記
録層が成膜されない部分、19は基板の内周部の記録層
が成膜されない部分、20はディスクのセンターホール
部、21はデイスペンサー、22はリング状に塗布され
た接着層、23はヒーター、24はメタルハライドラン
プ、25は紫外線、26はオーブンである。
FIGS. 2(a) to 2(f) are schematic diagrams of the method for manufacturing an optical disc according to the present invention. Reference numeral 18 indicates a portion on the outer periphery of the substrate where the recording layer is not formed, 19 indicates a portion on the inner periphery of the substrate where the recording layer is not formed, 20 indicates the center hole portion of the disk, 21 indicates the dispenser, and 22 indicates the coating in a ring shape. 23 is a heater, 24 is a metal halide lamp, 25 is an ultraviolet light, and 26 is an oven.

20のデイスペンサーを用いて、22のようにリング状
の接着剤を塗布した後、真空内で貼り合わせて、23の
ヒターにより接着剤を広げて、24のメタルハライドラ
ンプにより紫外線を照射して18や19の記録層が成膜
されない部分の接着剤を硬化させ、24時間放置して接
着剤をある程度硬化させて、26のオーブンに入れて、
50°Cで3時間60℃で8時間、80℃で2時間加熱
して接着層を硬化させた。接着剤を硬化させた。
After applying a ring-shaped adhesive as shown in 22 using a dispenser in 20, the adhesive is pasted together in a vacuum, the adhesive is spread with a heater in 23, and ultraviolet rays are irradiated with a metal halide lamp in 24. The adhesive in the area where the recording layer of No. 19 is not formed is cured, left for 24 hours to harden the adhesive to some extent, and placed in the oven of No. 26.
The adhesive layer was cured by heating at 50°C for 3 hours, 60°C for 8 hours, and 80°C for 2 hours. The adhesive was cured.

7の接着層は大日本インキ化学工業のエピクロンS−1
29と油化シェルエポキシのエビキュアーIBMI−1
2と1. 6−ヘキサンジオールジアクリレートとt−
ブチルパーオキシイソブチレートとチバガイギー社製の
イルガキュアー907の混合物を用いた。
The adhesive layer in No. 7 is Epicron S-1 from Dainippon Ink and Chemicals.
29 and oil-based shell epoxy Ebicure IBMI-1
2 and 1. 6-hexanediol diacrylate and t-
A mixture of butyl peroxyisobutyrate and Irgacure 907 manufactured by Ciba Geigy was used.

14及び15のハードコート層はトリメチロールプロパ
ントリアクリレートと1,6−へ牛サンジオールジアク
リレートとチバガイギー社製のイルカキュアー907を
基板表面にスピンコードした後、高圧水銀灯により紫外
線を照射して硬化させたものである。
The hard coat layers 14 and 15 were spin-coded with trimethylolpropane triacrylate, 1,6-benzenediol diacrylate, and Dolphincure 907 manufactured by Ciba Geigy on the substrate surface, and then cured by irradiating ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp. This is what I did.

16及び17のZnAl0層はZnA10の焼結ターゲ
ットを用いて、アルゴンと酸素の混合ガ11− 12− スを導入することによるRFマグネトロンスパッタ法に
よって成膜したものである。
The ZnAl0 layers 16 and 17 were formed by RF magnetron sputtering using a ZnA10 sintered target and introducing a mixed gas of argon and oxygen.

また、7の接着層として、ビスフェノールF系のエポキ
シ樹脂の全エポキシ基の20%がアクリロイル基である
化合物にチバガイギー社のイルガキュアー907を1.
5%、油化シェルエポキシのエビキュアーBMI−12
を6%、γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン
を3%添加したものを用いて、他の条件は第1図の構成
と変えずに光ディスクを作成したところ、第1図とほぼ
同等の特性を有する光ディスクが作成できた。
In addition, as the adhesive layer of No. 7, Ciba Geigy's Irgacure 907 was added to a bisphenol F-based epoxy resin in which 20% of all epoxy groups are acryloyl groups.
5%, oily shell epoxy Ebicure BMI-12
When an optical disc was prepared using 6% of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3% of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, with the other conditions unchanged from the configuration shown in Figure 1, the result was almost the same as that shown in Figure 1. An optical disc with these characteristics was created.

