JPH03192521A - 薄膜磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
薄膜磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH03192521A JPH03192521A JP33150589A JP33150589A JPH03192521A JP H03192521 A JPH03192521 A JP H03192521A JP 33150589 A JP33150589 A JP 33150589A JP 33150589 A JP33150589 A JP 33150589A JP H03192521 A JPH03192521 A JP H03192521A
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- Japan
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- surface roughness
- magnetic
- drying
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、コンピュータなど情報処理装置の外部記憶
装置として用いられる固定磁気ディスク装置に適用され
る薄膜磁気記録媒体の製造方法に関する。
装置として用いられる固定磁気ディスク装置に適用され
る薄膜磁気記録媒体の製造方法に関する。
薄膜磁気記録媒体（以下、単に媒体とも称する）は、−
船釣に、Ｍ合金基板を所定の平行度。
船釣に、Ｍ合金基板を所定の平行度。
平面度１表面粗度に仕上げ、その表面に無電解めっき法
でＮ１−Ｐ合金層を形成し、このＮ１−Ｐ合金層表面を
所要の均一な粗度に研磨して非磁性基板とし、この非磁
性基板の表面を溶剤、界面活性剤、純水などで精密洗浄
したのち、Ｉ Ｐ Ａ（ｉｓ。
でＮ１−Ｐ合金層を形成し、このＮ１−Ｐ合金層表面を
所要の均一な粗度に研磨して非磁性基板とし、この非磁
性基板の表面を溶剤、界面活性剤、純水などで精密洗浄
したのち、Ｉ Ｐ Ａ（ｉｓ。
−ｐｒｏｐｙｌａｌｃｏｈｏ１）、 フレオン−１１
３（デュポン製；１、 １． ２−ｔｒｉｃｈｌｏｒｏ
−１，２，２−ｔｒｉｆｌｕｏｒ。
３（デュポン製；１、 １． ２−ｔｒｉｃｈｌｏｒｏ
−１，２，２−ｔｒｉｆｌｕｏｒ。
−ｅｔｈａｎｅ ）などの含ふっ素炭化水素系溶剤で蒸
気浸漬洗浄乾燥を施し、その上にスパッタ法で磁性を強
化するためのＣｒ下地層、磁性層としてのＣｏ合金層、
保護潤滑層としてのａ−Ｃ層を順次成膜積層して製作さ
れる。固定磁気ディスク装置では、通常、ＣＳ Ｓ （
Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式が採られ
るため、媒体表面は磁気ヘッドの安定した低浮上走行が
実現でき、かつ、摩擦係数が小さくて磁気ヘッドとの摺
動が円滑に行われるように、適切に微細にあれた表面形
状であることが要求される。
気浸漬洗浄乾燥を施し、その上にスパッタ法で磁性を強
化するためのＣｒ下地層、磁性層としてのＣｏ合金層、
保護潤滑層としてのａ−Ｃ層を順次成膜積層して製作さ
れる。固定磁気ディスク装置では、通常、ＣＳ Ｓ （
Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式が採られ
るため、媒体表面は磁気ヘッドの安定した低浮上走行が
実現でき、かつ、摩擦係数が小さくて磁気ヘッドとの摺
動が円滑に行われるように、適切に微細にあれた表面形
状であることが要求される。
ところが、従来の製造方法で作製された媒体では、高記
録密度を得るために磁気ヘッドの極低浮上走行（例えば
浮上量的０．１２μｍ）が要求されるような場合には、
媒体の表面粗度のばらつきが大きすぎて、適切な磁気ヘ
ッド滑走特性を有していないという問題があった。
録密度を得るために磁気ヘッドの極低浮上走行（例えば
浮上量的０．１２μｍ）が要求されるような場合には、
媒体の表面粗度のばらつきが大きすぎて、適切な磁気ヘ
ッド滑走特性を有していないという問題があった。
この発明は、上述の問題点を解消して、表面粗さのばら
つきが少なくて磁気ヘッドの安定した極低浮上走行を可
