JPH03202184A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPH03202184A JPH03202184A JP32599489A JP32599489A JPH03202184A JP H03202184 A JPH03202184 A JP H03202184A JP 32599489 A JP32599489 A JP 32599489A JP 32599489 A JP32599489 A JP 32599489A JP H03202184 A JPH03202184 A JP H03202184A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- cleaning
- cleaned
- spray nozzles
- glass panes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶表示板製造時に行う洗浄工程に用いる洗
浄装置に関する。特に高精細液晶表示板製造における微
小汚れ除去に用いる洗浄装置に関する。
浄装置に関する。特に高精細液晶表示板製造における微
小汚れ除去に用いる洗浄装置に関する。
従来の装置は、上記カタログ記載の様にブラシのスクラ
ブ及び水のシャワーによって洗浄していた。
ブ及び水のシャワーによって洗浄していた。
上記従来技術は第４図に示す様にブラシ１５によるスク
ラブ洗浄の為、被洗浄物との接触が避けられずその接触
により傷が発生し、ガラス基板６上の微細、高精細な形
状を破壊するという問題があった。又、接触によりブラ
シ１５が摩耗し、その摩耗粉がガラス基板６上付着し汚
染するという問題があった。又、第３図に示す従来技術
では、シャワーノズル１３から吐出されるシャワー水１
４が、ガラス基板６上に、その液流時の粘性により液の
動きのない厚さ１μｍ程度の層（境界層）を形成する為
、その層以下の微小粒子は除去出来ないという問題があ
った。さらに第３，４図に示す従来技術とも、有機物汚
染の除去に対しては何の考慮もなされていなかった。
ラブ洗浄の為、被洗浄物との接触が避けられずその接触
により傷が発生し、ガラス基板６上の微細、高精細な形
状を破壊するという問題があった。又、接触によりブラ
シ１５が摩耗し、その摩耗粉がガラス基板６上付着し汚
染するという問題があった。又、第３図に示す従来技術
では、シャワーノズル１３から吐出されるシャワー水１
４が、ガラス基板６上に、その液流時の粘性により液の
動きのない厚さ１μｍ程度の層（境界層）を形成する為
、その層以下の微小粒子は除去出来ないという問題があ
った。さらに第３，４図に示す従来技術とも、有機物汚
染の除去に対しては何の考慮もなされていなかった。
本発明の目的は、粒子径１μｍ以下の汚れ及び有機物汚
染を除去し、ガラス基板６表面に後の膜形成工程に適し
た清浄面を形成する事にある。
染を除去し、ガラス基板６表面に後の膜形成工程に適し
た清浄面を形成する事にある。
本発明は上記目的を達成する為に、水膜により形成され
る厚さ１μｍ程度の境界層以下の粒子を除去するに適し
た、周波数Ｉ Ｍ Ｈｚ程度の超音波で励振させた水で
スプレー洗浄を行い、洗浄後に付着したその水を清浄な
気流で除き、さらに有機物汚染除去に有効な紫外線オゾ
ン洗浄を一貫ライン装置化したものである。
る厚さ１μｍ程度の境界層以下の粒子を除去するに適し
た、周波数Ｉ Ｍ Ｈｚ程度の超音波で励振させた水で
スプレー洗浄を行い、洗浄後に付着したその水を清浄な
気流で除き、さらに有機物汚染除去に有効な紫外線オゾ
ン洗浄を一貫ライン装置化したものである。
水をＩ Ｍ Ｈｚ程度の超音波で励振させると、その超
音波は水を媒体とした縦波により伝わり、被洗浄物表面
に到達する。この場合、水は超音波を伝える媒体として
作用するのみであり、液流としての作用を必要としない
。それゆえ液流により生ずる液の動きのない境界層は生
成しない。被洗浄物表面に達した超音波は、その表面に
付着している異物に縦波の疎密波を作用させる。この波
の作用により１０５Ｇ程度の加速度が生ずる。この加速
度で揺される事により、異物と被洗浄物の間に液が浸入
し、異物と被洗浄物間の付着力が失われ、異物は表面か
ら液中へ移動する。本発明では、超音波励振させた水を
スプレー状に吐出、洗浄する為、上記の液中へ移動した
異物は、スプレーの液流によって表面からさらに遠方へ
運ばれる。それゆえ、スプレー単独では除去出来ない境
界層下の異物も除去される。異物除去後は、被洗浄物表
