JPH03191083A - 粗し加工面への黒色めつき方法 - Google Patents
粗し加工面への黒色めつき方法Info
- Publication number
- JPH03191083A JPH03191083A JP33070789A JP33070789A JPH03191083A JP H03191083 A JPH03191083 A JP H03191083A JP 33070789 A JP33070789 A JP 33070789A JP 33070789 A JP33070789 A JP 33070789A JP H03191083 A JPH03191083 A JP H03191083A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- resist
- roughened
- black plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、赤外線透過基板上に粗し加工した面のみ黒
色めっきパターンを形成する製造方法。
色めっきパターンを形成する製造方法。
特にパターン用の写真蝕刻を施し念マスクを使用せず複
雑なパターンを形成する黒色めっきパターン製造方法に
関するものである。
雑なパターンを形成する黒色めっきパターン製造方法に
関するものである。
第２図（ａ）〜＠は従来のあらし加工面への黒色めっき
工程の断面図であり２図において＋１１は基板。
工程の断面図であり２図において＋１１は基板。
（２）は反射防止膜、（３）は紫外線に反応するフォト
レジスト、（４）は所望パターン形状にあらかじめ写真
蝕刻を施したガラスマスク、（５）は黒色めっき膜であ
る。
レジスト、（４）は所望パターン形状にあらかじめ写真
蝕刻を施したガラスマスク、（５）は黒色めっき膜であ
る。
従来、赤外線透過基板上に黒色めっきパターンを形成す
るには第２図（ａ）〜Ｃ）の工程図に示すように先ず基
板（１）の上に位置合せマークを粗し加工時に写真蝕刻
によ）形成し２次に所望の透過率を得るため反射防止膜
（２）の蒸着を行い（第２図ψ）参照）。
るには第２図（ａ）〜Ｃ）の工程図に示すように先ず基
板（１）の上に位置合せマークを粗し加工時に写真蝕刻
によ）形成し２次に所望の透過率を得るため反射防止膜
（２）の蒸着を行い（第２図ψ）参照）。
更にフォトレジスト（３）の塗布を行い（第２図（Ｃ）
参照）これを上記位置合わせマークにパターンを写真蝕
刻したガラスマスク（４）を位置合わせした後。
参照）これを上記位置合わせマークにパターンを写真蝕
刻したガラスマスク（４）を位置合わせした後。
紫外線照射露光、現像（第１図（ｄ）〜（θ）参照）を
行うことによル非めっき部分上のみにマスキングとして
のフォトレジストパターンを形成し、黒色めっき膜（５
）を製造する方法となっている（第２図（ロ）参照）。
行うことによル非めっき部分上のみにマスキングとして
のフォトレジストパターンを形成し、黒色めっき膜（５
）を製造する方法となっている（第２図（ロ）参照）。
上記のような従来の粗し加工面への黒色めっき方法では
、ガラスマスク（４）の位置合わせ用マークを粗し加工
時に施さなければならず、まり、カラスマスク（４）と
フォトレジスト（３）全接触させるため。
、ガラスマスク（４）の位置合わせ用マークを粗し加工
時に施さなければならず、まり、カラスマスク（４）と
フォトレジスト（３）全接触させるため。
ごみや島によるレジストパターンの欠陥が生じるなどの
課題があった。
課題があった。
この発明は上記のような課題を解消するためになされｔ
もので、ガラスマスクを用いないレジストのパターンニ
ングができるとともに、レジストパターンの欠陥を無（
すことができる製造方法を得ることを目的とする。
もので、ガラスマスクを用いないレジストのパターンニ
ングができるとともに、レジストパターンの欠陥を無（
すことができる製造方法を得ることを目的とする。
この発明に係る製造方法は、赤外線を照射し。
粗し加工面と鏡面の温度上昇の時間差を利用し友もので
ある。
ある。
〔作用〕
この発明においては、ガラスマスクによる位置合わせ工
程が不要となシ工程が簡略化され、また。
程が不要となシ工程が簡略化され、また。
ガラスマスク自体が不要となる。更にガラスマスクとの
非接触化によシレジストパターン欠陥が減少する。
非接触化によシレジストパターン欠陥が減少する。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図は各工程に於ける断面図を示したものである。図にお
いて先ず基板（１）の上に反射防止膜（２）の蒸着を行
い（第１図ＣＢ）参照）、更にこの上に熱可塑性レジス
ト（６）を塗布する。（第１図（Ｃ）参照）このレジメ
）ｔ−赤外線照射し、現像することで鏡面上のみにレジ
ストパターンを形成する。（第１図の）〜０）参照）次
に黒色めっきを実施し、最後にレジストを除去する製造
方法である。
図は各工程に於ける断面図を示したものである。図にお
いて先ず基板（１）の上に反射防止膜（２）の蒸着を行
い（第１図ＣＢ）参照）、更にこの上に熱可塑性レジス
ト（６）を塗布する。（第１図（Ｃ）参照）このレジメ
）ｔ−赤外線照射し、現像することで鏡面上のみにレジ
ストパターンを形成する。（第１図の）〜０）参照）次
に黒色めっきを実施し、最後にレジストを除去する製造
方法である。
上記のような簡略化した工程を実現するため。
本発明では２反射防止膜上に熱可塑性レジストを塗布し
基板のレジスト無塗布面から近赤外線を照射する。あら
し加工面と鏡面では赤外線の透過率が異なるため近赤外