能とする適切な磁気ヘッド滑走特性を有する表面を備え
た薄膜磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題と
する。
つきが少なくて磁気ヘッドの安定した極低浮上走行を可
能とする適切な磁気ヘッド滑走特性を有する表面を備え
た薄膜磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題と
する。
上記の課題は、この発明によれば、所要の表面粗さに加
工された非磁性基板を洗浄し乾燥した後、この非磁性基
板上にスパッタ法で非磁性金属下地層、磁性層、保護潤
滑層を順次成膜積層する薄膜磁気記録媒体の製造方法に
おいて、前記乾燥を非磁性基板を回転させそのときの遠
心力を利用した常温乾燥とする製造方法とすることによ
って解決される。
工された非磁性基板を洗浄し乾燥した後、この非磁性基
板上にスパッタ法で非磁性金属下地層、磁性層、保護潤
滑層を順次成膜積層する薄膜磁気記録媒体の製造方法に
おいて、前記乾燥を非磁性基板を回転させそのときの遠
心力を利用した常温乾燥とする製造方法とすることによ
って解決される。
媒体の表面粗度は非磁性基板の表面粗度がベースとなり
、その上に媒体を構成するに必要な各層をスパッタ法で
成膜した結果形成される表面微小突起が加わって決まる
。
、その上に媒体を構成するに必要な各層をスパッタ法で
成膜した結果形成される表面微小突起が加わって決まる
。
従来の製造方法においては、スパッタ成膜前の非磁性基
板の乾燥はＩＰＡ（沸点約７０℃）、フレオン−１１３
（沸点約４７℃）などを用いた蒸気浸漬洗浄乾燥であり
、かなりの高温での乾燥が行われていた。そのためにス
パッタ成膜において非磁性金属下地層成膜時に結晶の異
常成長が起こり、これに起因して表面微小突起が微細に
均一に形成されなくなり、媒体の表面粗度のばらつきを
増長させていた。
板の乾燥はＩＰＡ（沸点約７０℃）、フレオン−１１３
（沸点約４７℃）などを用いた蒸気浸漬洗浄乾燥であり
、かなりの高温での乾燥が行われていた。そのためにス
パッタ成膜において非磁性金属下地層成膜時に結晶の異
常成長が起こり、これに起因して表面微小突起が微細に
均一に形成されなくなり、媒体の表面粗度のばらつきを
増長させていた。
この非磁性基板の乾燥を常温乾燥とすることにより、ス
パッタ成膜により表面微小突起が微細に均一に安定して
形成されることになり、表面微小突起のばらつきによる
媒体の表面粗度のばらつきを抑えることができる。従っ
て、媒体の表面粗度は非磁性基板の表面粗度により精度
良く制御できることになり、非磁性基板を適切な表面粗
度に加工しておくことにより適切な磁気ヘッド滑走特性
を有する表面を備えた媒体を得ることが可能となる。
パッタ成膜により表面微小突起が微細に均一に安定して
形成されることになり、表面微小突起のばらつきによる
媒体の表面粗度のばらつきを抑えることができる。従っ
て、媒体の表面粗度は非磁性基板の表面粗度により精度
良く制御できることになり、非磁性基板を適切な表面粗
度に加工しておくことにより適切な磁気ヘッド滑走特性
を有する表面を備えた媒体を得ることが可能となる。
また、遠心力を利用した常温乾燥とすることにより、高
温乾燥から常温乾燥にかえることにより乾燥時間が長く
なるという問題点も解消される。
温乾燥から常温乾燥にかえることにより乾燥時間が長く
なるという問題点も解消される。
第１図は、この発明の乾燥法の一実施例の概念図であり
、第１図（ａ）は下面図、第１１１Ａ（ハ）は側面図で
ある。可変速のスピンドル１に装着された精密洗浄後の
非磁性基板２を、矢印Ａの方向に低速回転（例えば１１
００ｒｐさせながらノズル３より乾燥直前洗浄液（例え
ば純水）を射出して最終洗浄を行い、引き続いて高速回
転（例えば３０００ｒｐｍ ）に切り換え、完全に乾燥
するまで回転させた後、非磁性基板２をスピンドルｌか
ら取りはずす。
、第１図（ａ）は下面図、第１１１Ａ（ハ）は側面図で
ある。可変速のスピンドル１に装着された精密洗浄後の
非磁性基板２を、矢印Ａの方向に低速回転（例えば１１
００ｒｐさせながらノズル３より乾燥直前洗浄液（例え
ば純水）を射出して最終洗浄を行い、引き続いて高速回
