JPH03200035A - 半導体圧力センサ - Google Patents

半導体圧力センサ

Info

Publication number
JPH03200035A
JPH03200035A JP1338755A JP33875589A JPH03200035A JP H03200035 A JPH03200035 A JP H03200035A JP 1338755 A JP1338755 A JP 1338755A JP 33875589 A JP33875589 A JP 33875589A JP H03200035 A JPH03200035 A JP H03200035A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
stem
semiconductor
hole
pressure sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1338755A
Other languages
English (en)
Inventor
Shogo Asano
浅野 勝吾
Takashi Morikawa
森川 貴志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP1338755A priority Critical patent/JPH03200035A/ja
Publication of JPH03200035A publication Critical patent/JPH03200035A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は自動車などに搭載する内燃機関の吸入空気圧や
大気圧又は排気圧などを検出するのに用いる半導体圧力
センサに関するものである。
(従来の技術) 近年、自動車などの燃料の節約や排出ガス規制などの社
会的要請に伴い、マイクロコンピュータによるエンジン
の電子式燃料噴射、点火時期および排ガス還流量の制御
などを種々なセンサを用いて行うようになってきた。
このエンジンの電子制御では、大気およびマニホールド
内の絶対圧を正確に検出することが極めて重要なことで
、信頼性の高い圧力センサが要求され、これに伴い種々
改良された圧力センサが提案されている。
従来のこの種の圧力センサについて第2図により説明す
る。
同図は従来の半導体圧力センサの断面図で1周縁に段部
1aを設けたステム1は、下面にろう付けなどにより固
着した圧力導入用パイプ2に連通ずる貫通孔1bと、リ
ードピン3を挿通する2個の小貫通孔1cが設けられて
いる。なお、上記の小貫通孔1cに挿通したリードピン
3は、小貫通孔1cとの隙間をガラス4を用いてハーメ
チック封止して固定されている。
表面に圧力検出用のホイートストンブリッジ抵抗を形成
したダイアフラム5aを設けたシリコンダイアフラムチ
ップ5は、上記のステム1の上面中央に接着剤6で固定
した貫通孔7aを有する台座7の上に固着されている。
なお、上記の台座7は、上記のシリコンダイアフラムチ
ップ5と近似の熱膨張係数を有する材料を用い、上記の
ステム1からの熱応力を緩和するための円周溝7bが設
けられている。また、上記のホイートストンブリッジ抵
抗のブリッジ電極(図示せず)は、上記のリードピン3
と導電性のワイヤ8で接続されている。
上記のステム1の段部1aに固着した有底円筒状のキャ
ップ9は、上記のシリコンダイアフラムチップ5と台座
7を覆って、真空室を形成するもので、上面中央にはん
だ10で密封される封止孔9aが設けられている。
このように構成された半導体圧力センサの組立法につい
て説明する。
まず、ステム1に圧力導入用パイプ2をろう付けした後
、小貫通孔1cにリードピン3を挿入し、ガラス4で固
着する。一方、台座7の上にシリコンダイアフラムチッ
プ5を固着する。次に、ステム1の上面中央に、接着剤
6を用いて、上記の台座7を取り付け、続いて、ブリッ
ジ電極とリードピン3の先端とをワイヤ8で接続する。
次に、封止孔9aをそのままにして、キャップ9を圧接
又は溶接によってステム1の段部1aに封着する。
次に、真空中に置き、キャップ9の中の空気を抜くと同
時に、はんだ10を用いて封止孔9aを密閉し、真空室
11を形成する。
このようにして組立てられた半導体圧力センサは、シリ
コンダイアフラムチップ5のダイアフラム5aが真空室
