JPH0320010A - 電子ビーム露光装置 - Google Patents
電子ビーム露光装置Info
- Publication number
- JPH0320010A JPH0320010A JP1155453A JP15545389A JPH0320010A JP H0320010 A JPH0320010 A JP H0320010A JP 1155453 A JP1155453 A JP 1155453A JP 15545389 A JP15545389 A JP 15545389A JP H0320010 A JPH0320010 A JP H0320010A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- aperture
- beam exposure
- shaping
- exposure apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体集積回路のフォトマスクを製造するた
めに用いられる電子ビーム露光装置に関するものである
。
めに用いられる電子ビーム露光装置に関するものである
。
従来の技術
半導体集積回路の分野にかいては、デバイスの微細化，
高甥喋積化が急速に進むに従い、フォトマスクの製造装
置として電子ビーム露光装置が主流となｂつつある。電
子ビーム露光装置は、その用いるビームの形状によシガ
ウス形ビーム式と戊形ビーム式に分けられる。成形ピー
ム式は更に固定戒形式と可変面積式とに分けられるが、
いずれの方式も電子ビームを成形アパーチャを通過させ
ることによシ所望の形状に変化させるようになっている
。
高甥喋積化が急速に進むに従い、フォトマスクの製造装
置として電子ビーム露光装置が主流となｂつつある。電
子ビーム露光装置は、その用いるビームの形状によシガ
ウス形ビーム式と戊形ビーム式に分けられる。成形ピー
ム式は更に固定戒形式と可変面積式とに分けられるが、
いずれの方式も電子ビームを成形アパーチャを通過させ
ることによシ所望の形状に変化させるようになっている
。
第２図はこのような可変面積式矩形戒形ピーム電子ビー
ム露光装置の電子光学系を示す。第２図において、１は
電子銃、２は照射レンズ、３は戊形アパーチャＡ，４は
成形偏向器、６はビーム成形レンズ、６は戒形アパーチ
ャＢ，７は縮小レンズ、８は投影レンズ、９は位置偏向
器、１０はマスク乾板、１１は電子ビームである。
ム露光装置の電子光学系を示す。第２図において、１は
電子銃、２は照射レンズ、３は戊形アパーチャＡ，４は
成形偏向器、６はビーム成形レンズ、６は戒形アパーチ
ャＢ，７は縮小レンズ、８は投影レンズ、９は位置偏向
器、１０はマスク乾板、１１は電子ビームである。
以上のように構成された電子ビーム露光装置について以
下にその動作を説明する。
下にその動作を説明する。
電子銃１よシ放出された電子は照射レンズ２により収束
され成形アパーチャＡ３の正方形の孔を照射する。この
孔の像はビーム戊形レンズ６によシ成形アパーチャＢ６
に結像される。このとき戒形偏向器４が動作することに
よう成形アパーチャＡ３の孔の像と成形アパーチャＢ６
の孔とがずれる。成形アパーチャＡ３と戒形アパーチャ
Ｂ６の孔の重なｂ部分の像を縮小レンズ７で縮小し、投
影レンズ８でマスク乾板１０上に電子ビーム１１を照射
する。このように戒形偏向器４の働きによシ孔の重なｂ
を変えることによシ電子ビーム１１の大きさを変えるこ
とができる。
され成形アパーチャＡ３の正方形の孔を照射する。この
孔の像はビーム戊形レンズ６によシ成形アパーチャＢ６
に結像される。このとき戒形偏向器４が動作することに
よう成形アパーチャＡ３の孔の像と成形アパーチャＢ６
の孔とがずれる。成形アパーチャＡ３と戒形アパーチャ
Ｂ６の孔の重なｂ部分の像を縮小レンズ７で縮小し、投
影レンズ８でマスク乾板１０上に電子ビーム１１を照射
する。このように戒形偏向器４の働きによシ孔の重なｂ
を変えることによシ電子ビーム１１の大きさを変えるこ
とができる。
発明が解決しようとする課題
上記の構成の電子ビーム露光装置の場合、戒形アパーチ
ャには常に電子ビームが照射されているために、成形ア
パーチャは高温となる。装置の点検．修理のため電子ビ
ームを切ったり、成形アバーチャを交換した場合に、上
記従来の構或では、第３図に示すように再び電子ビーム
を成形アパーチャに照射し始めてから成形アパーチャの
温度が安定する！でに６〜６時間程度かかるため、その
間は高精度なマスクパターンの描画ができずスルーブッ
トを低下させる原因の一つとなっていた。
ャには常に電子ビームが照射されているために、成形ア
パーチャは高温となる。装置の点検．修理のため電子ビ
ームを切ったり、成形アバーチャを交換した場合に、上
記従来の構或では、第３図に示すように再び電子ビーム
を成形アパーチャに照射し始めてから成形アパーチャの
温度が安定する！でに６〜６時間程度かかるため、その
間は高精度なマスクパターンの描画ができずスルーブッ
トを低下させる原因の一つとなっていた。
本発明は上記従来の課題を解決するもので、立ち上がｂ
時間が短くスループットの高い電子ビーム露光装置を提
供することを目的とする。
時間が短くスループットの高い電子ビーム露光装置を提
供することを目的とする。
課題を解決するための手段
この目的を達或するために本発明の電子ビーム露光装置
は、成形アバーチャ部に加熱装置を持つ構或を有してい
る。
は、成形アバーチャ部に加熱装置を持つ構或を有してい
る。
作 用
との構或によって、成形アパーチャに電子ビームが照射
されていない場合でも成形アパーチャを高温に保持する
ことができる他、成形アパーチャの交換を行った場合に
も電子ビーム照射時の温度上昇を速め、温度が安定する
筐での時間を短〈することができるため、スルーブット
を高めることができる。
されていない場合でも成形アパーチャを高温に保持する
ことができる他、成形アパーチャの交換を行った場合に