転（例えば３０００ｒｐｍ ）に切り換え、完全に乾燥
するまで回転させた後、非磁性基板２をスピンドルｌか
ら取りはずす。
Ａ１合金基板を所要の平行度、平面度１表面粗度に仕上
げ、その表面に無電解めっき法でＮ１−Ｐ合金層を形成
して非磁性基板とし、このＮ１−Ｐ合金層表面を研磨し
て、表面粗度が相対負荷曲線の相対負荷長さ１０％にお
けるカッティング深さから相対負荷長さ１％におけるカ
ッティング深さを差し引いたΔＣ，（１０％−１％）で
８０±６人とした非磁性基板を精密洗浄し、その後、上
述の方法で遠心力を利用した常温乾燥を行い、その表面
にスパッタ成膜法でＣｒ下地層、 Ｃｏ合金磁性層、ａ
−Ｃ保護潤滑層を順次成膜積層して媒体とする。その際
、乾燥直前洗浄液を純水、アルカリ系洗剤、ＩＰＡと変
えてそれぞれ実施例１．２および３０３種類の媒体を作
製した。これらの媒体について、表面粗度としてΔＣ，
（１０％−１％）を測定した。その結果を第１表に示す
。
げ、その表面に無電解めっき法でＮ１−Ｐ合金層を形成
して非磁性基板とし、このＮ１−Ｐ合金層表面を研磨し
て、表面粗度が相対負荷曲線の相対負荷長さ１０％にお
けるカッティング深さから相対負荷長さ１％におけるカ
ッティング深さを差し引いたΔＣ，（１０％−１％）で
８０±６人とした非磁性基板を精密洗浄し、その後、上
述の方法で遠心力を利用した常温乾燥を行い、その表面
にスパッタ成膜法でＣｒ下地層、 Ｃｏ合金磁性層、ａ
−Ｃ保護潤滑層を順次成膜積層して媒体とする。その際
、乾燥直前洗浄液を純水、アルカリ系洗剤、ＩＰＡと変
えてそれぞれ実施例１．２および３０３種類の媒体を作
製した。これらの媒体について、表面粗度としてΔＣ，
（１０％−１％）を測定した。その結果を第１表に示す
。
第 １ 表
比較のために、実施例と同様の非磁性基板を用い、精密
洗浄後の乾燥を従来の蒸気浸漬洗浄乾燥としたこと以外
は実施例と同様にして媒体を作製した。その際、乾燥に
用いる蒸気をＩＰＡ、フレオン−１１３と変えてそれぞ
れ比較例１および２０２種類の媒体を作製した。これら
比較例の媒体について、実施例と同様に表面粗度として
ΔＣｖ（１０％−１％）を測定した結果を第２表に示す
。
洗浄後の乾燥を従来の蒸気浸漬洗浄乾燥としたこと以外
は実施例と同様にして媒体を作製した。その際、乾燥に
用いる蒸気をＩＰＡ、フレオン−１１３と変えてそれぞ
れ比較例１および２０２種類の媒体を作製した。これら
比較例の媒体について、実施例と同様に表面粗度として
ΔＣｖ（１０％−１％）を測定した結果を第２表に示す
。
第 ２ 表
第１表および第２表より、実施例の媒体の表面粗度はい
ずれもベースとなる非磁性基板の表面粗度より若干大（
ΔＣ，（１０％−１％）で２０人程度）となる程度であ
り、そのばらつきも小さい。これに対して、比較例の媒
体の表面粗度は非磁性基板の表面粗度より大幅に大（Δ
Ｃ，（１０％−１％）で１５０人程程度となり、しかも
そのばらつきが非常に大きい。媒体の表面粗度を制御す
る方法として実施例の方法が極めて有効であることは明
らかである。このような遠心力を利用した常温乾燥法を
採ることにより、媒体の表面粗度はベースとなる非磁性
基板の表面粗度によって精度良く制御できることになり
、非磁性基板を適切な表面粗度に加工しておくことによ
り、適切な磁気ヘッド滑走特性を有する媒体を得ること
が可能となる。
ずれもベースとなる非磁性基板の表面粗度より若干大（
ΔＣ，（１０％−１％）で２０人程度）となる程度であ
り、そのばらつきも小さい。これに対して、比較例の媒
体の表面粗度は非磁性基板の表面粗度より大幅に大（Δ
Ｃ，（１０％−１％）で１５０人程程度となり、しかも
そのばらつきが非常に大きい。媒体の表面粗度を制御す
る方法として実施例の方法が極めて有効であることは明
らかである。このような遠心力を利用した常温乾燥法を
採ることにより、媒体の表面粗度はベースとなる非磁性
基板の表面粗度によって精度良く制御できることになり
、非磁性基板を適切な表面粗度に加工しておくことによ
り、適切な磁気ヘッド滑走特性を有する媒体を得ること
が可能となる。
以上の実施例においては、非磁性基板自体を単体で回転
させて遠心力を利用した常温乾燥を行ったが、これに限
定されるものではなく、例えばホルダーに複数個の非磁
