JPH03204877A - ピラゾロ［１，５―ａ］ピリミジン誘導体 - Google Patents
ピラゾロ［１，５―ａ］ピリミジン誘導体Info
- Publication number
- JPH03204877A JPH03204877A JP28976990A JP28976990A JPH03204877A JP H03204877 A JPH03204877 A JP H03204877A JP 28976990 A JP28976990 A JP 28976990A JP 28976990 A JP28976990 A JP 28976990A JP H03204877 A JPH03204877 A JP H03204877A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- lower alkyl
- formula
- phenyl
- pyrazolo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は医薬として有用な新規ピラゾロ［１，５ａ］ピ
リミジン誘導体、さらに詳しくは一般式；Ｒ３ １式中、Ｒｏ、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４は同一または異なって
水素原子、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル
基、フェニル基、置換基としてヒドロキシル基、カルボ
キシル基、低級アルコキシカルボニル基を有することの
ある低級アルキル基、シクロアルキル基を示し、またＲ
１およびＲ，は互いに結合して低級アルキレン基を形成
してもよい。Ｒ６は基−ＳＲ，または−ＮＲ７Ｒ，を示
し、Ｒ８はピリジニル基または置換基としてヒドロキシ
ル基、低級アルキル基から選ばれる基の１〜３個を有す
ることのあるフェニル基を示し、Ｒ７およびＲ８は水素
原子、置換基としてヒドロキシル基、低級アルキル基、
低級アルコキシカルボニル基、カルボキシル基から選ば
れる基の１〜３個を有することのあるフェニル基を示す
か、あるいはＲ７とＲ８が互いに結合して、これらが結
合している窒素原子と共に１−ピロリジニル基、２−オ
キソ−１−ピロリジニル基、または置換基としてハロゲ
ン原子もしくはトリへロメチル基を有することのあるフ
ェニル基、ヒドロキシ低級アルキル基あるいはジフェニ
ル低級アルキル基を有するｌ−ピペラジニル基を形成す
る基を示す］ で表されるピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン誘導体ま
たはその塩に関する。
リミジン誘導体、さらに詳しくは一般式；Ｒ３ １式中、Ｒｏ、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４は同一または異なって
水素原子、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル
基、フェニル基、置換基としてヒドロキシル基、カルボ
キシル基、低級アルコキシカルボニル基を有することの
ある低級アルキル基、シクロアルキル基を示し、またＲ
１およびＲ，は互いに結合して低級アルキレン基を形成
してもよい。Ｒ６は基−ＳＲ，または−ＮＲ７Ｒ，を示
し、Ｒ８はピリジニル基または置換基としてヒドロキシ
ル基、低級アルキル基から選ばれる基の１〜３個を有す
ることのあるフェニル基を示し、Ｒ７およびＲ８は水素
原子、置換基としてヒドロキシル基、低級アルキル基、
低級アルコキシカルボニル基、カルボキシル基から選ば
れる基の１〜３個を有することのあるフェニル基を示す
か、あるいはＲ７とＲ８が互いに結合して、これらが結
合している窒素原子と共に１−ピロリジニル基、２−オ
キソ−１−ピロリジニル基、または置換基としてハロゲ
ン原子もしくはトリへロメチル基を有することのあるフ
ェニル基、ヒドロキシ低級アルキル基あるいはジフェニ
ル低級アルキル基を有するｌ−ピペラジニル基を形成す
る基を示す］ で表されるピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン誘導体ま
たはその塩に関する。
発明の構成および効果
本発明の新規ピラゾロ［１，５〜ａ］ピリミジン誘導体
は前記−形成（１）で示され、動物、特に哺乳動物に対
して、例えば虚血−再痺流障害改善作用、抗炎症、抗リ
ウマチ、抗喘息、抗アレルギー、解熱、鎮痛等の薬理作
用を示し、例えば虚血−再痺流障害改善剤、抗炎症剤、
抗リウマチ剤、抗喘息剤、抗アレルギー剤、解熱剤、鎮
痛剤等の医薬品として有用である。
