JPH03193773A - チアジアゾール誘導体、その製造法及びそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は新規なチアジアゾール誘導体、その製造法及び
それを有効成分とする除草剤に関する。

［従来の技術］ 従来より、多くの除草剤が使用されてきたが、一般に除
草活性が十分でない、除草スペクトラムが狭い、作物に
薬害を生じる等の問題があった。

また、従来、２，１．３−ベンゾチアジアゾール誘導体
及び１．２，４−又は１，３．４−チアジアゾール誘導
体の除草活性は知られているが、数式［１］で示される
ような１．２．５−チアジアゾール誘導体が除草活性を
有することは知られていない。

［発明が解決しようとする問題点］ 従って、本発明の目的は、除草活性が高くかつ作物に対
する安全性の高い新規化合物、その製造法及びそれを有
効成分とする新規な除草剤を提供することである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、新規なチアジア
ゾール誘導体が極めて優れた除草活性と選択性をもつこ
とを見いだし、本発明を完成した。

すなわち、本発明は、 一般式［１］ ［ただし、式中、ＲＲ２は同−又は相異なり■ ４ て水素原子、ハロゲン原子、ＲＲは同−又は相異なって
水素原子、低級アルキル基、−ｃ。

Ｒ（Ｒ５は低級アルキル基、低級アルキル基で置換され
ていてもよいアミノ基を示す）又はＲ３Ｒ４は互いに連
結してフタロイル基を表わす］で示されるチアジアゾー
ル誘導体（以下、本発明化合物という）、 一般式［ｎ］ ［ただし、式中、ＲＲ２Ｒ６Ｒ７は前記と同じ意味を表
す］で示されるチアジアゾール誘導体の製造法、 一般式［■］ ） ［ただし、式中、ＲＲ２は前記と同じ意味を表わす］で
示されるチアジアゾール誘導体と一般式　［■コ ＮＨＲ６Ｒ７［ＩＩＩ］ ［ただし、ＲＲ７は同一または互いに相異なって水素原
子、Ｃ−Ｃ６の低級アルキル基を示す］で表わされるア
ミンとを反応させることを特徴とする一般式［ＩＶ］ ２ ［ただし、式中、ＲＲは前記と同じ意味を表わす］で示
されるチアジアゾール誘導体とフタルイミドカリウムと
を反応させることを特徴とする一般式［Ｖ］ ＼／ ＼／ ２ ［ただし、式中、ＲＲは前記と同じ意味を表わす］で示
されるチアジアゾール誘導体の製造法、 一般式［Ｖ］ ＼／ ２ ［ただし、式中、ＲＲは前記と同じ意味を表わすコで示
されるチアジアゾール誘導体を加水分解させることを特
徴とする一般式［ＶＩ］＼／ ［ただし、式中、Ｒ，Ｒ２は前記と同じ意味を表わす］
で示されるチアジアゾール誘導体の製造法、及び 一般式［Ｉ］で示されるチアジアゾール誘導体を有効成
分として含有する除草剤を提供するものである。

［発明の詳細な説明］ 一般式［１１で示される本発明化合物を具体的に説明す
ると、ＲＲ２は同−又は互いに相異■ ４ なって水素原子、ハロゲン原子、ＲＲは同−又は互いに
相異なって水素原子、低級アルキル基、−ＣＯＲ（Ｒ５
は低級アルキル基、低級アルキル基で置換されていても
よいアミノ基を示す）４ 又はＲＲは互いに連結してフタロイル基を表わすが、前
記ＲおよびＲ２のハロゲン原子と■ してフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を
挙げることができ、Ｒ３Ｒ４Ｒ５の低級アルキル基とし
てはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、イソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ
チル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｎ−ヘキシル、イ
ソヘキシル等の０１〜ＣＢの直鎖状あるいは分枝状のア
ルキル基を挙げることができる。