11の中に収納されているので、この真空圧を基準圧と
して、圧力導入用パイプ2が導入する流体の絶対圧を測
定できる。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記の構成では、基本的に一個のセンサ
で一つの絶対圧しか測定できず、また、ステム1から台
座7を介してシリコンダイアフラムチップ5に及ぼす熱
応力の影響が大きく、これがシリコンダイアフラムチッ
プ5を歪ませるためダイアフラム5aに形成されたホイ
ートストンブリッジ抵抗の値が温度によってばらつき、
従って圧力検出特性が安定しないという問題があった。
なおこの問題は、主にシリコンダイアフラムチップ5.
ステム19台座7および接着剤6の熱膨張係数の違いに
起因するものである。
このため上述のように台座7は、シリコンダイアフラム
チップ5と近似の熱膨張係数を有した材質を用い、台座
7の厚さを厚くしたり、あるいは円周溝7bを設けてい
るが、これは台座7の加工性を低下し、製造コストを高
くするばかりでなく、信頼性を低下するという問題があ
った。
本発明は上記の問題を解決するもので、−個のセンサで
少なくとも二つの絶対圧を同時に検出することができる
とともに構造が惜純で、信頼性が高く特性の安定した半
導体圧力センサを提供するものである。
(課題を解決するための手段) 上記の課題を解決するため5本発明は、シリコンダイヤ
フラムチップと近似の熱膨張係数を有するステムに、シ
リコンダイアフラムチップを固着した少なくとも2個の
台座をそれぞれ収納して気密接合する凹部と、複数のリ
ードピンをガラスを用いてハーメチック封止する凹部と
を設け、また、上記のステムと圧力導入用パイプの間に
フィルタを装着し、さらに、ステムに気密接合して形成
した気密室内を真空又は基準圧とし、その中に絶対圧潰
算用の回路基板を内蔵するとともに、上記のリードピン
に挿通する貫通コンデンサを装着するものである。
(作 用) 上記の構成により、1個の半導体圧力センサで2箇所以
」二の絶対圧を同時に測定することが可能となるばかり
でなく、シリコンダイアフラムチップと近似の熱膨張係
数を有する台座とステムの併用によって、ステムからの
熱応力の影響がなくなり、安定した特性を有する半導体
圧力センサが得られる。また、圧力導入用パイプにフィ
ルタが装備されているので、内燃機関の吸気孔などに直
接取り付けることが可能となり、さらに、絶対圧を算出
する演算回路を形成した回路基板を内蔵しているので、
圧カドランスデューサとして使用できる。
(実施例) 本発明の一実施例を第1図により説明する。第1図(a
)、 (b)、 (c)および(d)は1本発明による
半導体圧力センサの平面断面図、正面断面図、左側から
見た側面断面図および右側から見た側面断面図である。
同図において、表面にホイートストンブリッジ抵抗(図
示せず)が形成されたダイアフラムL2aおよび13a
を有するシリコンダイアフラムチップ12および13は
、これと近似の熱膨張係数を有する2個の円筒状の台座
14および15の上端面にそれぞれ固着され、その中心
に設けられたそれぞれの貫通孔+4aおよび15aが、
固着された上記のシリコンダイアフラムチップ12およ
び13のダイアフラム12aおよび13aに連通してい
る。上記のシリコンダイアフラムチップ12および13
と近似の熱膨張係数を有する金属板をプレス成形したス
テム16は、上記の2個の台座14および15を気密固
定する、中心にそれぞれ貫通孔16aおよび1.6bを
設けた円形の凹部16cおよび16dと、4本のリード
ピン17.18.19および20をそれぞれガラス21
で封着する4個の開口円筒部16e、 16f、 16
gおよび16hが形成された長方形の四部16iが設け
られている。
なお、リードピン17はi11!源供給用、リードピン
18および19は出力用、リードピン20はアース用で
、それぞれに挿通した貫通コンデンサ22.23.24
および25が、その外径部を上記のステム16の開口円
筒部]、6e、 16f、 1.6gおよび16hの先
端部に嵌合するように取り付けられ、その内径側電極部
および外径側電極部(共に図示せず)をはんだ付けによ
って。
それぞれリードピン17.18.19および20と、ス
テム16の開口円筒部16e、 16f、 16gおよ
び]、6hに接続されている。
さらに、ステム16の円形凹部16cおよび16dの底
面に、それぞれの貫通孔16aおよび16bと、2個の