は前記−形成（１）で示され、動物、特に哺乳動物に対
して、例えば虚血−再痺流障害改善作用、抗炎症、抗リ
ウマチ、抗喘息、抗アレルギー、解熱、鎮痛等の薬理作
用を示し、例えば虚血−再痺流障害改善剤、抗炎症剤、
抗リウマチ剤、抗喘息剤、抗アレルギー剤、解熱剤、鎮
痛剤等の医薬品として有用である。
上記−形成（１）において示される各基としては具体的
にはそれぞれ以下の各基を例示できる。
にはそれぞれ以下の各基を例示できる。
低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル
、ペンチル、ヘキシル等の炭素数１〜６個の直鎖または
分枝鎖アルキルが挙げられる。
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル
、ペンチル、ヘキシル等の炭素数１〜６個の直鎖または
分枝鎖アルキルが挙げられる。
低級アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキンカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニル基等の炭素数２−７の直鎖または分
枝鎖状アルコキシカルボニル基を例示できる。
ニル、エトキシカルボニル、プロポキンカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニル基等の炭素数２−７の直鎖または分
枝鎖状アルコキシカルボニル基を例示できる。
置換基としてヒドロキシル基、カルボキシル基または低
級アルコキシカルボニル基を有することのある低級アル
キル基としては先に掲げた低級アルキル基の他、例えば
ヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロ
キシプロピル、２ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキン
イソプロピル、カルボキンメチル、２−カルボキシエチ
ル、３−カルボキンプロピル、４−カルボキンブチル、
メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル
、プロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメ
チル、２−メトキシカルボニルエチル、２−エトキシカ
ルボニルエチル等が挙げられる。
級アルコキシカルボニル基を有することのある低級アル
キル基としては先に掲げた低級アルキル基の他、例えば
ヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロ
キシプロピル、２ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキン
イソプロピル、カルボキンメチル、２−カルボキシエチ
ル、３−カルボキンプロピル、４−カルボキンブチル、
メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル
、プロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメ
チル、２−メトキシカルボニルエチル、２−エトキシカ
ルボニルエチル等が挙げられる。
シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、シクロオクチル基等の炭素数３〜８のシクロ
アルキル基を例示できる。
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、シクロオクチル基等の炭素数３〜８のシクロ
アルキル基を例示できる。
低級アルキレン基としては、例えばメチレン、エチレン
、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘ
キサメチレン基等が挙げられる。
、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘ
キサメチレン基等が挙げられる。
置換基としてヒドロキシル基、低級アルキル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、カルボキシル基から選ばれる基
の１〜３個を有することのあるフェニル基としてはフェ
ニル基の他、例えば２−ヒドロキソフェニル、３−ヒド
ロキシフェニル、４ヒドロキシフエニル、２，３−ジヒ
ドロキシフェニル、２４−ジヒドロキシフェニル、３，
４−ジヒドロキシフェニル、２−メチルフェニル、■。