次に、従来の方法で光ディスクを作成した例について説
明する。ロールフート法で貼り合わせた光ディスクは、
70’C90%RH7’1000時間耐候性試験したと
ころ、記録層が酸化してピットエラーレートが増大した
。本発明になる第1図に示す光ディスクも同時に試験し
たがピットエラーレートの変化はなかった。通常のエポ
キシ樹脂を用いて貼り合わせた光ディスクは貼り合わせ
時の粘度が高かったため接着層が厚めになり9面振れ量
が本発明になる第1図に示す光ディスクより大きくなっ
た。通常のエポキシ樹脂を用いたものが最大7ミリラジ
アン、第1図に示す光ディスクが最大2ミリラジアンで
あった。また1通常のエポキシ樹脂を用いて貼り合わせ
た光ディスクでは。
Next, an example of creating an optical disc using a conventional method will be described. Optical discs bonded together using the roll foot method are
When a 70'C90%RH7' 1000 hour weather resistance test was carried out, the recording layer was oxidized and the pit error rate increased. The optical disk according to the present invention shown in FIG. 1 was also tested at the same time, but there was no change in pit error rate. The optical disc bonded using a normal epoxy resin had a high viscosity at the time of bonding, so the adhesive layer was thicker and the nine-plane runout amount was larger than that of the optical disc of the present invention shown in FIG. The maximum power consumption was 7 milliradians using a normal epoxy resin, and the maximum power consumption was 2 milliradians for the optical disc shown in FIG. 1. In the case of optical discs bonded together using ordinary epoxy resin.

接着剤硬化時にディスクの外周から溢れ出して光ディス
クの概観を損なった。接着剤が熱で硬化するタイプでは
温度制御が難しく、基板が接着層硬化時に動かないよう
にしておく必要があり、常温硬化型の接着剤で貼り合わ
せると接着層硬化時に記録層に応力がかかり再生信号の
エンベロープが乱れ、エラーが増加した。また、保護層
がない場合は耐候性が悪く、80℃90%1000時間
で孔食が発生した。保護層として誘電体を用いた場合は
耐候性はよいが、貼り合わせ時に付着したゴミをとるの
に苦労した。ゴミが付着したまま貼り合わせると耐候性
が悪かったり、ピットエラーレートの値が大きかったり
した。
When the adhesive cured, it overflowed from the outer periphery of the disc, spoiling the appearance of the optical disc. Temperature control is difficult with adhesives that cure with heat, and it is necessary to ensure that the substrate does not move while the adhesive layer is curing.If the adhesive is bonded with an adhesive that cures at room temperature, stress will be applied to the recording layer when the adhesive layer hardens. The envelope of the playback signal was disturbed and errors increased. In addition, when there was no protective layer, weather resistance was poor, and pitting corrosion occurred after 1000 hours at 80°C and 90%. When a dielectric material is used as the protective layer, weather resistance is good, but it is difficult to remove dust that adheres during bonding. If they were pasted together with dust attached, the weather resistance would be poor and the pit error rate would be high.

以上の様に従来の方法で作成した光ディスクは耐候性が
悪かったり9作成方法が難しく歩留りが低い等の問題点
を有している。しかし9本発明では従来発生していた問
題がない、信頼性が高く作成が容易な光ディスクである
ことがわかる。
As described above, optical disks manufactured by conventional methods have problems such as poor weather resistance and difficult manufacturing methods, resulting in low yields. However, it can be seen that the optical disc of the present invention is highly reliable and easy to produce without the problems that have conventionally occurred.

尚2本発明はこれらの実施例に限定されると考えられる
べきではなく2本発明の主旨を逸脱しない限り種々の変
更は可能である。
It should be noted that the present invention should not be considered limited to these embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

[発明の効果] 以上述べたように本発明の光ディスクによれば。[Effect of the invention] As described above, according to the optical disc of the present invention.

帯電防止剤を含有するハードコート剤は十分な表面硬度
が得られ、帯電防止スプレーやスピンコード法による帯
電防止剤の塗布のように2次第に帯電防止効果が弱くな
ってしまうことがない。また。
A hard coating agent containing an antistatic agent can provide sufficient surface hardness, and the antistatic effect will not gradually become weaker, unlike when applying an antistatic agent using an antistatic spray or spin cord method. Also.

