JPH03193134A - 流動層用ガス分散器 - Google Patents

流動層用ガス分散器

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JPH03193134A
JPH03193134A JP33319189A JP33319189A JPH03193134A JP H03193134 A JPH03193134 A JP H03193134A JP 33319189 A JP33319189 A JP 33319189A JP 33319189 A JP33319189 A JP 33319189A JP H03193134 A JPH03193134 A JP H03193134A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
perforations
hole
level difference
powder
particulate
Prior art date
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Pending
Application number
JP33319189A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Tsujimoto
広行 辻本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hosokawa Micron Corp
Original Assignee
Hosokawa Micron Corp
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Publication date
Application filed by Hosokawa Micron Corp filed Critical Hosokawa Micron Corp
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Publication of JPH03193134A publication Critical patent/JPH03193134A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/24Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
    • B01J8/44Fluidisation grids

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば乾燥、造粒、混合、攪拌、分散、分離
、分級選別、コーティングなどの各種処理目的のために
固気系流動層を形成する流動室の底壁に、流動用ガスを
供給する孔を形成した流動層用ガス分散器に関する。
〔従来の技術〕
従来、流動用ガスを供給しない状態で、流動室内の粉粒
体によって孔が目詰まりしないように、かつ、粉粒体が
孔から落下しないようにするに、例えば第5図に示すよ
うにキャップ(12)を底壁(2)の孔に付設していた
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、キャップ(12)は構造や形状が複雑なため製
作コストがかなり高く、殊に多数の孔大々にキャップ(
12)を付設する場合、キャップ(12)のために流動
層装置のコストアップが相当大きくなる欠点があった。
本発明の目的は、孔の目詰まり及び孔からの粉粒体落下
を防止するための手段を、製作コストが十分に安価なも
のに改良する点にある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の特徴構成は、 流動室の底壁に形成した流動用ガス供給のための孔の最
小直径Xを前記流動室内の粉粒体の最大直径の2倍以上
に設定し、 前記孔からの流動用ガス供給が停止された状態で前記孔
から落下する粉粒体を受止めるための受部材を、前記孔
の下方にレベル差Δhで配置すると共に、その孔を鉛直
下方に延長した仮想柱状体に対して全周にわたり巾Δp
以上張出す状態に配置し、 前記レベル差Δhを前記粉粒体の最大直径の2倍以上に
設定し、 前記レベル差Δhと巾Δlの相関を、前記粉粒体の安息
角θに見合って、 Δh/ΔA<tanθ になるように設定したことにあり、その作用効果は次の
通りである。
〔作 用〕
孔の最小直径Xを粉粒体の最大直径の2倍以上にしてあ
るから、孔の目詰まりの主たる原因であるところの2個
の粉粒体による孔内でのブリッジ現象を無くして、孔の
目詰まりを十分に防止できる。
そして、孔を通って落下する粉粒体を受部材で受止める
ようにし、かつ、孔と受部材とのレベル差Δhを粉粒体
の最大直径の2倍以上にすると共に、そのレベル差Δh
、孔に対する受部材の張出し巾Δl、粉粒体の安息角θ
の相関をΔh/Δl<tanθにしてあるから、第3図
に示すように、受部材(5)に載った粉粒体群によって
安息角θで傾斜する自由表面(9)が安定して形成され
、かつ、その傾斜自由表面(9)の下端が受部材(5)
の周縁に対し内側に位置して、受部材(5)からの粉粒
体落下が阻止される。
つまり、一定量の粉粒体が受部材に落下堆積すると孔が
粉粒体により閉塞され、それ以上の落下を阻止できる。
また、上記レベル差Δhを小さくすると、底壁と受部材
の間おいて粉粒体の咬込みにより目詰まりを生じる危険
性があるが、レベル差Δhを粉粒体の最大直径の2倍以
上にしてあるから、底壁と受部材の間の目詰まりも防止
できる。
殊に、棒状体や板状体などの単純な構造及び形状の受部
材を孔の下方に配置するだけでよいから、前述従来技術
のキャップよりも製作コストを十分に低下でき、殊に、
多数の孔を有する流動層装置のコストダウンを十分に図
れる。
〔発明の効果〕
その結果、孔の目詰まり及び粉粒体落下を防止できる良