ルコキシカルボニル基、カルボキシル基から選ばれる基
の１〜３個を有することのあるフェニル基としてはフェ
ニル基の他、例えば２−ヒドロキソフェニル、３−ヒド
ロキシフェニル、４ヒドロキシフエニル、２，３−ジヒ
ドロキシフェニル、２４−ジヒドロキシフェニル、３，
４−ジヒドロキシフェニル、２−メチルフェニル、■。
３−ジメチルフェニル、３，４．５−１リメチルフエニ
ル、３−エチルフェニル、２，３−ジエチルフェニル、
２，４．６−ドリエチルフエニル、４−プロピルフェニ
ル、２，４−ジプロピルフェニル、ｌ。
ル、３−エチルフェニル、２，３−ジエチルフェニル、
２，４．６−ドリエチルフエニル、４−プロピルフェニ
ル、２，４−ジプロピルフェニル、ｌ。
２．３−トリプロピルフェニル、４−ｔ−ブチルフェニ
ル、２．４−ジー【−ブチルフェニル、２，４．６トリ
ーｔ−ブチルフェニル、３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル、２−メトキシカルボニルフェニル
、３−メトキシカルボニル−４ヒドロキシフエニル、２
−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニル、４−
カルボキシフェニル、２．４−ジカルボキシフェニル、
２，４．６トリカルポキシフエニル、３−カルボキシ−
４ヒドロキシフエニル等が挙げられる。
ル、２．４−ジー【−ブチルフェニル、２，４．６トリ
ーｔ−ブチルフェニル、３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル、２−メトキシカルボニルフェニル
、３−メトキシカルボニル−４ヒドロキシフエニル、２
−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニル、４−
カルボキシフェニル、２．４−ジカルボキシフェニル、
２，４．６トリカルポキシフエニル、３−カルボキシ−
４ヒドロキシフエニル等が挙げられる。
ハロゲン原子またはトリハロメチル基を有することのあ
るフェニル基としては、フェニル基の他に、例えば、２
−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フル
オロフェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニ
）Ｉｉ、４−’）ロロフェニル、２−ブロモフェニル、
３−ブロモフェニル、４−ブロモフェニル、２−ヨード
フェニル、３−ヨードフェニル、４−ヨードフェニル、
２−フルオロ−３−クロロフェニル、２−トリフルオロ
メチルフェニル、３−トリクロロメチルフェニル、４−
トリブロモメチルフェニル、２−トリヨードメチルフェ
ニル、３−ジフルオロモノクロロメチルフェニル、４−
モノクロロジブロモメチルフェニル、２−ジクロロモノ
ヨードメチルフェニル基等が挙げられる。
るフェニル基としては、フェニル基の他に、例えば、２
−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フル
オロフェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニ
）Ｉｉ、４−’）ロロフェニル、２−ブロモフェニル、
３−ブロモフェニル、４−ブロモフェニル、２−ヨード
フェニル、３−ヨードフェニル、４−ヨードフェニル、
２−フルオロ−３−クロロフェニル、２−トリフルオロ
メチルフェニル、３−トリクロロメチルフェニル、４−
トリブロモメチルフェニル、２−トリヨードメチルフェ
ニル、３−ジフルオロモノクロロメチルフェニル、４−
モノクロロジブロモメチルフェニル、２−ジクロロモノ
ヨードメチルフェニル基等が挙げられる。
ジフェニル低級アルキル基としては、例えば、ジフェニ
ルメチル、２．２−ジフェニルエチル、２．３−ジフェ
ニルプロピル基等が挙げられる。
ルメチル、２．２−ジフェニルエチル、２．３−ジフェ
ニルプロピル基等が挙げられる。
本発明のピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン誘導体は下
記の反応工程式により製造することができる。
記の反応工程式により製造することができる。
［反応工程式−１〕
［式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ８、
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ８、Ｒ７およびＲ８は前記と同じ。コ反
応工程式−１に示すように、ピラゾロ［１，５−ａ］ピ
