JPH03196654A - パターン認識方法 - Google Patents
パターン認識方法Info
- Publication number
- JPH03196654A JPH03196654A JP33729689A JP33729689A JPH03196654A JP H03196654 A JPH03196654 A JP H03196654A JP 33729689 A JP33729689 A JP 33729689A JP 33729689 A JP33729689 A JP 33729689A JP H03196654 A JPH03196654 A JP H03196654A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- signal
- peak
- detected
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電子ビーム測長装置などに使用して好適なパ
ターン認識方法に関する。
ターン認識方法に関する。
(従来技術)
電子ビーム測長装置では、被測長材料上に設けられた測
長パターンを横切って電子ビームを走査し、このときに
材料からの2次電子などを検出し、この検出信号に基づ
いて所定のパターンの幅などを測長している。第6図は
、被測長材料の走査2次電子画像を示しており、斜線を
施した部分はパターンの残し部分、その他の部分は抜き
部分である。パターンの測長時には、この像中に示した
点線に沿って電子ビームが直線状に走査される。
長パターンを横切って電子ビームを走査し、このときに
材料からの2次電子などを検出し、この検出信号に基づ
いて所定のパターンの幅などを測長している。第6図は
、被測長材料の走査2次電子画像を示しており、斜線を
施した部分はパターンの残し部分、その他の部分は抜き
部分である。パターンの測長時には、この像中に示した
点線に沿って電子ビームが直線状に走査される。
第7図は、点線の電子ビームの走査に沿った材料の断面
を示しており、この電子ビームの走査に伴って材料から
発生する2次電子を検出すると、第8図の信号が得られ
る。第8図の信号は、コンピュータなどに送られ、信号
のピーク位置から、パターンの残し部分の幅や抜き部分
の幅が測長される。
を示しており、この電子ビームの走査に伴って材料から
発生する2次電子を検出すると、第8図の信号が得られ
る。第8図の信号は、コンピュータなどに送られ、信号
のピーク位置から、パターンの残し部分の幅や抜き部分
の幅が測長される。
(発明が解決しようとする課題)
第8図の信号をコンピュータに供給して記憶するとき、
測長すべきパターンが複数個ある場合、第8図の下部に
示すように、パターンのエツジに基づく複数のピーク信
号に番号を付けなければならない。コンピュータは、パ
ターンの残し部分の幅を測長するときには、番号が1と
2.3と4.5と6のピークの組み合わせによって測長
を行い、パターンの抜き部分の測長を行う場合には、番
号が2と3.4と5の組み合わせによって測長を行う。
測長すべきパターンが複数個ある場合、第8図の下部に
示すように、パターンのエツジに基づく複数のピーク信
号に番号を付けなければならない。コンピュータは、パ
ターンの残し部分の幅を測長するときには、番号が1と
2.3と4.5と6のピークの組み合わせによって測長
を行い、パターンの抜き部分の測長を行う場合には、番
号が2と3.4と5の組み合わせによって測長を行う。
しかしながら、このような測長方法では、常に検出信号
のピークを番号と共に記憶しておかなければならないた
めに、面倒である。
のピークを番号と共に記憶しておかなければならないた
めに、面倒である。
本発明は、上述した点に鑑みてなされたもので、その目
的は、−々検出信号のピークに番号を付すこと無く信号
を記憶し、記憶された信号によってパターンの測長を行
うことができるパターン認識方法を実現するにある。
的は、−々検出信号のピークに番号を付すこと無く信号
を記憶し、記憶された信号によってパターンの測長を行
うことができるパターン認識方法を実現するにある。
(課題を解決するための手段)
前記した課題を解決する本発明は、被測定材料の上部に
電子ビーム光軸を間にして一対の検出器を配置し、材料
上で電子ビームを直線状に走査し、走査に伴って材料か
ら発生した信号を夫々の検出器によって検出し、夫々の
検出器で検出された信号を別々に記憶し、夫々に記憶さ
れた信号の内、所定レベル以上の強度のピーク信号を得
、この得られたピーク信号に基づいてパターン認識を行
うことを特徴としている。
電子ビーム光軸を間にして一対の検出器を配置し、材料
上で電子ビームを直線状に走査し、走査に伴って材料か
ら発生した信号を夫々の検出器によって検出し、夫々の
検出器で検出された信号を別々に記憶し、夫々に記憶さ
れた信号の内、所定レベル以上の強度のピーク信号を得
、この得られたピーク信号に基づいてパターン認識を行
うことを特徴としている。
(作用)
被測長パターンを横切って電子ビームを走査し、走査に
伴って得られた信号を少なくとも一対の検出器によって
検出する。一対の検出器夫々によって検出された信号の