台座14および15のそれぞれの貫通孔14aおよび1
5aがそれぞれ導通するように、台座14およびI5が
気密固着され、さらに、その下面に2本の圧力導入用パ
イプ26および27が、それぞれフィルタ28および2
9を挾んで、溶接などによって気密接合されている。こ
れにより、2本の圧力導入用パイプ26および27から
導入された流体は、フィルタ28および29を介してそ
れぞれシリコンダイアフラムチップ12および13のダ
イアフラム12aおよび13aに流体圧を印加できる。
表面に絶対圧を算出する演算回路(図示せず)を形成し
、上記の2個の台座】4および15と、4本のリートピ
ン17.1.8.19および20がそれぞれ挿通する貫
通孔を設けた回路基板30は、上記のステム16の棚状
部に装着され、上記の演算回路と、ダイアフラム12a
および13aの上のホイートストンブリッジ抵抗の出力
端およびリードピン]、7.18.19および20の末
端とをそれぞれ導電性ワイヤ31で電気的に接続してい
る。
上記のステム16の周縁部16jに溶接などによって気
密接着された方形状のキャップ32は、シリコンダイア
フラムチップ12および13と、上記の回路基板30を
覆い気密室33を形成し、真空室あるいはガスを封入し
た基準圧室とする。上記のステム16の隅に設けたガス
封入パイプ34は、気密室33の空気を抜いたり、基準
圧のガスを挿入するものである。
このように構成された半導体圧力センサを組立るには、
まず、ステム16にリードピン17.18.19および
20をガラス21で封着した後、フィルタ28および2
9を装着しながら圧力導入用バイブ26およびz7を溶
接などの手段で固定し、Nf1コンデンサ22゜23、
24および25をリードピン17.18.19および2
0に挿通し、その内径電極および外径電極(共に図示せ
ず)をそれぞれリードピン17.18.19および20
とステム16の開1]円筒部16e、 16f、 16
gおよび+6hにそれぞれはんだ付けなどの手段によっ
て接続する。
次に、シリコンダイアフラムチップ12および13がそ
れぞれ固着された台座14および15をステム16の円
形凹部16cおよび16dの底面に気密接合し、続いて
の回路基板30を装着した後、ワイヤ31で電気的に接
続する。
次に、ステム16の周縁部16jに圧接又は溶接などの
手段でキャップ32を気密接合する。その際、真空中で
キャップ32を気密接合すれば気密室33は基準圧0の
真空室が形成され、その後ガス封入バイブ34から基準
圧のガスを封入すればある一定の基準圧の気密室33が
形成される。真空室が形成されれば測定圧は絶対圧とな
り、ガス封入による基準圧が形成されれば、回路基板3
0で絶対圧に換算され、いずれの場合も出力は絶対圧と
なる。
次にこのように構成された半導体圧力センサにより、例
えば、内燃機関の吸入空気圧をill’l定する場合を
例として、圧力測定法と動作について説明する。
内燃g? 11s!+の吸気マニホールドの吸気孔に、
半導体圧力センサの一方の圧力導入用パイプ26を直接
接続して取り付ける。その際、他方の圧力導入用パイプ
27は、そのまま開放状態として置く。内燃機関が運転
を開始すると、マニホールドの吸気孔からの流体圧が圧
力導入用パイプ26.ステム16の貫通穴16a*台座
14の貫通孔14aを通ってダイヤフラム12aに印加
される。一方、大気圧は圧力導入用パイプ27.ステム
16および台座15の貫通孔16bおよび15aを通っ
てダイヤフラム13aに印加される。
従って5圧力導入用パイプ26および27を通って導入
された流体圧および大気圧は、それぞれダイアフラム1
2aおよび13aを歪ませ、この歪みがダイアフラム1
2aおよび13aの表面に形成された圧力検出用のホイ
ートストンブリッジ抵抗の抵抗値を変化させる。
l−記のブリッジ抵抗値の変化は、回路基板30の演算
1【!?路で処理され、リードピン18および19から
絶対圧で表わされた流体圧および大気圧が同時に出力さ
れる。
なお、ステム16と台fi14および15は、シリコン
ダイアフラムチップ12および13と近似の熱膨張係数
を有する材質からなるので、従来例では温度変化時にシ
リコンダイアフラムチップ12および13に及ぼしてい
たステム11台座7の間に生じた熱応力の影響は除かれ
るので、圧力センサの出力特性が安定する。
また、圧力導入用パイプ26にはフィルタ28が装着さ