リミジンハライド誘導体（ｎ）とチオール類（Ｉ）また
はアミン類（ＴＶ）とを縮合させることにより、本発明
化合物（１）を得ることができる。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ８、Ｒ７およびＲ８は前記と同じ。コ反
応工程式−１に示すように、ピラゾロ［１，５−ａ］ピ
リミジンハライド誘導体（ｎ）とチオール類（Ｉ）また
はアミン類（ＴＶ）とを縮合させることにより、本発明
化合物（１）を得ることができる。
上記反応は一般に適当な溶媒中、脱酸剤の存在下または
非存在下で実施される。ここで用いられる脱酸剤として
は、Ｎ ａ ＯＨｓ Ｋ ＯＨｓ Ｎ ａ ＨＣ０３、
Ｋ ｔ ＣＯ３等のアルカリ金属水酸化物、重炭酸塩ま
た炭酸塩などの無機塩基、またはトリエチルアミン、ジ
メチルアニリン、ノエチルアニリン、Ｎ−メチルモルホ
リン、ピリジン、４−ツメチルアミノピリジン等の第三
級アミン類を例示できる。また溶媒としては、メタノー
ル、エタノール等の低級アルコール類、テトラハイドロ
フラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等のエーテル類などの不
活性有機溶媒が挙げられる。脱酸剤として無機塩基を使
う場合にはこれら不活性有機溶媒と水との混合溶媒を用
いるのが好ましい。またベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素も溶媒として使用し得る。
非存在下で実施される。ここで用いられる脱酸剤として
は、Ｎ ａ ＯＨｓ Ｋ ＯＨｓ Ｎ ａ ＨＣ０３、
Ｋ ｔ ＣＯ３等のアルカリ金属水酸化物、重炭酸塩ま
た炭酸塩などの無機塩基、またはトリエチルアミン、ジ
メチルアニリン、ノエチルアニリン、Ｎ−メチルモルホ
リン、ピリジン、４−ツメチルアミノピリジン等の第三
級アミン類を例示できる。また溶媒としては、メタノー
ル、エタノール等の低級アルコール類、テトラハイドロ
フラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等のエーテル類などの不
活性有機溶媒が挙げられる。脱酸剤として無機塩基を使
う場合にはこれら不活性有機溶媒と水との混合溶媒を用
いるのが好ましい。またベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素も溶媒として使用し得る。
上記反応におけるピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジンハ
ライド誘導体（ＩＩ）とチオール類（ＩＩＩ）またはア
ミン類（ＩＶ）との使用割合は特に限定されないが、通
常前者に対して後者を等モル量〜過剰量用いるのがよい
。また上記脱酸剤は通常ピラゾｏ［ｌ、５ａ］ピリミジ
ンハライド誘導体に対して等モル量〜過剰量用いるのが
好適である。反応は冷却下、室温下および加熱下のいず
れでも進行するが、通常θ℃〜溶媒の還流温度範囲の温
度条件を採用して行なわれ、一般に０．５〜１５時間程
時間路了する。
ライド誘導体（ＩＩ）とチオール類（ＩＩＩ）またはア
ミン類（ＩＶ）との使用割合は特に限定されないが、通
常前者に対して後者を等モル量〜過剰量用いるのがよい
。また上記脱酸剤は通常ピラゾｏ［ｌ、５ａ］ピリミジ
ンハライド誘導体に対して等モル量〜過剰量用いるのが
好適である。反応は冷却下、室温下および加熱下のいず
れでも進行するが、通常θ℃〜溶媒の還流温度範囲の温
度条件を採用して行なわれ、一般に０．５〜１５時間程
時間路了する。
［反応工程式−２］
［式中、Ｘ、〜Ｘ７およびＸ’＋〜Ｘ’７はそれぞれ前
記−形成（Ｄ中の対応する基に相当し、すなわち、Ｘ、
とＸ゛１、Ｘ、とＸ゛２、Ｘ３とＸ″３およびＸ４とＸ
°４はそれぞれＲ１１Ｒ７、Ｒ３およびＲ４に相当し、
Ｘ、とＸ’５、Ｘ、とＸ ’ ｅおよびＸ７とＸ°７は
水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、低級アル
コキンカルボニル基またはカルボキシ基から選ばれる基
である。ただし、Ｘ、、Ｘ、、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ８
、Ｘ７のうち少なくとも一つの基は低級アルコキシカル
ボニル基または低級アルコキンカルボニル低級アルキル
基であり、Ｘ′１、Ｘ’２、Ｘ’３、Ｘ″４、Ｘ’ｓ、
Ｘ゛６、Ｘ ’ ７のうち上記の基に対応する位置の基
はカルボキシル基またはカルボキシ低級アルキル基であ
る］ 反応工程式−２に示すように、反応工程式−１の方法で