内、所定レベル以上の強度のピーク信号を得る、このピ
ーク信号に基づいてパターンの認識を行う。
伴って得られた信号を少なくとも一対の検出器によって
検出する。一対の検出器夫々によって検出された信号の
内、所定レベル以上の強度のピーク信号を得る、このピ
ーク信号に基づいてパターンの認識を行う。
(実施例)
以下、第1図を参照して本発明の実施例を詳細に説明す
る。第1図は本発明のパターン認識方法を実施するため
の電子ビーム測長装置の一例を示す図である。電子銃1
から発生し加速された電子ビームEBは、集束レンズ2
によって被描画材料3上に細く集束される。材料3上の
電子ビームの照射位置は、コンピュータ4によって制御
される偏向器制御ユニット5から走査信号が供給される
偏向器6によって変えられる。材料3への電子ビームの
照射によって発生した2次電子は、マイクロチャンネル
プレー)(MCPという)7によって増倍された後、2
分割された検出プレート8a。
る。第1図は本発明のパターン認識方法を実施するため
の電子ビーム測長装置の一例を示す図である。電子銃1
から発生し加速された電子ビームEBは、集束レンズ2
によって被描画材料3上に細く集束される。材料3上の
電子ビームの照射位置は、コンピュータ4によって制御
される偏向器制御ユニット5から走査信号が供給される
偏向器6によって変えられる。材料3への電子ビームの
照射によって発生した2次電子は、マイクロチャンネル
プレー)(MCPという)7によって増倍された後、2
分割された検出プレート8a。
8bに検出される。なお、一対の検出プレート8a、8
bは、第2図に示すように、円形に形成されている。
bは、第2図に示すように、円形に形成されている。
検出プレー)8aの検出信号は、増幅器9と増幅器10
に供給され、検出プレート8bの検出信号は、増幅器1
0と増幅器11に供給される。増幅器9によって増幅さ
れた信号は、AD変換器12によってディジタル信号に
変換され、第1のメモリ13に供給されて記憶される。
に供給され、検出プレート8bの検出信号は、増幅器1
0と増幅器11に供給される。増幅器9によって増幅さ
れた信号は、AD変換器12によってディジタル信号に
変換され、第1のメモリ13に供給されて記憶される。
増幅器10に供給された2種の信号は、加算されて増幅
され、この増幅された信号は、AD変換器14によって
ディジタル信号に変換され、第2のメモリ15に供給さ
れて記憶される。増幅器11によって増幅された信号は
、AD変換器16によってディジタル信号に変換され、
第3のメモリ17に供給されて記憶される。
され、この増幅された信号は、AD変換器14によって
ディジタル信号に変換され、第2のメモリ15に供給さ
れて記憶される。増幅器11によって増幅された信号は
、AD変換器16によってディジタル信号に変換され、
第3のメモリ17に供給されて記憶される。
上述した構成における動作は次の通りである。
まず、コンピュータ4の制御に基づいて、偏向器制御ユ
ニット5から偏向器6に走査信号が供給され、材料3に
設けられたパターンを横切って、電子ビームが直線状に
走査される。第3図(a)は材料に設けられたパターン
を示しており、斜線を施した部分が残しパターンである
。また、第3図(a)の点線が電子ビームの走査軌跡で
あり、この走査軌跡に沿った材料の断面を第3図(b)
に示す。この材料3への電子ビームの照射によって材料
から2次電子が発生するが、この2次電子は、MCP7
によって増倍された後、検出プレート8a、8bによっ
て検出される。
ニット5から偏向器6に走査信号が供給され、材料3に
設けられたパターンを横切って、電子ビームが直線状に
走査される。第3図(a)は材料に設けられたパターン
を示しており、斜線を施した部分が残しパターンである
。また、第3図(a)の点線が電子ビームの走査軌跡で
あり、この走査軌跡に沿った材料の断面を第3図(b)
に示す。この材料3への電子ビームの照射によって材料
から2次電子が発生するが、この2次電子は、MCP7
によって増倍された後、検出プレート8a、8bによっ
て検出される。
第3図(d)は、検出プレート8bによって検出された
信号であり、検出プレート8bの位置が、残しパターン
の右側のエツジに対向しているために、右側のエツジか
らの2次電子に基づくピーク強度が、左側のエツジから
の2次電子に基づくピーク強度よりも大きい。第3図(
e)は、検出プレー)8aによって検出された信号であ
り、検出プレート8aの位置が、残しパターンの左側の
エツジに対向しているために、左側のエツジからの2次
電子に基づくピーク強度が、右側のエツジからの2次電
子に基づくピーク強度よりも大きい。
信号であり、検出プレート8bの位置が、残しパターン
の右側のエツジに対向しているために、右側のエツジか
らの2次電子に基づくピーク強度が、左側のエツジから
の2次電子に基づくピーク強度よりも大きい。第3図(
e)は、検出プレー)8aによって検出された信号であ
り、検出プレート8aの位置が、残しパターンの左側の
エツジに対向しているために、左側のエツジからの2次
電子に基づくピーク強度が、右側のエツジからの2次電
子に基づくピーク強度よりも大きい。