れているため直接、内燃機関の吸気孔に接続できしかも
、回路基板30を内蔵して圧カドランスデューサとして
働くため、部品点検が削減され。
取付けが簡単となりコストが低減されると同時に、信頼
性が向上する。
(発明の効果) 以上説明したように本発明によれば、二つの圧力を絶対
圧で同時に測定することができる。
また、シリコンダイアフラムチップと近似の熱膨張係数
を有する台座およびステムを使用しているので、温度変
化時にも安定した特性を有する信頼性の高い半導体圧力
センサが得られる。
また、圧力導入用パイプにフィルタが内蔵されているの
で、内燃機関の吸気孔に直接接続でき、回路基板を内蔵
しているので、圧カドランスデューサとして働き、圧力
測定時の部品点検が削減され、装着が簡単でコストが掛
らない半導体圧力センサが得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)は1本発明による半導体圧力センサの平面
断面図、第1図(b)、 (c)および(d)は、(a
)図のX−X線、Y−Y@および2−2IIi!で切断
し三角画法で描いた正面断面図および側面断面図、第2
図は、従来の半導体圧力センサ断面図である。 1.16・・・ステム、 1a・・・段部、 lb。 7a、 14a、 15a、 1.6a、 i6b・・
−H通孔、1c・・・小貫通孔、  2,26.27・
・圧力導入用パイプ、  3.17.18.19.20
・・・リートビン、4.21・・ガラス、  5,12
゜1:3・・シリコンダイアフラムチップ、  5a。 1.2i、 13a・・ダイアフラム、 6・・・接着
剤、7、 I/I、 15・・・台座、  7b・・・
円周溝、 8゜31・・ワイヤ、   9.32・・・
キャップ、   9a・・封1ヒ孔、 10・・はんだ
、 11・・・真空室、16c、 16d−円形四部、
 16e、 16f、 16H。 16h・・・開口円筒部、 16i・・・長方形凹部、
16j・・・周縁部、 22.23.24.25・・・
貫通コンデンサ、 28.29・・・フィルタ、 30
・・・回路基板、 33・・・気密室、 34・・・ガ
ス封入パイプ。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)感圧ダイアフラムを形成した半導体単結晶チップ
    を固着した、上記の感圧ダイアフラムに連通する貫通孔
    を設け、上記の半導体単結晶チップと近似の熱膨張係数
    を有する台座と、上記の台座を気密接合し、上記の貫通
    孔に連通する貫通孔を設け、且つ、上記の感圧ダイアフ
    ラムに入出力する複数のリードピンをハーメチック封着
    したステムと、ステムの上記貫通孔に連通するように気
    密接着した圧力導入用パイプと、上記のステムに気密接
    合し、上記の半導体単結晶チップを覆う気密室を形成し
    、気密室を真空室又は基準圧室とするキャップとからな
    る半導体圧力センサにおいて、半導体単結晶チップと近
    似の熱膨張係数を有するステムを用い、それぞれに感圧
    ダイアフラムを形成した少なくとも2個の台座を気密接
    合し、ステムとそれぞれの感圧ダイアフラムに連通する
    圧力導入用パイプの間にフィルタを装着するとともに、
    気密室内に絶対圧算出用の回路基板を内蔵したことを特
    徴とする半導体圧力センサ。
  2. (2)上記の回路基板をこれと近似する熱膨張係数を有
    する上記のステム上に取り付けたことを特徴とする請求
    項(1)記載の半導体圧力センサ。
JP1338755A 1989-12-28 1989-12-28 半導体圧力センサ Pending JPH03200035A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1338755A JPH03200035A (ja) 1989-12-28 1989-12-28 半導体圧力センサ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1338755A JPH03200035A (ja) 1989-12-28 1989-12-28 半導体圧力センサ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03200035A true JPH03200035A (ja) 1991-09-02