合成される本発明化合物（Ｉ）のうち、置換基として低
級アルコキシカルボニル基および／または低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基を有する化合物（Ｉ ａ）
を加水分解して別の本発明化合物（Ｉ ｂ）を得ること
かできる。上記反応は、例えばメタノール、エタノール
等の低級アルコール類、ＴＨＦ、ジオキサン等のエーテ
ル類などの適当な不活性有機溶媒と水との混合溶媒中、
化合物（Ｉａ）に対して１〜３０倍モル量のＮａ０ＨＳ
ＫＯＨ等のアルカリ金属水酸化物およびハイドロサルフ
ァイドナトリウム（ＮａｘＳｘｏ＊）の存在下または非
存在下で実施される。置換基ｘ５、Ｘ８、Ｘ７のいずれ
かがｐ位のＯＨ基である場合、加水分解反応中、酸化さ
れるおそれがあるので、Ｎａ、５ｚＯ４の存在下で反応
させるのが好ましい。反応は冷却下、室温下、および加
熱下のいずれでも進行するが通常０℃〜溶媒の還流温度
範囲の温度条件を採用して行なわれる。
記−形成（Ｄ中の対応する基に相当し、すなわち、Ｘ、
とＸ゛１、Ｘ、とＸ゛２、Ｘ３とＸ″３およびＸ４とＸ
°４はそれぞれＲ１１Ｒ７、Ｒ３およびＲ４に相当し、
Ｘ、とＸ’５、Ｘ、とＸ ’ ｅおよびＸ７とＸ°７は
水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、低級アル
コキンカルボニル基またはカルボキシ基から選ばれる基
である。ただし、Ｘ、、Ｘ、、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ８
、Ｘ７のうち少なくとも一つの基は低級アルコキシカル
ボニル基または低級アルコキンカルボニル低級アルキル
基であり、Ｘ′１、Ｘ’２、Ｘ’３、Ｘ″４、Ｘ’ｓ、
Ｘ゛６、Ｘ ’ ７のうち上記の基に対応する位置の基
はカルボキシル基またはカルボキシ低級アルキル基であ
る］ 反応工程式−２に示すように、反応工程式−１の方法で
合成される本発明化合物（Ｉ）のうち、置換基として低
級アルコキシカルボニル基および／または低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基を有する化合物（Ｉ ａ）
を加水分解して別の本発明化合物（Ｉ ｂ）を得ること
かできる。上記反応は、例えばメタノール、エタノール
等の低級アルコール類、ＴＨＦ、ジオキサン等のエーテ
ル類などの適当な不活性有機溶媒と水との混合溶媒中、
化合物（Ｉａ）に対して１〜３０倍モル量のＮａ０ＨＳ
ＫＯＨ等のアルカリ金属水酸化物およびハイドロサルフ
ァイドナトリウム（ＮａｘＳｘｏ＊）の存在下または非
存在下で実施される。置換基ｘ５、Ｘ８、Ｘ７のいずれ
かがｐ位のＯＨ基である場合、加水分解反応中、酸化さ
れるおそれがあるので、Ｎａ、５ｚＯ４の存在下で反応
させるのが好ましい。反応は冷却下、室温下、および加
熱下のいずれでも進行するが通常０℃〜溶媒の還流温度
範囲の温度条件を採用して行なわれる。
［反応工程式−３コ
［Ｙ、〜Ｙ７およびＹ°１〜Ｙ°７はそれぞれ前記−形
成（１）中の対応する基に相当し、すなわち、Ｙ。
成（１）中の対応する基に相当し、すなわち、Ｙ。
とＹ゛１、Ｙ２とＹ’２、Ｙ３とＹ°３およびＹ４とＹ
４はそれぞれＲ１、Ｒ７、Ｒ３およびＲ４に相当し、Ｙ
５とＹ′５、Ｙ８とＹ’ｓおよびＹ７とＹ゛７は水素原
子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、低級アルコキン
カルボニル基またはカルボキン基から選ばれる基である
。たたし、Ｙｌ、Ｙ７、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ８、Ｙ７
のうち少なくとも一つの基がカルボキシル基、低級アル
コキンカルボニル基またはカルボキシ低級アルキル基を
示し、Ｙ°３、Ｙ“２、Ｙ°３、Ｙ″４、Ｙ°５、Ｙ’
ｅ、Ｙ’７のうち上記の基に対応する位置の基は対応す
るヒドロキシル基またはヒドロキシ低級アルキル基を示
す］ 反応工程式−３に示すように、反応工程式−■で合成さ
れる本発明化合物（１）のうち、置換基としてカルボキ
シル基、低級アルコキシカルボニル基および／またはカ
ルボキシ低級アルキル基を有する化合物（ＩＣ）を還元
して別の本発明化合物（■ｄ）を得ることができる。上
記還元反応は、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ１ジオ
キサン等の不活性有機溶媒中、化合物（Ｔｃ）に対して
１〜１０倍モル量の水素化アルミニウムリチウム、水素
化アルミニウム、ノボラン等の適当な還元剤を用いて実
施できる。反応は約０〜５０℃の温度条件、好ましくは