第3図(d)の信号は、増幅器11によって増幅され、
AD変換器16を介してメモリ17に供給されて記憶さ
れる。一方、第3図(e)の信号は、増幅器9に供給さ
れて増幅され、AD変換器12を介してメモリ13に供
給されて記憶される。更に、第3図(d)と(e)の信
号は増幅器10に供給され、この増幅器10で加算され
る。この加算された信号は第3図(c)の波形となる。
AD変換器16を介してメモリ17に供給されて記憶さ
れる。一方、第3図(e)の信号は、増幅器9に供給さ
れて増幅され、AD変換器12を介してメモリ13に供
給されて記憶される。更に、第3図(d)と(e)の信
号は増幅器10に供給され、この増幅器10で加算され
る。この加算された信号は第3図(c)の波形となる。
第3図(C)の信号は、AD変換器14をによってディ
ジタル信号に変換された後、メモリ17に供給されて記
憶される。
ジタル信号に変換された後、メモリ17に供給されて記
憶される。
コンピュータ4は、メモリ17に記憶された第3図(d
)の信号の内、所定のレベルL以上の強度のピークPL
、P2を検出する。また、コンピュータ4は、メモリ1
3に記憶された第3図(e)の信号の内、所定のレベル
L以上の強度のピークP3.P4を検出する。このピー
クP、、P、は、残しパターンの右側のエツジ位置に対
応したちのであり、また、ピークp、、p4は、残しパ
ターンの左側のエツジ位置に対応したものである。また
、コンピュータ4は、メモリ15に記憶されている第3
図(c)の信号を取り込み、全ピークの位置を検出する
。
)の信号の内、所定のレベルL以上の強度のピークPL
、P2を検出する。また、コンピュータ4は、メモリ1
3に記憶された第3図(e)の信号の内、所定のレベル
L以上の強度のピークP3.P4を検出する。このピー
クP、、P、は、残しパターンの右側のエツジ位置に対
応したちのであり、また、ピークp、、p4は、残しパ
ターンの左側のエツジ位置に対応したものである。また
、コンピュータ4は、メモリ15に記憶されている第3
図(c)の信号を取り込み、全ピークの位置を検出する
。
ここで、残しパターンの幅を測長する場合、コンピュー
タ4は、パターンの右側のエツジに基づくピークP1と
パターンの左側のエツジに基づくピークP3の2種のピ
ーク位置に対応したピークを探しだし、この2種のピー
クから第1の残しパターンの幅の測長を行う。更に、コ
ンピュータ4は、パターンの右側のエツジに基づくピー
クP2とパターンの左側のエツジに基づくピークP4の
2種のピーク位置に対応したピークを探しだし、この2
種のピークから第2の残しパターンの幅の測長を行う。
タ4は、パターンの右側のエツジに基づくピークP1と
パターンの左側のエツジに基づくピークP3の2種のピ
ーク位置に対応したピークを探しだし、この2種のピー
クから第1の残しパターンの幅の測長を行う。更に、コ
ンピュータ4は、パターンの右側のエツジに基づくピー
クP2とパターンの左側のエツジに基づくピークP4の
2種のピーク位置に対応したピークを探しだし、この2
種のピークから第2の残しパターンの幅の測長を行う。
逆に抜きパターンの幅の測長を行う場合には、パターン
の右側のエツジに基づくピ〜りPlと、パターンの左側
のエツジに基づくピークP4との2種のピーク位置に対
応したピークを探しだし、この2種のピークから、抜き
パターンの幅の測長を行う。
の右側のエツジに基づくピ〜りPlと、パターンの左側
のエツジに基づくピークP4との2種のピーク位置に対
応したピークを探しだし、この2種のピークから、抜き
パターンの幅の測長を行う。
このように、コンピュータ4に残しパターンの測長か、
あるいは、抜きパターンの測長かの指示、および、予想
線幅の指示を与えれば、メモリ13゜15.17に記憶
された3種の信号の処理を自動的に行い、所望の測長を
実行することができる。
あるいは、抜きパターンの測長かの指示、および、予想
線幅の指示を与えれば、メモリ13゜15.17に記憶
された3種の信号の処理を自動的に行い、所望の測長を
実行することができる。
なお、2次電子検出器として2分割の検出プレート8a
、8bを使用したが、第4図に示すように4分割の検出
プレート18.19,20.21を用いても良い。この
4分割の検出プレートを用いて、例えば、第5図のモニ
タ画面に示すパターンに対して、点線に示すように、縦
横各4本のライン走査を行い、上述したように、各検出
プレートによって検出された信号のピーク検出を行えば
、コンピュータによってパターンエツジが検出され各画
素位置A−Hにおいて信号ピーク位置の画素位置とで座
標をつくり(A、b)(B、b)・・・・・・座標を結
ぶことにより2次元的なパターンの認識が可能となる。
、8bを使用したが、第4図に示すように4分割の検出
プレート18.19,20.21を用いても良い。この
4分割の検出プレートを用いて、例えば、第5図のモニ
タ画面に示すパターンに対して、点線に示すように、縦
横各4本のライン走査を行い、上述したように、各検出
プレートによって検出された信号のピーク検出を行えば
、コンピュータによってパターンエツジが検出され各画
素位置A−Hにおいて信号ピーク位置の画素位置とで座