面の水を除去する為に清浄空気の流れで付着水を除去す
る。これにより被洗浄物表面には、異物及び水の存在し
ない清浄面が形成される。しかし、上記洗浄方法では表
面に付着した有機物汚れ、特に皮膜状に付着した汚れは
除去出来ない。それゆえ、この有機質汚れを紫外線と酸
素から生ずるオゾンと、そのオゾンと紫外線により生ず
る酸素ラジカルにより酸化分解除去してしまう紫外線オ
ゾン洗浄を導入する事が有効となる。又、前記の超音波
励振水による洗浄を行う前に紫外線オゾン洗浄を行うと
、異物と被洗浄物表面の間に浸入し、両者を結びつける
有機物を除去する事となり、より洗浄効果が上る。又、
被洗浄物表面の水濡れ性を向上させる為、異物と被洗浄
物間への水の浸入が容一 ４ 易となり、洗浄効果は向上する。
音波は水を媒体とした縦波により伝わり、被洗浄物表面
に到達する。この場合、水は超音波を伝える媒体として
作用するのみであり、液流としての作用を必要としない
。それゆえ液流により生ずる液の動きのない境界層は生
成しない。被洗浄物表面に達した超音波は、その表面に
付着している異物に縦波の疎密波を作用させる。この波
の作用により１０５Ｇ程度の加速度が生ずる。この加速
度で揺される事により、異物と被洗浄物の間に液が浸入
し、異物と被洗浄物間の付着力が失われ、異物は表面か
ら液中へ移動する。本発明では、超音波励振させた水を
スプレー状に吐出、洗浄する為、上記の液中へ移動した
異物は、スプレーの液流によって表面からさらに遠方へ
運ばれる。それゆえ、スプレー単独では除去出来ない境
界層下の異物も除去される。異物除去後は、被洗浄物表
面の水を除去する為に清浄空気の流れで付着水を除去す
る。これにより被洗浄物表面には、異物及び水の存在し
ない清浄面が形成される。しかし、上記洗浄方法では表
面に付着した有機物汚れ、特に皮膜状に付着した汚れは
除去出来ない。それゆえ、この有機質汚れを紫外線と酸
素から生ずるオゾンと、そのオゾンと紫外線により生ず
る酸素ラジカルにより酸化分解除去してしまう紫外線オ
ゾン洗浄を導入する事が有効となる。又、前記の超音波
励振水による洗浄を行う前に紫外線オゾン洗浄を行うと
、異物と被洗浄物表面の間に浸入し、両者を結びつける
有機物を除去する事となり、より洗浄効果が上る。又、
被洗浄物表面の水濡れ性を向上させる為、異物と被洗浄
物間への水の浸入が容一 ４ 易となり、洗浄効果は向上する。
以下、本発明の一実施例を第工図、第２図により説明す
る。
る。
被洗浄物であるガラス板６はローラフにより洗浄装置本
体上内部へ搬送される。洗浄装置本体１内には水を励振
させて吐出するスプレーノズル９が配置され、そのスプ
レーノズル９には、超音波振動子１０が備えられている
。スプレーノズル９には給水管４が接続されており、水
の流れ５の方向に水がスプレーノズル９に流れ込んでい
る。スプレーノズル９内で水は超音波励振され、吐出水
１１となってガラス板６を前記記載の作用で洗浄する。
体上内部へ搬送される。洗浄装置本体１内には水を励振
させて吐出するスプレーノズル９が配置され、そのスプ
レーノズル９には、超音波振動子１０が備えられている
。スプレーノズル９には給水管４が接続されており、水
の流れ５の方向に水がスプレーノズル９に流れ込んでい
る。スプレーノズル９内で水は超音波励振され、吐出水
１１となってガラス板６を前記記載の作用で洗浄する。
ガラス板６は上記の作用を受けながらローラフによりさ
らに搬送され、ブローノズル８の間を通過する。ここで
ブローノズル８には給気管２が接続されており、気体の
流れ３に沿って空気が送られる。ガラス板６はブローノ
ズル８の間を通過する時、その空気の流れによって表面
付着水が除去される。それにより水の付着してない清浄
面が形成される。ガラス板６はさらにローラ７によって
搬送され、第１図においては後の工程、例えば膜塗布工
程に送られる。又、第２図においてはガラス板６はロー
ラフにより搬送され、紫外線灯１２の下を通過する。こ
の時、紫外線の光及び酸素、オゾンによって洗浄される
。洗浄後、ガラス板６はローラフにより本体外へ運ばれ
上記同様後の工程に送られる。
らに搬送され、ブローノズル８の間を通過する。ここで
ブローノズル８には給気管２が接続されており、気体の
流れ３に沿って空気が送られる。ガラス板６はブローノ
ズル８の間を通過する時、その空気の流れによって表面
付着水が除去される。それにより水の付着してない清浄
面が形成される。ガラス板６はさらにローラ７によって
搬送され、第１図においては後の工程、例えば膜塗布工