約０°Ｃ〜室温付近の温度条件を採用して行なわれる。
４はそれぞれＲ１、Ｒ７、Ｒ３およびＲ４に相当し、Ｙ
５とＹ′５、Ｙ８とＹ’ｓおよびＹ７とＹ゛７は水素原
子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、低級アルコキン
カルボニル基またはカルボキン基から選ばれる基である
。たたし、Ｙｌ、Ｙ７、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ８、Ｙ７
のうち少なくとも一つの基がカルボキシル基、低級アル
コキンカルボニル基またはカルボキシ低級アルキル基を
示し、Ｙ°３、Ｙ“２、Ｙ°３、Ｙ″４、Ｙ°５、Ｙ’
ｅ、Ｙ’７のうち上記の基に対応する位置の基は対応す
るヒドロキシル基またはヒドロキシ低級アルキル基を示
す］ 反応工程式−３に示すように、反応工程式−■で合成さ
れる本発明化合物（１）のうち、置換基としてカルボキ
シル基、低級アルコキシカルボニル基および／またはカ
ルボキシ低級アルキル基を有する化合物（ＩＣ）を還元
して別の本発明化合物（■ｄ）を得ることができる。上
記還元反応は、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ１ジオ
キサン等の不活性有機溶媒中、化合物（Ｔｃ）に対して
１〜１０倍モル量の水素化アルミニウムリチウム、水素
化アルミニウム、ノボラン等の適当な還元剤を用いて実
施できる。反応は約０〜５０℃の温度条件、好ましくは
約０°Ｃ〜室温付近の温度条件を採用して行なわれる。
前記反応工程式−■において、出発原料として使用され
る化合物（ｎ）は、公知化合物および新規化合物の両者
を包含しており、これら各化合物は、例えば下記反応工
程式−４に示す方法に従って、製造することができる。
る化合物（ｎ）は、公知化合物および新規化合物の両者
を包含しており、これら各化合物は、例えば下記反応工
程式−４に示す方法に従って、製造することができる。
［反応工程式−４］
バ３
［式中、Ｙは低級アルキル基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３
、Ｒ４およびＸは前記に同じ］ 上記反応工程式−４に示す化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ
）との縮合反応は、酢酸、エタノール等の溶媒中、室温
〜溶媒の沸点の温度条件下で処理することにより行なわ
れる。
、Ｒ４およびＸは前記に同じ］ 上記反応工程式−４に示す化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ
）との縮合反応は、酢酸、エタノール等の溶媒中、室温
〜溶媒の沸点の温度条件下で処理することにより行なわ
れる。
化合物（Ｖ）と化合物（Ｖｆ）との使用割合は、一般に
ほぼ等モル量とするのがよく、また反応は２〜５時間程
度を要して完了し、かくして化合物（■）か得られる。
ほぼ等モル量とするのがよく、また反応は２〜５時間程
度を要して完了し、かくして化合物（■）か得られる。
次に、化合物（■）をハロゲン化することにより、本発
明化合物の原料である化合物（ＩＩ）を得ることができ
る。
明化合物の原料である化合物（ＩＩ）を得ることができ
る。
該ハロゲン化は、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−
ジエチルアニリン、トリエチルアミン等の脱酸剤の存在
下、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン等のハロゲン化剤
と処理することにより実施される。なお、上記ハロゲン
化剤は溶媒も兼ねるので特に溶媒を必要としないが、別
の不活性溶媒中でも実施でき、その場合は例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン等を例示できる。
ジエチルアニリン、トリエチルアミン等の脱酸剤の存在
下、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン等のハロゲン化剤
と処理することにより実施される。なお、上記ハロゲン
化剤は溶媒も兼ねるので特に溶媒を必要としないが、別
の不活性溶媒中でも実施でき、その場合は例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン等を例示できる。
また、脱酸剤の使用量は、化合物（■）に対して１−１
ｏ倍程度が採用できる。
ｏ倍程度が採用できる。