Family

ID=18321153

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1338755A Pending JPH03200035A (ja) 1989-12-28 1989-12-28 半導体圧力センサ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03200035A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003337075A (ja) * 2002-05-17 2003-11-28 Nagano Keiki Co Ltd 絶対圧型圧力センサ
WO2014097585A1 (ja) * 2012-12-18 2014-06-26 株式会社デンソー 圧力センサとその製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54123077A (en) * 1978-03-17 1979-09-25 Hitachi Ltd Pressure sensor
JPS64432A (en) * 1987-06-23 1989-01-05 Hitachi Ltd Semiconductor pressure transducer
JPS6461638A (en) * 1987-09-02 1989-03-08 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Semiconductor pressure sensor

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54123077A (en) * 1978-03-17 1979-09-25 Hitachi Ltd Pressure sensor
JPS64432A (en) * 1987-06-23 1989-01-05 Hitachi Ltd Semiconductor pressure transducer
JPS6461638A (en) * 1987-09-02 1989-03-08 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Semiconductor pressure sensor

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003337075A (ja) * 2002-05-17 2003-11-28 Nagano Keiki Co Ltd 絶対圧型圧力センサ
WO2014097585A1 (ja) * 2012-12-18 2014-06-26 株式会社デンソー 圧力センサとその製造方法
US9588000B2 (en) 2012-12-18 2017-03-07 Denso Corporation Pressure sensor and method for manufacturing same
DE112013006062B4 (de) * 2012-12-18 2020-09-03 Denso Corporation Drucksensor und Verfahren zu dessen Fertigung

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7762139B2 (en) Pressure transducer apparatus adapted to measure engine pressure parameters
US6272928B1 (en) Hermetically sealed absolute and differential pressure transducer
US5335549A (en) Semiconductor pressure sensor having double diaphragm structure
US5877425A (en) Semiconductor-type pressure sensor with sensing based upon pressure or force applied to a silicon plate
US11199461B2 (en) Pressure sensor stacking arrangement, measuring device and method for the production thereof
US6324914B1 (en) Pressure sensor support base with cavity
US6722205B2 (en) Unitary pressure sensor housing and assembly
JPH03200035A (ja) 半導体圧力センサ
JP2583137B2 (ja) 半導体圧力センサ
JPS6215132B2 (ja)
JPH03200034A (ja) 半導体圧力センサ
JPH02248831A (ja) 半導体圧力センサ
JP2591145B2 (ja) 半導体圧力センサ
JP2591144B2 (ja) 半導体圧力センサ
JPH01172718A (ja) 半導体圧力センサ
JPH0544616B2 (ja)
JPH09138173A (ja) 半導体圧力センサ
JP3051777B2 (ja) 半導体圧力センサ
JPS60247129A (ja) 高圧用圧力検出器
JPH01172719A (ja) 半導体圧力センサ
JPH01172720A (ja) 半導体圧力センサ
JPH01172723A (ja) 半導体圧力センサ
EP1554553A1 (en) Pressure sensor housing and assembly
JPH01174927A (ja) 半導体圧力センサ
JPH0769238B2 (ja) 圧力変換器