光の透過の悪いあらし加工面上と透過の良い鏡面上では
熱変化温度１での到達時間が異なる。この時間差を利用
し、あらし面のみレジストが可塑温度に達した状態でレ
ジスト膜を現像し、鏡面上のみにレジストパターンを形
成することでマスキングを行い黒色めっきを容易に実施
できることを特徴とするものである。
基板のレジスト無塗布面から近赤外線を照射する。あら
し加工面と鏡面では赤外線の透過率が異なるため近赤外
光の透過の悪いあらし加工面上と透過の良い鏡面上では
熱変化温度１での到達時間が異なる。この時間差を利用
し、あらし面のみレジストが可塑温度に達した状態でレ
ジスト膜を現像し、鏡面上のみにレジストパターンを形
成することでマスキングを行い黒色めっきを容易に実施
できることを特徴とするものである。
以上のように、この発明によれば赤外線透過基板上に黒
色めっきを施す際のガラスマスクによる位置合わせが不
要とな〕製造工程が簡略化されるとともに、ガラスマス
ク自体も不要となるように構成したので、製造コストが
安価とな）、ｔた。
色めっきを施す際のガラスマスクによる位置合わせが不
要とな〕製造工程が簡略化されるとともに、ガラスマス
ク自体も不要となるように構成したので、製造コストが
安価とな）、ｔた。
ガラスマスクによるレジスト膜への接触がないため、ご
みや傷によるレジストパターンの欠陥が少なくできる効
果もある。
みや傷によるレジストパターンの欠陥が少なくできる効
果もある。
第１図はこの発明の一実施例による赤外線透過基板粗し
加工面への黒色めっき工程の断面図、第２図は従来の赤
外線透過基板への黒色めっき工程の断面図である。 ｆｉ＋は基板、（２）は反射防止ｇ、 ｔａ＋はフオト
レジス）、＋４１はガラスマスク、（５）は黒色めっき
膜、（６）は熱可塑性レジストである。 なお１図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
加工面への黒色めっき工程の断面図、第２図は従来の赤
外線透過基板への黒色めっき工程の断面図である。 ｆｉ＋は基板、（２）は反射防止ｇ、 ｔａ＋はフオト
レジス）、＋４１はガラスマスク、（５）は黒色めっき
膜、（６）は熱可塑性レジストである。 なお１図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 粗し加工された赤外線透過基板上に赤外線の反射を防止
する膜を形成し，この膜の上に熱可塑性を有する樹脂か
ら成る膜を形成した後，上記樹脂膜の無い基板面から赤
外線を照射することにより，赤外線透過基板上の粗し加
工を施していない鏡面部分のみに樹脂膜を形成すること
を特徴とする粗し加工面への黒色めつき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33070789A JPH03191083A (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 粗し加工面への黒色めつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33070789A JPH03191083A (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 粗し加工面への黒色めつき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03191083A true JPH03191083A (ja) | 1991-08-21 |
Family
ID=18235665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33070789A Pending JPH03191083A (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 粗し加工面への黒色めつき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03191083A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05222485A (ja) * | 1992-02-10 | 1993-08-31 | Kobe Steel Ltd | プレス成形性及び樹脂との親和性に優れた熱延鋼板及びその製造方法 |
| JP2009293119A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-17 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | メッキ層の形成方法 |
-
1989
- 1989-12-20 JP JP33070789A patent/JPH03191083A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05222485A (ja) * | 1992-02-10 | 1993-08-31 | Kobe Steel Ltd | プレス成形性及び樹脂との親和性に優れた熱延鋼板及びその製造方法 |
| JP2009293119A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-17 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | メッキ層の形成方法 |
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