標をつくり(A、b)(B、b)・・・・・・座標を結
ぶことにより2次元的なパターンの認識が可能となる。
従って、残しパターンか抜はパターンかの指示、また、
予想線幅を指定すれば、X。
予想線幅を指定すれば、X。
7両方向において、指示した条件を満たすパターンが自
動的に抽出され、測長が行われる。
動的に抽出され、測長が行われる。
以上本発明の詳細な説明したが、本発明はこの実施例に
限定されない。例えば、検出器としてMCPを用いたが
、他の電子検出器を用いても良い。
限定されない。例えば、検出器としてMCPを用いたが
、他の電子検出器を用いても良い。
(発明の効果)
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、被測長
パターンを横切って電子ビームを走査し、走査に伴って
得られた信号を少なくとも一対の検出器によって検出し
、一対の検出器夫々によって検出された信号の内、所定
レベル以上の強度のピーク信号を得るようにし、このピ
ーク信号に基づいてパターンの認識を行うようにしたの
で、コンピュータなどにより、自動的に簡単にパターン
の認識を行うことかできる。
パターンを横切って電子ビームを走査し、走査に伴って
得られた信号を少なくとも一対の検出器によって検出し
、一対の検出器夫々によって検出された信号の内、所定
レベル以上の強度のピーク信号を得るようにし、このピ
ーク信号に基づいてパターンの認識を行うようにしたの
で、コンピュータなどにより、自動的に簡単にパターン
の認識を行うことかできる。
第1図は、本発明のパターン認識方法を実施するための
電子ビーム測長装置の一例を示す図、第2図は、第1図
の実施例に用いたMCPとその検出プレートの形状を示
す図、第3図は、第1図の装置の動作を説明するために
用いた図、第4図は、本発明の他の実施例に用いるMC
Pの検出プレート形状を示す図、第5図は、第4図のM
CPを用いた実施例を説明するための図、第6図〜第8
図は、従来の測長方法を説明するための図である。 1・・・電子銃 2・・・集束レンズ3
・・・被測長材料 4・・・コンピュータ5
・・・偏向器制御ユニット 6・・・偏向器7・・・
MCP 8a、8b、18,19.20.21−・・検出プレー
ト 9.10.11・・・増幅器 12.14.16・・・AD変換器 13.15.17・・・メモリ
電子ビーム測長装置の一例を示す図、第2図は、第1図
の実施例に用いたMCPとその検出プレートの形状を示
す図、第3図は、第1図の装置の動作を説明するために
用いた図、第4図は、本発明の他の実施例に用いるMC
Pの検出プレート形状を示す図、第5図は、第4図のM
CPを用いた実施例を説明するための図、第6図〜第8
図は、従来の測長方法を説明するための図である。 1・・・電子銃 2・・・集束レンズ3
・・・被測長材料 4・・・コンピュータ5
・・・偏向器制御ユニット 6・・・偏向器7・・・
MCP 8a、8b、18,19.20.21−・・検出プレー
ト 9.10.11・・・増幅器 12.14.16・・・AD変換器 13.15.17・・・メモリ
Claims (1)
- 被測定材料の上部に電子ビーム光軸を間にして一対の検
出器を配置し、材料上で電子ビームを直線状に走査し、
走査に伴って材料から発生した信号を夫々の検出器によ
って検出し、夫々の検出器で検出された信号を別々に記
憶し、夫々に記憶された信号の内、所定レベル以上の強
度のピーク信号を得、この得られたピーク信号に基づい
てパターン認識を行うことを特徴とするパターン認識方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33729689A JPH03196654A (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | パターン認識方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33729689A JPH03196654A (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | パターン認識方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03196654A true JPH03196654A (ja) | 1991-08-28 |
Family
ID=18307289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33729689A Pending JPH03196654A (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | パターン認識方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03196654A (ja) |
-
1989
- 1989-12-26 JP JP33729689A patent/JPH03196654A/ja active Pending
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