６７ また、一般式［ＩＩＩ］におけるＲＲのＣ１〜Ｃ６の低
級アルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅｃ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、
ｎ−ヘキシル、イソヘキシル等の直鎖状あるいは分枝状
のアルキル基を挙げることができる。

本発明化合物の製造法を具体的に説明すると、Ａ法二本
発明化合物は一般式［■］ ＼／ ［ただし、式中、Ｒ１、Ｒ２は前記と同じ意味を表わす
］で示されるチアジアゾール誘導体と一般式［ｍｌ ＮＨＲ６Ｒ７［Ｉ［Ｉ］ ７ ［ただし、ＲＳＲは同一または互いに相異なって水素原
子、Ｃ−Ｃ６の低級アルキル基を示す］で表わされるア
ミンとを溶媒の存在下、銅及び／又は塩化第一銅の存在
あるいは非存在下、６０〜１５０℃、数分〜４８時間反
応させることにより製造することができる。反応に用い
られる溶媒としては、メタノール、エタノール等のアル
コール類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、１．３−ジメチル−２−イミダゾリジノン
、リン酸へキサメチルトリアミド等の極性溶媒、水等を
挙げることができる。反応に供される試剤の量は、一般
式［ＩＩ］で示されるチアジアゾール誘導体１当量に対
して、一般式［ＩＩＩ］で示されるアミン１〜１００当
量、銅１〜１０当量、塩化第一銅１〜１０当量である。

Ｂ法：本発明化合物は一般式［１］ ［ただし、式中、Ｒ１２ Ｒは前記と同じ意味を 表わす］で示されるチアジアゾール誘導体とフタルイミ
ドカリウムとを溶媒の存在下、８０〜１５０℃、数分〜
４８時間反応させることにより製造することができる。

反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノー
ル等のアルコール類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダ
ゾリジノン、リン酸へキサメチルトリアミド等の極性溶
媒、水等を挙げることができる。反応に供される試剤の
量は、一般式［１１］で示されるチアジアゾール誘導体
１当量に対して、フタルイミドカリウム１〜１０当量で
ある。

Ｃ法二本発明化合物は、更に一般式［Ｖ］表わすコで示
されるチアジアゾール誘導体を酸あるいはヒドラジンで
、溶媒の存在下、５０〜１００℃、数分〜２４時間反応
させることにより製造することができる。反応に用いら
れる溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコ
ール類、水等を挙げることができる。酸としては塩酸、
硫酸等を挙げることができる。反応に供される試剤の量
は、一般式［Ｖ］で示されるチアジアゾール誘導体１当
量に対して、酸あるいはヒドラジン１〜１００当量であ
る。

Ｄ法二本発明化合物は、また一般式［■］［ただし、式
中、Ｒ，Ｒ２は前記と同じ意味を［ただし、式中、Ｒ１
、Ｒ２は前記と同じ意味を表し、Ｒ８は水素原子または
低級アルキル基を表わす］で示されるチアジアゾール誘
導体とＸ−ＣＯＲ（Ｘはハロゲン原子、Ｒ５は前記と同
じ意味を表わす）とを塩基及び溶媒の存在下、４０〜１
５０℃、数分〜２４時間反応させることにより製造する
ことができる。反応に用いられる溶媒としては、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ピ
リジン、トリエチルアミン、Ｎ５Ｎ−ジメチルアニリン
等の第三級アミン、アセトニトリル、Ｎ、　Ｎ〜ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１．３−ジメ
チル−２−イミダゾリジノン、リン酸へキサメチルトリ
アミド等の極性溶媒等を挙げることができる。塩基とし
ては、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アニリン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウ
ム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド等のアルカリ金属アルコキシド等を挙げること
ができる。反応に供される試剤の量は、−数式［■］で
示されるチアジアゾール誘導体１当量に対して、Ｘ−Ｃ
ＯＲ５１〜５当量、塩基１〜１０当量である。