も電子ビーム照射時の温度上昇を速め、温度が安定する
筐での時間を短〈することができるため、スルーブット
を高めることができる。
実施例
以下に本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図は本発明の一実施例における電子ビーム露光装置
の電子光学系を示す。第１図において１は電子銃、２は
照射レンズ、３は成形アパーチャＡ、４は戒形偏向器、
６はビーム成形レンズ、６は戊形アパーチャＢ、７は縮
小レンズ、８は投影レンズ、９は位置偏向器、１ｏはマ
スク乾板、１１は電子ビームであシ、これらの構或は従
来例による電子ビーム露光装置と同じである。
の電子光学系を示す。第１図において１は電子銃、２は
照射レンズ、３は成形アパーチャＡ、４は戒形偏向器、
６はビーム成形レンズ、６は戊形アパーチャＢ、７は縮
小レンズ、８は投影レンズ、９は位置偏向器、１ｏはマ
スク乾板、１１は電子ビームであシ、これらの構或は従
来例による電子ビーム露光装置と同じである。
筐た１２はヒーター、１３は電源スイッチ、１４はヒー
ター用電源である。
ター用電源である。
以上のように構戊された、本実施例の電子ビーム露光装
置について以下にその動作を説明する。
置について以下にその動作を説明する。
ヒーター１２は成形アパーチャＡ３及ヒ戊形アパーチャ
Ｂ６を加熱する。このヒーター１２の電源１４は電源ス
イッチ１３でＯＮ，ＯＦＦすることができる。
Ｂ６を加熱する。このヒーター１２の電源１４は電源ス
イッチ１３でＯＮ，ＯＦＦすることができる。
第３図は、従来例による電子ビーム露光装置にかいて戊
形アパーチャを交換し電子ビーム照射開始１時間後にビ
ームの大きさを４μｍに設定した場合の以後のビームの
大きさの変化を示す。
形アパーチャを交換し電子ビーム照射開始１時間後にビ
ームの大きさを４μｍに設定した場合の以後のビームの
大きさの変化を示す。
第３図を見れば明らかなように、従来の電子ビーム露光
装置は、電子ビーム再照射開始後に電子ビームの大きさ
が変化しなくなり電子ビームが安定する筐でに約５時間
かかつている。これは電子ビームの照射によシ成形アバ
ーチャの温度が上昇し、安定状態になるまでに約６時間
かかるということである。しかし、本発明による電子ビ
ーム露光装置では、成形アバーチャをヒーターによう加
熱することができるため、成形アパーチャの温度の上昇
を速め、安定状態に達する１での時間を半分以下とする
ことができ、その効果は大なるものがある。
装置は、電子ビーム再照射開始後に電子ビームの大きさ
が変化しなくなり電子ビームが安定する筐でに約５時間
かかつている。これは電子ビームの照射によシ成形アバ
ーチャの温度が上昇し、安定状態になるまでに約６時間
かかるということである。しかし、本発明による電子ビ
ーム露光装置では、成形アバーチャをヒーターによう加
熱することができるため、成形アパーチャの温度の上昇
を速め、安定状態に達する１での時間を半分以下とする
ことができ、その効果は大なるものがある。
発明の効果
本発明によれば、電子ビーム露光装置の戊形アパーチャ
部に加熱機構を設けることにより、戒形アパーチャを高
温に保持できる他、成形アパーチャの温度低下時にも温
度の再上昇を速め、電子ビーム露光装置が安定する唾で
の時間を短縮することによう，電子ビーム露光装置のス
ループットを向上させることができる。
部に加熱機構を設けることにより、戒形アパーチャを高
温に保持できる他、成形アパーチャの温度低下時にも温
度の再上昇を速め、電子ビーム露光装置が安定する唾で
の時間を短縮することによう，電子ビーム露光装置のス
ループットを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例による電子ビーム露光装置の
電子光学系を示す概略図、第２図は従来の電子ビーム露
光装置の電子光学系を示す概略図、第３図は従来の電子
ビーム露光装置において戊形アパーチャを交換後、電子
ビーム照射開始１時間後の電子ビームの大きさの変化を
示す特性図である。 １・・・・・・電子銃、２・・・・・・照射レンズ、３
・・・・・・戊形アバーチャＡ，４・・・・・・成形偏
向器、６・・・・・・ビーム成形レンズ、６・・・・・
・戒形アパーチャＢ、７・・・・・・縮小レンズ、８・
・・・・・投影レンズ、９・・・・・・位置偏向器、１
０・・・−・・マスク乾板、１１・・・・・・電子ビー
ム、１２・・・・・・ヒーター、１３・・・・・・電源
スイッチ、１４・・・・・・ヒーター用電源。
電子光学系を示す概略図、第２図は従来の電子ビーム露
光装置の電子光学系を示す概略図、第３図は従来の電子
ビーム露光装置において戊形アパーチャを交換後、電子
ビーム照射開始１時間後の電子ビームの大きさの変化を
示す特性図である。 １・・・・・・電子銃、２・・・・・・照射レンズ、３
・・・・・・戊形アバーチャＡ，４・・・・・・成形偏
向器、６・・・・・・ビーム成形レンズ、６・・・・・
・戒形アパーチャＢ、７・・・・・・縮小レンズ、８・
・・・・・投影レンズ、９・・・・・・位置偏向器、１
０・・・−・・マスク乾板、１１・・・・・・電子ビー
ム、１２・・・・・・ヒーター、１３・・・・・・電源
スイッチ、１４・・・・・・ヒーター用電源。
Claims (1)
- 成形アパーチャ部を加熱する機構を有する電子ビーム露
光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1155453A JPH0320010A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 電子ビーム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1155453A JPH0320010A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 電子ビーム露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0320010A true JPH0320010A (ja) | 1991-01-29 |