保護層を導電性のない物質にするときなどのように、そ
の上に形成される紫外線硬化樹脂の有機保護層を形成す
るときや、接着剤で貼り合わせるときなどに、有機保護
層や接着剤の中に静電気による不純物が混入することが
なく、信頼性の低下や。
When the protective layer is made of a non-conductive material, when an organic protective layer of ultraviolet curable resin is formed on top of the protective layer, or when bonded with an adhesive, an organic protective layer or an adhesive is used. Impurities caused by static electricity will not be mixed into the product, reducing reliability.

エラーレートの増加をきたすことがないという効果を有
する。
This has the effect of not causing an increase in error rate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明になる光記録媒体の基本構成図。 第2図(a)から第2図(f)は本発明になる光ディス
クの製造方法の概略図である。 1.8・・・・ポリカーボネートの基板2.9・・・・
5jAINの保護層 3、 10・・−NdDyFeCoの記録層4、11・
・・S fAINの保護層 5.12・・・Al−Ge層 6.13・−・ZnA10層 7・・・・・・接着層 14.15 ・・ハードコート層 16.17一−ZnAl0層 18・・・・・基板の外周部の記録層が成膜されない部
分 19・・・・・基板の内周部の記録層が成膜されない部
分 20・・・・・ディスクのセンターホール部21・・・
・・デイスペンサー 22・・・・・リング状に塗布された接着層23・・・
・・ヒーター 15− =16− 24 ・ ・ ・メタルハライドランプ 25 ・ ・・紫外線 26 ・ ・・オーブン 以上
FIG. 1 is a basic configuration diagram of an optical recording medium according to the present invention. FIGS. 2(a) to 2(f) are schematic diagrams of the method for manufacturing an optical disc according to the present invention. 1.8... Polycarbonate substrate 2.9...
5jAIN protective layer 3, 10...-NdDyFeCo recording layer 4, 11...
... Protective layer of S fAIN 5.12 ... Al-Ge layer 6.13 ... ZnA10 layer 7 ... Adhesive layer 14.15 ... Hard coat layer 16.17 - ZnAl0 layer 18 ... Portion 19 on the outer periphery of the substrate where the recording layer is not formed... Portion 20 on the inner circumference of the substrate where the recording layer is not formed ... Center hole portion 21 of the disk...・
... Dispenser 22 ... Adhesive layer 23 applied in a ring shape...
... Heater 15- = 16- 24 ... Metal halide lamp 25 ... Ultraviolet light 26 ... Oven or higher

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)前記基板の片面にトラッキング用の溝またはピッ
トを形成した後、該基板の前記溝またはピットが形成さ
れない側に光硬化性樹脂よりなるハードコート層を形成
し、該ハードコート層の上にZnO系の透明導電膜を成
膜し、その後、前記基板の前記溝またはピットが形成さ
れた側にセラミックス層、記録層、セラミックス層、反
射層、保護層と順時成膜した記録層部を形成した前記基
板を2枚用いて貼り合わせたことを特徴とする光ディス
ク。
(1) After forming tracking grooves or pits on one side of the substrate, a hard coat layer made of a photocurable resin is formed on the side of the substrate where the grooves or pits are not formed, and on the hard coat layer. A recording layer portion in which a ZnO-based transparent conductive film is formed on the substrate, and then a ceramic layer, a recording layer, a ceramic layer, a reflective layer, and a protective layer are sequentially formed on the side of the substrate where the grooves or pits are formed. An optical disc characterized in that two of the above-mentioned substrates each having a structure formed thereon are bonded together.
(2)前記ZnO系の透明導電膜がZnO膜、ZnAl
O膜、ZnGaO膜、ZnInO膜、ZnTi膜、ある
いはこれらの混合系であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の光ディスク。
(2) The ZnO-based transparent conductive film is a ZnO film, ZnAl
The optical disc according to claim 1, characterized in that it is an O film, a ZnGaO film, a ZnInO film, a ZnTi film, or a mixture thereof.
(3)前記保護層がZnO系のセラミック層であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ディスク。
(3) The optical disc according to claim 1, wherein the protective layer is a ZnO-based ceramic layer.
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