本発明化合物を有効成分として含む本発明の除草剤は、
優れた除草効果を示す一方、作物に対して殆ど影響を及
ぼさない。すなわち、本発明の除草剤は、畑地において
は、問題となる種々の雑草、例えば、アオビユ、スベリ
ヒュ、オナモミ、センダングサ、ブタフサ、シロザ、オ
オイヌタデ、ハコベ、ナズナ、ミミナグサ、シロバナチ
ョウセンアサガオ、アメリカツノクサネム、マルバアサ
ガオ、イヌホウズキ、ホトケノザ、オオバコ、イチビ、
カタバミ、ヤエムグラ、ソバカズラ、オオアレチノギク
、ヒメムカシヨモギ、ヒメジオン、イヌビエ、エノコロ
グサ、メヒシバ、スズメノカタビラ、スズメノカタビラ
、エンバク、カラスムギ、セイバンモロコシ等に対して
、また、水田においては、問題となる種々の雑草、例え
ば、タイヌビエ、アゼナ、キカシグサ、タマガヤツリ、
ホタルイ、マツバイ、ミズガヤツリ、コナギ、ウリカワ
等に対して、雑草の発芽前処理及び生育期処理において
除草効果を有し、しかも、トウモロコシ、コムギ、イネ
、ダイズ、ワタ、テンサイ等の主要作物に対して問題と
なるような薬害を示さない。

本発明の除草剤は、他の農薬、例えば殺菌剤、殺虫剤、
除草剤、植物生長調節剤及び肥料、土壌改良剤等と混合
または併用して使用することができる。特に、他の除草
剤と混合使用することにより省力化をもたらすのみなら
ず、殺草スペクトラムの拡大並びに−層高い効果も期待
できる。混合使用し得る除草剤としては、２，４−ビス
（エチルアミノ）−６−エチルチオ−１，３，５−トリ
アジン〔一般名：シメトリン）、２．４−ビス（イソプ
ロピルアミノ）−６−メチルチオ−１゜３．５−トリア
ジン〔一般名：プロメトリン〕、２−　（１，２−ジメ
チルプロピルアミノ）−４−エチルアミノ−６−メチル
チオ−１，３，５−トリアジン〔一般名：ジメタメトリ
ン〕等のトリアジン系除草剤；５−４−クロロベンジル
−Ｎ、　Ｎ−ジエチルチオカーバメート〔一般名：ベン
チオカーブ〕　Ｓ−α、α−ジメチルベンジルーＮ。