程に送られる。又、第２図においてはガラス板６はロー
ラフにより搬送され、紫外線灯１２の下を通過する。こ
の時、紫外線の光及び酸素、オゾンによって洗浄される
。洗浄後、ガラス板６はローラフにより本体外へ運ばれ
上記同様後の工程に送られる。
次に、洗浄効果事例を示す。ガラス板６はサイズ２００
Ｘ１５Ｑであり、液晶表子板の透明電極パターンが形成
されたものであり、後工程でそのパターン表面上に白波
膜を塗布形成する。膜形成時に異物が付着した場合、そ
の部分に膜が形成されない為、ピンホールが形成される
。又、有機物汚染が存在した場合、その部分の濡れ性が
異なる為、クレータ状の膜となり、いずれも製品上重大
な欠陥となる。それゆえ清浄面形成が重要な技術となる
。本事例はその塗布膜形成前洗浄の事例である。前工程
を終えたガラス板６上には、０．５μｍ以上の異物が３
５〜４０個付着している。こ− ら− ６− のガラス板を第工図に示す洗浄装置を用い、以下の条件
で洗浄を行った場合、その付着数は２個程度に低減する
（除去率９５％）。搬送速度３５ｗｎ／秒のスプレーノ
ズル９の数３個。ノズル１個あたりの吐出水量８ Ｑ
／ｍｉｎ 、水温２５℃。吐出力６０ ｍｍ Ｘ ２
ａｎ。励振超音波周波数Ｉ Ｍ Ｈｚ。超音波振動子１
０の出力１００Ｗ。ノズル９とガラス６との距離５抑。
Ｘ１５Ｑであり、液晶表子板の透明電極パターンが形成
されたものであり、後工程でそのパターン表面上に白波
膜を塗布形成する。膜形成時に異物が付着した場合、そ
の部分に膜が形成されない為、ピンホールが形成される
。又、有機物汚染が存在した場合、その部分の濡れ性が
異なる為、クレータ状の膜となり、いずれも製品上重大
な欠陥となる。それゆえ清浄面形成が重要な技術となる
。本事例はその塗布膜形成前洗浄の事例である。前工程
を終えたガラス板６上には、０．５μｍ以上の異物が３
５〜４０個付着している。こ− ら− ６− のガラス板を第工図に示す洗浄装置を用い、以下の条件
で洗浄を行った場合、その付着数は２個程度に低減する
（除去率９５％）。搬送速度３５ｗｎ／秒のスプレーノ
ズル９の数３個。ノズル１個あたりの吐出水量８ Ｑ
／ｍｉｎ 、水温２５℃。吐出力６０ ｍｍ Ｘ ２
ａｎ。励振超音波周波数Ｉ Ｍ Ｈｚ。超音波振動子１
０の出力１００Ｗ。ノズル９とガラス６との距離５抑。
ブローノズル８の空気圧２．５ｋｇ ｆ ／ｃｘ１．ブ
ローノズルの吐出空気量５００１１１／ｍｉｎ。一方、
同等条件で超音波励振を行わない場合、その洗浄方法は
第３図に相当するが、この条件で洗浄した場合ガラス板
６の異物付着数は３００個程にしか減少しない（除去率
２５％）。これより本発明の洗浄効果は明らかである。
ローノズルの吐出空気量５００１１１／ｍｉｎ。一方、
同等条件で超音波励振を行わない場合、その洗浄方法は
第３図に相当するが、この条件で洗浄した場合ガラス板
６の異物付着数は３００個程にしか減少しない（除去率
２５％）。これより本発明の洗浄効果は明らかである。
第１図に示す洗浄では有機物汚染は除去されない。その
表面の清浄度を、表面と純水の濡れ性のパラメータであ
る接触角で測定した結果、５０゜であった。この事は、
この表面が有機物によって汚染されている事を示してい
る。一方、第２図に示す洗浄を行った場合、その清浄度
は、接触角にて５°であった。ここで第２図における紫
外線洗浄の条件は、紫外線灯数４本、出力１００Ｗ／１
本、照射距離５■であつった。これより第２図に示す洗
浄機における洗浄効果は明らかである。
表面の清浄度を、表面と純水の濡れ性のパラメータであ
る接触角で測定した結果、５０゜であった。この事は、
この表面が有機物によって汚染されている事を示してい
る。一方、第２図に示す洗浄を行った場合、その清浄度
は、接触角にて５°であった。ここで第２図における紫
外線洗浄の条件は、紫外線灯数４本、出力１００Ｗ／１
本、照射距離５■であつった。これより第２図に示す洗
浄機における洗浄効果は明らかである。
塗膜形成工程前に本洗浄装置を導入する事によって前記
の欠陥発生による不良発生率は約ｌ／１０に低減した。
の欠陥発生による不良発生率は約ｌ／１０に低減した。
本発明は、以上説明した様に構成され、以下に示す効果
を奏する。
を奏する。
（１）水の境界層（厚さ１μｍ）以下に存在する異物を
除去する。
除去する。
（２）表面濡れ性に悪影響を与える有効物汚染を除去す
る。
る。
（３）上記（１）（２）の作用により後工程、特に塗膜
工程に好ましい表面を形成し、ピンホール等の欠陥発住
を防止出来る。