Family
ID=15606378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1155453A Pending JPH0320010A (ja) | 1989-06-16 | 1989-06-16 | 電子ビーム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0320010A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5428203A (en) * | 1992-10-12 | 1995-06-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electron beam exposing apparatus with a stencil mask kept at a constant temperature |
| KR100454433B1 (ko) * | 2001-11-30 | 2004-10-28 | 하이만푸드 주식회사 | 생맥주통으로부터 생맥주를 배출하기 위한 밸브장치 |
| EP2426559A2 (en) | 2010-09-06 | 2012-03-07 | Ricoh Company, Ltd. | Device and method for measuring surface charge distribution |
-
1989
- 1989-06-16 JP JP1155453A patent/JPH0320010A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5428203A (en) * | 1992-10-12 | 1995-06-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electron beam exposing apparatus with a stencil mask kept at a constant temperature |
| KR100454433B1 (ko) * | 2001-11-30 | 2004-10-28 | 하이만푸드 주식회사 | 생맥주통으로부터 생맥주를 배출하기 위한 밸브장치 |
| EP2426559A2 (en) | 2010-09-06 | 2012-03-07 | Ricoh Company, Ltd. | Device and method for measuring surface charge distribution |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3576685B2 (ja) | 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| JPH05335221A (ja) | 荷電粒子線露光法および露光装置 | |
| JPH076940A (ja) | デバイス製造法 | |
| DE60025303T2 (de) | Lithographischer Projektionsapparat | |
| TWI278725B (en) | System and method for improving linewidth control in a lithography device by varying the angular distribution of light in an illuminator as a function of field position | |
| JPH0320010A (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
| JPS6051261B2 (ja) | 荷電粒子ビ−ム描画装置 | |
| CN105388699A (zh) | 评价用掩模、评价方法、曝光装置以及物品的制造方法 | |
| KR960002282B1 (ko) | 블록마스크의 가열상태가 개선된 하전입자 빔 노광장치 | |
| JP3658149B2 (ja) | 電子線露光装置 | |
| JP2001267221A5 (ja) | ||
| JP3393983B2 (ja) | 荷電粒子ビーム露光装置 | |
| JP3115822B2 (ja) | 紫外線照射装置およびその照射方法 | |
| JP3376043B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JP2000195787A (ja) | 半導体素子の微細パタ―ン形成方法 | |
| JP3218468B2 (ja) | 電子線描画装置 | |
| KR100850201B1 (ko) | Ｏｐｃ 마스크 제작 방법 및 그를 이용하여 제작된 마스크 | |
| JPH1092729A (ja) | 照明装置及びそれを用いた走査型投影露光装置 | |
| JPS5694740A (en) | Electronic beam exposure device | |
| JP2000173916A (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JPS6010669A (ja) | 固体撮像装置の受光部のパタ−ン描画方法 | |
| JPH10223514A (ja) | 電子線転写装置 | |
| JPH0653114A (ja) | 縮小投影露光装置 | |
| JP2794116B2 (ja) | 電子ビーム露光方法 | |
| JP2000056464A (ja) | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法 |