Ｎ−ペンタメチレンチオカーバメート〔一般名：ジメビ
ペレート〕、Ｓ−ベンジル−Ｎ−エチル−Ｎ−（１，２
−ジメチルプロピル）チオカーバメー）（一般名二エス
ブロカルブ）Ｓ−エチルへキサヒドロ−ＩＨ−アゼピン
−１−カーボチオエート〔一般名二モリネート）　、０
−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−Ｎ−（６−メドキシ
ー２−ピリジル）−Ｎ−メチルチオカーバメート〔一般
名：ピリブチカルブ〕等のカーバメート系除草剤；２゜
４−Ｄ、ＭＣＰＢ、２−（２−ナフチルオキシ）プロピ
オンアニリド〔一般名：ナブロアニリド〕２−　（２，
４−ジクロロ−３−メチルフェノキシ）プロピオンアニ
リド〔一般名：クロメプロップ〕等のフェノキシ系除草
剤、２，４．６−ドリクロロフエニルー４−ニトロフェ
ニルエーテ）ｋｃ　一般名：クロルニトロフェン）、２
．４−ジクロロフェニル−３−メ）４−シー４−ニトロ
フェニルエーテル〔一般名：クロメトキシニル）、２．
４−ジクロロフェニル−３−メトキシカルボニル−４−
二トロフェニルエーテル〔一般名：ビフェノックス〕、
２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェニル−４−ニ
トロ−３−（テトラヒドロピラン−３−イルオキシ）フ
ェニルエーテル〔試験名：ＭＴ−１２４１等のジフェニ
ルエーテル系除草剤；Ｎ−ブトキシメチル−２−クロロ
−２’、６’　−ジエチルアセトアニリド〔一般名：ブ
タクロール〕、Ｎ−プロポキシエチル−２−クロロ−２
°、６′ジエチルアセトアニリド〔一般名二ブレチラク
ロール〕、Ｎ−メチル−２−（２−ベンゾチアゾリルオ
キシ）アセトアニリド〔一般名：メフェナセット〕、２
°、３゛　−ジクロロ−４−エトキシメトキシベンズア
ニリド［試験名：　ＨＷ−５２］　、Ｎ（α、α−ジメ
チルベンジル）−２−ブロモ−３，３−ジメチルブチル
アミド〔一般名：ブロモブチド）、３’、４°　−ジク
ロロプロピオンアニリド〔一般名：プロパニル〕等のア
ミド系除草剤；１−（α、α−ジメチルベンジル）−３
−（４−メチルフェニル）ウレア〔一般名：ダイムロン
〕、１−（２−クロロベンジル）−３−（α、α−ジメ
チルベンジル）ウレア〔試験名：ＪＣ−９４０）等のウ
レア系除草剤；２−アミノ−３−クロロ−１，４−ナフ
トキノン〔一般名：ＡＣＮ］等のキノン系除草剤；４−
　（２，４−ジクロロベンゾイル）−１，３−ジメチル
−５−ピラゾリル−ｐ−トルエンスルホネート〔一般名
：ビラゾレート〕、４−　（２，４−ジクロロベンゾイ
ル）−１，３−ジメチル−５−フェナシルオキシピラゾ
ール〔−般名：ピラゾキシフエン）、４−（２，４−ジ
クロロ−３−メチルベンゾイル）−１，３−ジメチル−
５−（４−メチルフェナシルオキシ）ピラゾール〔一般
名：ベンゾフェナップ〕、５−ベンジルオキシ−４−（
２，４−ジクロロベンゾイル）−１−メチルピラゾール
〔試験名：ＮＣ−３１０）５−　ｔｅｒｔ−ブチル−３
−（２，４−ジクロロ−５−イソプロポキシフェニル）
−１，３，４−オキサジアゾール−２−（３Ｈ）−オン
〔一般名：オキサシアシン）、３．７−ジクロロ−８−
キノリンカルボン酸〔一般名：キンクロラック〕、３−
クロロ−２−〔２−フルオロ−４−クロロ−５（１−プ
ロピニルオキシ）フェニル）　−４，５゜６．７−テト
ラハイドロ−２Ｈ−インダゾール〔試験名：　Ｓ−２７
５）　、３−イソプロピル−２゜１．３−ベンゾチアジ
アジノン−４）−２，２−ジオキシド〔一般名：ペンタ
シン）、１−（３−メチルフェニル）−５−フェニル−
ＩＨ−１，２゜４−トリアゾール−３−カルボキサミド
〔試験名：ＫＮＷ−２４２１等の複素環系除草剤；０，
０−ジイソプロピル−２−（ベンゼンスルホンアミド）
エチレンジチオホスフェート〔一般名：５ＡＰ）等の有
機リン系除草剤；メチル　２−［［［［［（４，６−シ
メトキシピリミジンー２−イル）アミノ］カルボニル］
アミノ］スルホニル］メチル］ベンゾエート〔一般名：
ロンダックス〕、エチル　５−　［３−（４，６−シメ
トキシピリミジンー２−イル）ウレイドスルホニル］−
１−メチルピラゾール−４−カルボキシレート〔一般名
：ビラゾスルフロンーエチル〕等のスルホニルウレア系
除草剤等を挙げることができるが、これらに限られるも
のではない。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は、
通常、固体担体、溶媒、界面活性剤、その他の製剤用補
助剤と混合して乳剤、水和剤、フロアブル剤、粒剤、粉
剤等に製剤して用いることができる。