好な性能を維持しながら、安価に流動層用ガス分散器を
提供できるようになった。
〔実施例〕
次に、第1図ないし第3図により実施例を示す。
固気系流動層を形成する流動室(1)の底壁(2)に、
流動用ガスを供給する多数の円形の孔(3)を形成し、
底壁(2)の下部に形成したガス供給室(4)に送風機
(5)を接続し、流動室(1)に収容した粉粒体を孔(
3)から吹上げられるガスによって流動させるように構
成してある。
孔(3)の下方夫々に円柱状の受部材(5)をレベル差
Δhで配置し、受部材(5)の全てを1個の支持具(6
)に取付けてユニット化した状態でケース(7)に取付
け、孔(3)からの流動用ガス供給が停止された状態で
孔(3)から落下する粉粒体を受部材(5)で受止める
ように構成してあ孔(3)の直径Xを粉粒体の最大直径
の2倍以上に設定して、孔(3)内での粉粒体のブリッ
ジ現象による詰まりを防止するように構成してある。
受部材(5)の水平上端面を、孔(3)を鉛直下方に延
長した仮想柱状体(8)に対して全周にわたり巾Δl以
上張出す状態に配置し、レベル差Δhを粉粒体の最大直
径の2倍以上に設定し、上記レベル差Δhと巾Δlの相
関を、粉粒体の安息角θに見合って、 Δh/Δl<tanθ になるように設定してある。
つまり、受部材(5)に載った粉粒体群により安息角θ
で傾斜する自由表面(9)が安定して形成され、かつ、
その傾斜自由表面(9)の下端が受部材(5)の周縁に
対して内側に位置して、受部材(5)からの粉粒体落下
が阻止され、粉粒体による孔(3)の閉塞で流動室(1
)からの粉粒体落下を阻止できるように構成してある。
また、レベル差Δhを十分に大きくして、底壁(2)と
受部材(5)の間における粉粒体の詰まりを防止できる
ように構成してある。
受部材(5)の支持具(6)をケース(7)に、底壁(
2)に対して遠近方向に水平移動自在に取付け、ケース
(7)に対して螺合貫通させたボルト(10)により支
持具(6)を受止め、ハンドル(11)によるボルト(
10)の回転操作によって、粉粒体の安息角θに見合っ
てレベル差Δhを調整できるように、かつ、レベル差Δ
hを零又はほぼ零にして、孔(3)を受部材(5)で閉
じられるように構成し、多品種の粉粒体に適用できると
共に、粉粒体投入時の粉粒体落下を確実に防止できるよ
うにしてある。
〔別実施例〕
次に別実施例を説明する。
孔(3)は形状、個数、配置などにおいて適当に変更で
き、孔(3)が円形でない場合は、孔(3)の最小直径
が粉粒体の最大直径の2倍以上であればよい。
受部材(5)の具体構造は適当に変更でき、例えば、第
4図(イ)に示すように棒状や筒状の脚部(5a)に板
状の受部(5b)を取付けたもの、第4図(ロ)に示す
ように、平板を切欠いて受部(5b)と通気口(5c)
を形成したものでもよい。
レベル差Δhを調整するに、底壁(2)を上下に平行移
動させてもよく、また、ボルト(10)に代えて各種公
知の間隔変更手段を利用でき、それらを調節手段(10
)と総称する。
調節手段(10)を形成するに、安息角θに見合ってレ
ベル差Δhを調整する調節手段と、レベル差を零又はほ
ぼ零にする調節手段を設けてもよく、その一方の調節手
段だけを設けてもよい。
また、調節手段(10)を省略することもできる。
粉粒体の種類は不問であり、例えば発泡樹脂ペレット、
ケイ砂、ガラスピーズ、炭酸カルシウム、アクリルやス
チロールなどの樹脂粉末等を対象にできる。
流動用ガスの種類は処理目的に応じて適宜選定自在であ
る。
尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を便利にする為
に符号を記すが、該記入により本発明は添付図面の構造
に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3図は本発明の実施例を示し、第1図は
全体概念図、第2図は第1図の■−■矢視図、第3図は
作用説明図である。 第4図(()、([+)は本発明の各別の実施例を示す
要部図である。 第5図は従来例の要部図である。 (1)・・・・・・流動室、(2)・・・・・・底壁、
(3)・・・・・・孔、(5)・・・・・・受部材、(
8)・・・・・・仮想柱状体、(10)・・・・・・調
節手段。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、固気系流動層を形成する流動室(1)の底壁(2)
    に、流動用ガスを供給する孔(3)を形成した流動層用
    ガス分散器であって、 前記孔(3)の最小直径xを前記流動室(1)内の粉粒
    体の最大直径の2倍以上に設定し、前記孔(3)からの
    流動用ガス供給が停止された状態で前記孔(3)から落
    下する粉粒体を受止めるための受部材(5)を、前記孔
    (3)の下方にレベル差Δhで配置すると共に、その孔
    (3)を鉛直下方に延長した仮想柱状体(8)に対して
    全周にわたり巾Δl以上張出す状態に配置し、 前記レベル差Δhを前記粉粒体の最大直径 の2倍以上に設定し、 前記レベル差Δhと巾Δlの相関を、前記 粉粒体の安息角θに見合って、 Δh/Δl<tanθ になるように設定してある流動層用ガス分散器。 2、前記レベル差Δhの調整のために前記底壁(2)と
    前記受部材(5)の間隔を変更する調節手段(10)を
    設けてある請求項1記載の流動層用ガス分散器。 3、前記レベル差Δhを零又はほぼ零にするために前記
    底壁(2)と前記受部材(5)の間隔を変更する調節手
    段(10)を設けてある請求項1又は2記載の流動層用
    ガス分散器。
JP33319189A 1989-12-22 1989-12-22 流動層用ガス分散器 Pending JPH03193134A (ja)

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