性基板をセットし、このホルダーを回転させることによ
り多数の非磁性基板を一度に乾燥させることも可能であ
る。
させて遠心力を利用した常温乾燥を行ったが、これに限
定されるものではなく、例えばホルダーに複数個の非磁
性基板をセットし、このホルダーを回転させることによ
り多数の非磁性基板を一度に乾燥させることも可能であ
る。
この発明によれば、薄膜磁気記録媒体の製造方法におい
て、スパッタ成膜前の非磁性基板の精密洗浄後の乾燥を
、非磁性基板を回転させ、そのときの遠心力を利用した
常温乾燥法とする。このような乾燥方法とすることによ
り、スパッタ成膜により表面微小突起が微細に均一に安
定して形成されることになり、表面微小突起のばらつき
による媒体の表面粗度のばらつきを抑えることができる
。
て、スパッタ成膜前の非磁性基板の精密洗浄後の乾燥を
、非磁性基板を回転させ、そのときの遠心力を利用した
常温乾燥法とする。このような乾燥方法とすることによ
り、スパッタ成膜により表面微小突起が微細に均一に安
定して形成されることになり、表面微小突起のばらつき
による媒体の表面粗度のばらつきを抑えることができる
。
従って、媒体の表面粗度は非磁性基板の表面粗度により
精度良く制御できることになり、非磁性基板を適切な表
面粗度に加工しておくことにより、表面粗さのばらつき
が少なくて、磁気ヘッドの安定した極低浮上走行を可能
とする適切な磁気ヘッド滑走特性を有する表面を備えた
薄膜磁気記録媒体を、安定して量産することが可能とな
る。
精度良く制御できることになり、非磁性基板を適切な表
面粗度に加工しておくことにより、表面粗さのばらつき
が少なくて、磁気ヘッドの安定した極低浮上走行を可能
とする適切な磁気ヘッド滑走特性を有する表面を備えた
薄膜磁気記録媒体を、安定して量産することが可能とな
る。
この発明による製造方法は、高記録密度を得るために磁
気ヘッドの低浮上走行化がさらに進められるとより有効
となる。
気ヘッドの低浮上走行化がさらに進められるとより有効
となる。
第１図はこの発明の乾燥法の一実施例の概念図である。
■ スピンドル、２ 非磁性基板、３ ノズル。
（ａ）
（ｂ）
第１図
Claims (1)
- １）所要の表面粗さに加工された非磁性基板を洗浄し乾
燥した後、この非磁性基板上にスパッタ法で非磁性金属
下地層、磁性層、保護潤滑層を順次成膜積層する薄膜磁
気記録媒体の製造方法において、前記乾燥を非磁性基板
を回転させそのときの遠心力を利用した常温乾燥とする
ことを特徴とする薄膜磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33150589A JPH03192521A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33150589A JPH03192521A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03192521A true JPH03192521A (ja) | 1991-08-22 |
Family
ID=18244390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33150589A Pending JPH03192521A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03192521A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008176893A (ja) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | 乾燥機 |
-
1989
- 1989-12-21 JP JP33150589A patent/JPH03192521A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008176893A (ja) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | 乾燥機 |
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