JPH03201451A - Lsiの不良原因解析支援装置 - Google Patents

Lsiの不良原因解析支援装置

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Publication number
JPH03201451A
JPH03201451A JP1340204A JP34020489A JPH03201451A JP H03201451 A JPH03201451 A JP H03201451A JP 1340204 A JP1340204 A JP 1340204A JP 34020489 A JP34020489 A JP 34020489A JP H03201451 A JPH03201451 A JP H03201451A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
failure
lsi
data
electron microscope
layout
Prior art date
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Pending
Application number
JP1340204A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiro Kawashima
川島 明宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP1340204A priority Critical patent/JPH03201451A/ja
Publication of JPH03201451A publication Critical patent/JPH03201451A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、LSIの不良原因解析手続の自動化に係わ
るものであり、設計者が不良解析する際の時間を短縮す
るためのLSI不良原因解析支援装置に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
第2図は従来のLSIの不良原因を解析するシステムの
構成を示すブロック図である。図において、(1)は不
良LSIを検出する評価テスタ、(la)は評価LSI
、(1b)は不良周期のリス) 、+21は故障辞書検
索機構、(2a)は各テスト周期で評価する故障内容、
故障ゲート(信号)を格納した故障辞書、(2b)は故
障辞書検索機構(2)から出力される不良ゲートのリス
ト、(3)はレイアウト情報検索機構、(3a)はゲー
ト名とレイアウト位1!(座標)の関係を入れたレイア
ウト情報ファイル、(3b)は不良ケートの物理的位置
のリストである不良ゲートのレイアウト位置、14)は
チップ(又はマスク)を観測するための電子顕微鏡であ
り、(5)はこれらデータや個別装置を使う設計者であ
る。
次に各個別装置の動作及び設計者の作業内容について説
明する。まず、設計者(5)は、評価LSI(la)を
評価テスタ(1)を用いて評価する。評価LSI(1a
)が不良の場合、評価テスタ(1)は不良周期のりスト
Qb) (不良とテスタで判断したテスト周期のリスト
)を出力する。
次に、設計者(5)は不良周期のリスト(lb)に記述
しである周期で評価する故障内容及び故障ゲート(信号
)は何かを知るために故障辞書検索機構(2)を用いて
、故障辞書(2a)にアクセスする。設計者(5)はこ
こで、不良原因と推定される不良ゲートのリスト(2b
)を得る。
史に、設計者(5)は不良ゲートのリスト(2b)に記
述しであるゲートのレイアウト位if(チップ内、マス
ク内での物理的位1t)は何処かを知るために、レイア
ウト情報検索機構(3)を用いて、レイアウト情報ファ
イル(3a)にアクセスする。設計者(5)はここで不
良ゲートのレイアウト位置(3b)のリストを得る。
最後に設計者(5)は、不良ゲートのレイアウト位置(
3b)のリストをもとに、電子懸微鏡(4)で不良内容
(アルミ断線、コンタクト故障等)を観測し、今後の対
策等を検討する。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来のLSI不良原因解析手続き及び要素個別装置は、
以上のように構成されているので、設計者に不良原因解
析のための負荷が多く、解析のための操作にミスが混入
しやすくなり、又解析のためには熟練者が必要である等
の問題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、LSI不良原因解析手続きが自動的にでき
るとともに、要素個別装置間をデータ相互通信でき、す
なわち取扱いのミスの混入を低減できる装置を得、更に
、解析のための知識が少なくなる装置を得ることを目的
とする。
〔課題を解決するための手段] この発明における要素個別装置間の配線接続による相互
通信及び相互起動は、評価テスタのプロセス、故障辞書
検索プロセス、レイアウト情報プロセス、電子顕微鏡側
副プロセスを有機的に組み合わせ、不良原因箇所の観測
をIII %化する。
〔作 用〕
この発明によるLSIの不良原因解析支援装置はLSI
不良原因の解析手続きを自動化し、取扱いのミスの混入
を低減できるので熟練度の高くない操作者によってもL
SIの不良原因解析を正しく行うことを可能にする。
〔実施例] 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はLSIの不良原因解析支援装置の構成を示すブロッ
ク図である。図において、 (1)!、1(la)、 
(2)、 (2a)、 (31、(3a)、 t41 
、 f51は第2図の従来例に示したものと同等である
ので説明を省略する。
(4a)は電子顕微鏡(4)のレンズを制御するレンズ
制御機構、(6)は評価テスタ(1)、故障辞書検索機
構(2)、レイアウト情報検索機構(3)、電子顕微鏡
(4)の動作を制御し、又個別装置間の情報通信を制御
するCPU、(7)〜(161は各個別装置間の通信線
である。通信線(7)は、テスト実行開始信号が通る接
続線、通信線(8)は、不良判定周期データとテスト評
価終r信号が通る接続線、通信線(9)は、不良判定周
期データと故障辞書(2a)検索開始信号が通る接続線
、通信線OOは、不良推定ゲートデータと故障辞書(2
a)検索開始信号が通る接続線、通信線[11は、不良
推定ゲートとレイアウト情報検索機構(3)開始の信号