固体担体としては、カオリン、クレー、ベントナイト、
ケイソウ土、酸性白土、ホワイトカーボン、軽石粉等を
挙げることができる。また、溶媒としては、キシレン、
メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、イソプロパツ
ール、エチレングリコール、セロソルブ等のアルコール
類、アセトン、シクロヘキサノン等のケトン類、鉱油、
ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
、アセトニトリル、水等を挙げることができる。

界面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、アルキ
ルスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩等の陰イオン界
面活性剤、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、
ポリオキシエチレングリコールエステル類、多価アルコ
ールエステル類等の非イオン界面活性剤等を挙げること
ができる。

その他の製剤用補助剤としては、ポリビニルアルコール
、リグニンスルホン酸塩、アラビアゴム等を挙げること
ができる。

上記のようにして得られた製剤は、有効成分として本発
明化合物を、０．１〜９０重量％、好ましくは１〜８０
重量％含有する。

また、本発明の除草剤の施用量は、気候条件、製剤形態
、処理時期、施用方法、施用場所、対象雑草、対象作物
等によって異なるが、通常、有効成分量で１〜１０００
ｇ／１０ａ、好ましくは２〜５００　ｇ　／　１０　ａ
である。

［発明の効果］ 本発明により、除草剤として優れた除草活性及び広い殺
草スペクトラムを有する新規化合物及びその製造法が提
供された。また、本発明化合物を有効成分として含有す
る除草剤は、発生前から生育期までの種々の雑草を防除
することができ、作物に対する安全性も高く水田、各種
穀物畑、各種野菜畑、果樹、桑園、非農耕地の雑草防除
に有効に使用できる。特に、好ましくは水田の雑草防除
に有効に使用できる。

［実施例］ 以下、本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。

［実施例１］ ３−アミノ−４−（２，６−ジクロロフェニル）＝１．
２．５−チアジアゾール（化合物番号１）の製造 ３−クロロ−４−（２，６−ジクロロフェニル）−１，
２，５−チアジアゾール５．３１ｇ、銅粉１．９１ｇ、
塩化第一銅２，９７ｇ、アンモニアガスを飽和させたメ
タノール溶液をステンレス製容器に加え、密閉後１２０
℃で２４時間撹拌した。

放冷後、反応混合物をろ過し不溶物を取り除いた。

ろ液は濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し、３−アミノ−４−（２，６−ジクロロフェニ
ル）−１，２，５−チアジアゾール２．１９ｇを得た。

ｍ、　　ｐ、　　９５〜９７℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ　　、単位：δｐｐｍ　
）４．５２（ｓ、２１り、７．２〜７．５（ｍ、３１Ｄ
Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、ｃｍ−１） ３４２５．３３２５．３２１０．１６２０．１５３５．
１４９０．１４１０１４２０．７９０．７８０ Ｍ５　（ｍ／ｚ）　　：　　２４５　　（Ｍ　　　）［
実施例２］ ３−（４−クロロフェニル）−４−フタルイミド−１，
２，５−チアジアゾールの製造３−クロロ−４−（４−
クロロフェニル）−１゜２．５−チアジアゾール１．１
６ｇのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液にフタルイミ
ドカリウム１．１１ｇを加え、１１０℃で１２時間加熱
還流した。放冷後、反応混合物を水に注ぎ、エーテルで
抽出した。エーテル層は、希水酸化ナトリウム水溶液、
水、飽和食塩水でそれぞれ２回洗浄した。

無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し、３−（４−クロロフ
ェニル）−４−フタルイミド−１゜２．５−チアジアゾ
ール０．８５ｇを得た。