工程に好ましい表面を形成し、ピンホール等の欠陥発住
を防止出来る。
（４）自動化−貫ラインが可能であり作業の効率化が図
れる。
れる。
−
８−
第１図、第２図は本発明の一実施例の洗浄装置の断面図
、第３図、第４図は従来技術の洗浄装置の断面図である
。 １・・・洗浄装置本体、２・・・給気管、３・・・気体
の流れ、４・・・給水管、５・・水の流れ、６・・・ガ
ラス板、７・・・ローラ、８・・・ブローノズル、９・
・・スプレーノズル、１０・・・超音波振動子、１１・
・・吐出水、工２・・・紫外線灯、１３・・・シャワー
ノズル、１４・・・シャワー水、） ＝９− 篤 Ｚ 図 第３図
、第３図、第４図は従来技術の洗浄装置の断面図である
。 １・・・洗浄装置本体、２・・・給気管、３・・・気体
の流れ、４・・・給水管、５・・水の流れ、６・・・ガ
ラス板、７・・・ローラ、８・・・ブローノズル、９・
・・スプレーノズル、１０・・・超音波振動子、１１・
・・吐出水、工２・・・紫外線灯、１３・・・シャワー
ノズル、１４・・・シャワー水、） ＝９− 篤 Ｚ 図 第３図
Claims (1)
- １、板状等の被洗浄物に付着した汚染物を超音波により
励振された液体を介して除去する湿式洗浄部と、その液
体を乾燥する乾燥部と、被洗浄物に付着した汚染物を酸
素を含む雰囲気中で紫外線を照射し除去する乾式洗浄部
とを結合し、前記湿式洗浄部から乾式洗浄部へ被洗浄物
を搬送する搬送手段とを組込でこれらを一つの装置に纏
めてなることを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32599489A JPH03202184A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32599489A JPH03202184A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03202184A true JPH03202184A (ja) | 1991-09-03 |
Family
ID=18182916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32599489A Pending JPH03202184A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03202184A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103769386A (zh) * | 2013-12-20 | 2014-05-07 | 张家港市科宇信超声有限公司 | 超声波清洗机 |
| CN107695031A (zh) * | 2017-11-16 | 2018-02-16 | 张家港市科宇信超声有限公司 | 用于管型工件的超声波清洗机及超声波清洗方法 |
| CN110586597A (zh) * | 2019-09-25 | 2019-12-20 | 惠州市吉祥达智能装备有限公司 | 一种玻璃清洗装置及方法 |
| CN111746466A (zh) * | 2019-03-26 | 2020-10-09 | 株式会社斯巴鲁 | 附着物去除装置 |
-
1989
- 1989-12-18 JP JP32599489A patent/JPH03202184A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103769386A (zh) * | 2013-12-20 | 2014-05-07 | 张家港市科宇信超声有限公司 | 超声波清洗机 |
| CN107695031A (zh) * | 2017-11-16 | 2018-02-16 | 张家港市科宇信超声有限公司 | 用于管型工件的超声波清洗机及超声波清洗方法 |
| CN107695031B (zh) * | 2017-11-16 | 2021-01-05 | 张家港市科宇信超声有限公司 | 用于管型工件的超声波清洗机及超声波清洗方法 |
| CN111746466A (zh) * | 2019-03-26 | 2020-10-09 | 株式会社斯巴鲁 | 附着物去除装置 |
| CN110586597A (zh) * | 2019-09-25 | 2019-12-20 | 惠州市吉祥达智能装备有限公司 | 一种玻璃清洗装置及方法 |
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