線、通信線(121はレイアウト位置(座圏)とレイア
ウト情報検索機構(3)終rの信号線、通信線α3は、
レイアウト位置(座標)と電子顕微W1141のレンズ
制alle&構(4a)開始の信号線、通信線G舶は、
レンズ制御機構(4a)終rの信号線、通信線u51は
、焦点レンズ位置データの信号線、通信線叫は位fit
調節のためのフィードバック情報を伝える信号線である
次に動作及び設計者の作業内容について説明する。まず
設計者(5)は、不良原因解析する命令をCPUf61
に与える。そうするとCPU(6+は不良原因解析ルー
チンを実行し、評価テスタ(1)に対して、テスタ実行
開始信号を通信線(7)を介して送る。テスタ実行開始
信号が送られた評価テスタ(1)は、評価LSI (l
a)を各テスト周期毎に評価する。評価テスタ(1)が
不良と判定した場合、評価テスタ(1)は、CPUt6
に対して、不良判定周期データとテスト評価終了信号を
通信線(8)を介して送る。不良判定周期データとテス
ト評価終T信号が送られたCPU(61は、故障辞!t
(2a)検索開始信号と不良判定周期データを通信線(
9)を介して、故障辞書検索機構(2)に送る。
故障辞書(2a)検索開始信号と不良判定周期データが
送られた故障辞書検索機構(2)は、不良判定周期で評
価するゲート(信号)を故障辞書(2a)を検索するこ
とで行ない、CPU(61に対して、不良推定ゲートデ
ータと故障辞書(2a)検索終了信号を、通信W (1
01を介して送る。不良推定ゲートデータと故障辞書(
2a)検索終了信号が送られたCPtJ161は、レイ
アウト情報検索機構+31に対して、不良推定ゲートデ
ータとレイアウト情報検索機構(3)開始信号を、通信
N(Illを介して送る。不良推定ゲートデータとレイ
アウト情報検索機構開始信号が送られたレイアウト情報
検索機構(3)は、不良ゲートのレイアウト(位a)を
レイアウト情報ファイル(3a)を検索することで行な
い、CPU(61に対して、不良ゲートレイアウト位置
とレイアウト情報検索機構(3)終了信号を送る。不良
ゲートレイアウト位置とレイアウト情報終了信号を送ら
れたC P U(61は、レンズ制御機構(4a)に対
して、レンズ制御開始信号と不良ゲートレイアウト位置
を送る。レンズ制御開始信号と不良ゲートレイアウト位
置を送られたレンズ制御機構(4a)は、不良ゲートレ
イアウト位置が観測できるように、電子顕微鏡(4)を
制御する。不良観測地点に電子顕微鏡(4)が制御され
たならば、制御完T信号が信号線Q61 、 (141
を介してCPU(61に送られる。CP Uf61は設
計者(5)に対して、電子顕微鏡(4)の制御が完了し
たことを指示し、それを見た後設計者(5)は、電子顕
微鏡(4)のレンズで不良ゲートの内容を観測する。
なお、上記実施例では、評価LS I (la)を評価
するのに評価テスタ(1)を用いたが、ロジックアナラ
イザや高機能オシロスコープ等LSIを評価するものな
らば何でもよい。
又、上記実施例では、評価テスタ(1)による評価LS
I(la)の評価、故障辞書検索機構(2)、レイアウ
ト情報検索機構(3)、レンズ制御機構(4a)の順で
の動作を説明したが、設計者(5)の電子顕微鏡(4)
観測により検出される不良箇所を@認するための槽底、
すなわち電子顕微鏡(4)からの評価テスタ(1)駆動
ができる槽底としてもよい。
〔発明の効果] 以上のように、この発明によれば、LSI不良原因解析
のための不良箇所の発見、電子顕微鏡の調節を自動的に
行なえるようになるので、設計者負荷を減することがで
き、LSIの品質管理対策を早期にうつことができるよ
うになる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例によるLSIの不良原因解
析支援装置の槽底を示すブロック図、第2図it 従来
のLSIの不良原因解析のためのシステムの槽底を示す
ブロック図である。 図において、(1)は評価テスタ、(la)は評価LS
 L(2)は故障辞書検索機構、(2a)は故障辞書、
(3)はレイアウト情報検索機構、(3a)はレイアウ
ト情報ファイル、(4)は電子顕微鏡、(4a)はレン
ズ制御機構、(5)ハ設計者、(6)はCPU、 +7
1〜(161は通信mである。 なお、内申、同一符号は同一、又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  各テスト周期毎に被不良解析LSIの動作検証をする
    評価テスタと、上記各テスト周期における評価故障内容
    及び評価故障ゲート(信号)を検索する機構(故障辞書
    ファイル検索機構)と、上記故障ゲートのチップ(又は
    マスク)上での位置を検索する機構(レイアウト位置検
    索機構)と、マスクやチップ内部を観測する電子顕微鏡
    とを備えたLSIの不良原因解析を行うシステムにおい
    て、上記評価テスタ、上記故障辞書ファイル検索機構、
    上記レイアウト情報検索機構、上記電子顕微鏡とを配線
    接続することで相互間情報通信するようにし、その通信
    内容を用いて電子顕微鏡のレンズをLSIの欠陥場所に
    自動的に調節することを特徴とするLSIの不良原因解
    析支援装置。
JP1340204A 1989-12-28 1989-12-28 Lsiの不良原因解析支援装置 Pending JPH03201451A (ja)

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JP1340204A JPH03201451A (ja) 1989-12-28 1989-12-28 Lsiの不良原因解析支援装置

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JP1340204A JPH03201451A (ja) 1989-12-28 1989-12-28 Lsiの不良原因解析支援装置

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JPH03201451A true JPH03201451A (ja) 1991-09-03

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JP1340204A Pending JPH03201451A (ja) 1989-12-28 1989-12-28 Lsiの不良原因解析支援装置

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