ｍ、　　ｐ、　　１５２〜１５３℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ　　、単位：δｐｐｍ　
）７．１〜７．４（ｍ、２Ｈ）、７．４　〜７．７（曙
、２１１）７．７〜８．０（■、４１１） Ｉ　Ｒ（Ｋ　Ｂ　ｒ　ｓ　ｃｍ−’） １７９０．１７２５．１４４０．１１８０．８８５，７
１５Ｍ５（ｓ／ｚ）　　：　　３４　１　　（Ｍ　　　
）［実施例３］ ３−アミノ−４−（４−クロロフェニル）−１゜２．５
−チアジアゾールの製造 ３−（４−クロロフェニル）−４−フタルイミド−１，
２，５−チアジアゾール０．４１ｇのエタノール溶液に
８０％ヒドラジン水溶液０６０５ｇを加え、１時間加熱
還流した。放冷後、反応混合物を水に注ぎ、エーテルで
抽出した。エーテル層は、水、飽和食塩水でそれぞれ２
回洗浄した。

無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し、３−アミノ−４−（
４−クロロフェニル）−１，２，５−チアジアゾール０
．２１ｇを得た。

ｍ、Ｉ）、１３２〜１３３℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：Ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ　　、単位：
δｐｐ■） ５．４０（ｂｓ、２Ｈ）、７．２〜７．５（ｍ、２Ｍ）
７．５〜７．８（謂、２Ｈ） Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｃｏ−’） ３４１０．３３１０．３１９０．１６２０，１５１５．
１４９５．１４３５１４００．１０９０．８３０ ＭＳ（ｍ／ｚ）　　：　２１１　（Ｍ　　）［実施例４
］ ３−　（２，６−ジクロロフェニル）−４−メチルアミ
ノ−１，２，５−チアジアゾール（化合物番号２）の製
造 ３−クロロ−４−（２，６−ジクロロフェニル）−１，
２，５−チアジアゾール５．３１ｇ、、４０％メチルア
ミン水溶液１００ｍ１をステンレス製容器に加え、密閉
後１２０℃で１２時間撹拌した。

放冷後、反応混合物を水に注ぎ、エーテルで抽出した。

エーテル層は、水、飽和食塩水でそれぞれ３回洗浄した
。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにて精製し、３−（２，６−ジ
クロロフェニル）−４＝メチルアミノ−１，２，５−チ
アジアゾール２゜５５ｇを得た。

ｍ、ｐ、　　　１４５〜１４６℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ　　、単位＝δｐｐｍ　
）３．０２（ｓ、３１１）、４．１Ｏ（ｂｓ、１Ｉｌ）
、７．１５〜７．４（ｏ＋、３１１） ＩＲ（ＫＢｒ、。、−１） ３３２０．１５５５．１４２５．７９０．７７５Ｍ５（
Ｉｌ／ｚ）　　：　２５９　（Ｍ　　）［実施例５］ ３−アセチルアミノ−４−（２，６−ジクロロフェニル
）−１，２，５−チアジアゾール（化合物番号３）の製
造 ３−アミノ−４−（２，６−ジクロロフェニル）−１，
２，５−チアジアゾール０．４９ｇ、）リエチルアミン
０．２２ｇのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液に塩化
アセチル０．２０ｇを加え、６０℃で１２時間撹拌した
。放冷後、反応混合物を水に注ぎ、エーテルで抽出した
。エーテル層は、希塩酸、水、飽和食塩水でそれぞれ２
回洗浄した。

無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し、３−アセチルアミノ
−４−（２，６−ジクロロフェニル）−１，２，５−チ
アジアゾール０．２５ｇを得た。

ｍ、ｐ、１８０〜１８５℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ　　、単位：δｐｐａ＋
　）２．１（ｓ、３）１）、７Ｊ７（ｓ、３）１）、９
．４７（ｂｓ、ＩＨ）ＩＲ（ＫＢ　ｒ、ｃｍ’） ３２９０．１Ｂ９５．１５４０．１５００．１４２５．
１２３０．７８５ＭＳ（ｍ／ｚ）　　：　２８７　（Ｍ
　　）［実施例６］ ３−（２，６−ジクロロフェニル）−４−フタルイミド
−１，２，５−チアジアゾール（化合物番号４）の製造 ３−クロロ−４−（２，６−ジクロロフェニル）−１，
２，５−チアジアゾール２．６６ｇのＮ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液にフタルイミドカリウム
２．２２ｇを加え、１１０℃で１２時間加熱還流した。

放冷後、反応混合物を水に注ぎ、エーテルで抽出した。

エーテル層は、希水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食
塩水でそれぞれ２回洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し、３−　（２，６−ジクロロフェニル）−４−
フタルイミド−１，２，５−チアジアゾール１．９０ｇ
を得た。

ｍ、　　ｐ、　　２１４〜２１５℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣ１、単位：δｐｐｍ　）７
．１５〜７．４（ｓ、３！り、７．５５〜７．９５（１
，４１１）ＩＲ（ＫＢｒ、ｅｓ″″Ｉ） １７９０．１７４５．１７３０．１４７０．１４Ｂ５，
１４３０，１４１５１３１０．７１０ Ｍ５（ｉ／ｚ）　　　：　　３７５　　（Ｍ　　　）［
実施例７］ ３−　（２，６−ジクロロフェニル）　−４（３゜３−
ジメチルウレイド）　−１，２，５−チアジアゾール（
化合物番号５）の製造 ３−アミノ−４−（２，６−ジクロロフェニル）−１，
２，５−チアジアゾール０．４９ｇ、　　トリエチルア
ミン０．２２ｇのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液に
ジメチルカルバモイルクロリド０゜２４ｇを加え、１２
０℃で１２時間撹拌した。放冷後、反応混合物を水に注
ぎ、エーテルで抽出した。エーテル層は、希塩酸、水、
飽和食塩水でそれぞれ２回洗浄した。無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーニて精’Ａし、３　　（２，６−ジクロロフェニル
）４　（３，３−ジメチルウレイド）−１，２，５−チ
アジアゾール０．１９ｇを得た。

ｍ、ｐ、１００〜１０３℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ　　、単位：δｐｐ１１
）２．８３（ｓ、３１１）、３．０Ｏ（ｓ、３Ｈ）、７
．１５〜７．４５（１１，３Ｈ）８．２７（ｓ、ＩＨ） Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ、　ｃ＋ａ−’） １６３０．１４Ｂ０，１４２５．１３ｇ０，１１１５，
１１００，７９０．７７５Ｍ５（Ｉｌ／ｚ）　　：　３
１６　（Ｍ　　）［実施例８］ ３−イソブチリルアミノ−４−（２，６−ジクロロフェ
ニル）−１，２，５−チアジアゾール（化合物番号６）
の製造 ３−アミノ−４−（２，６−ジクロロフェニル）−１，
２，５−チアジアゾール０．４９ｇ、）リエチルアミン
０．２２ｇのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液に塩化
イソブチリル０．２７ｇを加え、６０℃で１２時間撹拌
した。放冷後、反応混合物を水に注ぎ、エーテルで抽出
した。エーテル層は、希塩酸、水、飽和食塩水でそれぞ
れ２回洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後
、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、３
−イソブチリルアミノ−４−（２，６−ジクロロフェニ
ル）−１，２，５−チアジアゾール０゜２３ｇを得た。

ｍ、　　ｐ、１１２〜１１７℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ　　、単位＝δｐｐｍ　
）１．０８（ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ、６１１）、２．６８（ｓ
ｅｐｔｅｔ、Ｊ−７Ｈｚ、ＬＨ）７．２〜７．４５（ｗ
、３１１）、８．１０（ｂｓ、Ｌｌｌ）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　
ｒ、　ｅｍ−’） ３２９０．１７００．１５４０．１４９５，１４３０．
１１４５Ｍ５　（＋ｅ／ｚ）　　：　　３１５　　（Ｍ
”　）［実施例９］　（水和剤） 本発明化合物を１０重量部、ジ−クライト（商品名、ジ
ークライト化学鉱業製）８６．５重量部、二二一カルゲ
ンＮＶ−４０６（商品名、竹本油脂製）２重量部及びデ
ィスクゾールＷＡ　（商品名、第−工業製薬製）１．５
重量部を混合粉砕して水和剤を得た。

［実施例１０］　（乳剤） 本発明化合物を５重量部、キシレン７５重量部及びツル
ポール２８０６Ｂ　（商品名、東邦化学工業型）２０重
量部を均一に撹拌混合して乳剤を得た。

［実施例１１］　（粒剤） 本発明化合物を１０重量部、ベントナイト５０重量部、
クニライト（商品名、国峰工業製）３５重量部及びツル
ポール８００Ａ　（商品名、東邦化学工業型）５重量部
を混合粉砕したのち、水を加え均一に撹拌し、造粒乾燥
して粒剤を得た。

［実施例１２］　水田湛水処理試験 １００　ｃｄのプラスチックポットに代掻き状態の水田
土壌を詰め、表１に示す雑草の種子を播き、さらに２葉
期の水稲（品種、ヤマホウシ）を１ポット当り２本２株
を移植し、約２ｃｍ＋の湛水状態で管理した。表１に示
す雑草の発生初期に、実施例９に従って製剤した本発明
の除草剤を所定量水面に滴下処理した後、温室内に静置
し適時散水した。

薬剤処理後、２０日目に除草効果及び薬害を調査し表１
に示す結果を得た。なお、除草効果の評価は下記に示す
ように０〜５の数字で示した。また、作物に対する薬害
も除草効果と同じ基準で示した。

除草効果　　　　　抑草率 ０　　　　　　０〜９％ １　　　　　１０〜２９％ ２　　　　　３０〜４９％ ３　　　　　５０〜６９％ ４　　　　　７０〜８９％ ５　　　　　９０〜１００％

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ ［ただし、式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は同一又は互いに相異
   なって水素原子、ハロゲン原子、Ｒ＾３、Ｒ＾４同一又
   は互いに相異なって水素原子、低級アルキル基、−ＣＯ
   Ｒ＾５（Ｒ＾５は低級アルキル基、低級アルキル基で置
   換されていてもよいアミノ基を示す）又はＲ＾３、Ｒ＾
   ４は互いに連結してフタロイル基を表わす］ で示されるチアジアゾール誘導体。
2. （２）一般式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼［II］ ［ただし、式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は前記と同じ意味を表
   わす］で示されるチアジアゾール誘導体と一般式［III
   ］ ＮＨＲ＾６Ｒ＾７［III］ ［ただし、Ｒ＾６、Ｒ＾７は同一または互いに相異なっ
   て水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿６の低級アルキル基を示す］
   で表わされるアミンとを反応させることを特徴とする一
   般式［IV］ ▲数式、化学式、表等があります▼［IV］ ［ただし、式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾６、Ｒ＾７は前
   記と同じ意味を表す］で示されるチアジアゾール誘導体
   の製造法。
3. （３）一般式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼［II］ ［ただし、式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は前記と同じ意味を表
   わす］で示されるチアジアゾール誘導体とフタルイミド
   カリウムとを反応させることを特徴とする一般式［Ｖ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｖ］ ［ただし、式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は前記と同じ意味を表
   わす］で示されるチアジアゾール誘導体の製造法。
4. （４）一般式［Ｖ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｖ］ ［ただし、式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は前記と同じ意味を表
   わす］で示されるチアジアゾール誘導体を加水分解させ
   ることを特徴とする一般式［VI］ ▲数式、化学式、表等があります▼［VI］ ［ただし、式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２は前記と同じ意味を表
   わす］で示されるチアジアゾール誘導体の製造法。
5. （５）請求項第（１）項記載のチアジアゾール誘導体を
   有効成分として含有する除草剤。