反応は、室温〜１００℃の温度条件で０．５〜２時間程
度を要して行なわれる。
度を要して行なわれる。
上記反応工程式−１〜４に示す方法により得られる化合
物は、慣用される分離手段により反応系内より単離され
得、また精製され得る。上記単離・精製手段としては溶
媒抽出、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、プ
レバラテイブ薄層クロマトグラフィー等を採用すること
ができる。また、得られる本発明化合物は、必要により
遊離の形態で、または医薬的に許容される酸、例えば塩
酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸等の無機酸、シュウ酸、フ
マル酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸等の有機酸との
酸付加塩の形態で、または医薬的に許容されるアルカリ
金属またはアルカリ土類金属（例えばナトリウム、カリ
ウム、カルシウム等）の金属塩の形態で単離してもよい
。
物は、慣用される分離手段により反応系内より単離され
得、また精製され得る。上記単離・精製手段としては溶
媒抽出、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、プ
レバラテイブ薄層クロマトグラフィー等を採用すること
ができる。また、得られる本発明化合物は、必要により
遊離の形態で、または医薬的に許容される酸、例えば塩
酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸等の無機酸、シュウ酸、フ
マル酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸等の有機酸との
酸付加塩の形態で、または医薬的に許容されるアルカリ
金属またはアルカリ土類金属（例えばナトリウム、カリ
ウム、カルシウム等）の金属塩の形態で単離してもよい
。
［実施例］
以下、実施例を挙げて本発明の化合物をさらに具体的に
説明する。
説明する。
実施例１
７−（３，５−ジーＬ−ブチルー４−ヒドロキシフェニ
ル）アミノ−ピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジンの合成 ７−クロロピラゾロ［１，５−ａＥピリミジンｌｏｇと
３．５−ノーｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリン塩酸
塩１．８ｇおよびジエチルアニリン２゜３ｍｌのトルエ
ン５０＋ｎｌ懸濁液を１２０℃で３０分間加熱した。冷
浸、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒：ＣＨＣｌ３）で精製し、７−（３
，５−ジ−ｔ−ブチル−４ヒドロキシフエニル）アミノ
ピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン８９０ｍｇを無色結
晶として得た。
ル）アミノ−ピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジンの合成 ７−クロロピラゾロ［１，５−ａＥピリミジンｌｏｇと
３．５−ノーｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリン塩酸
塩１．８ｇおよびジエチルアニリン２゜３ｍｌのトルエ
ン５０＋ｎｌ懸濁液を１２０℃で３０分間加熱した。冷
浸、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒：ＣＨＣｌ３）で精製し、７−（３
，５−ジ−ｔ−ブチル−４ヒドロキシフエニル）アミノ
ピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン８９０ｍｇを無色結
晶として得た。
融点： ２６４〜２６６（分解）
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）＋ ６
１．４８（ｓ、１８Ｈ）、５．６３（ｓ、ＩＨ）、５゜
９２（ｓ、ＩＨ）、６．５５（ｄ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、Ｉ
Ｈ）、７．４７（ｓ、２Ｈ）、８．１４（ｄ、Ｊ＝２゜
３ Ｈｚ、 Ｉ Ｈ） 実施例２〜２６ 実施例１と同様にして、下記第１表に示す各化合物を得
た。
９２（ｓ、ＩＨ）、６．５５（ｄ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、Ｉ
Ｈ）、７．４７（ｓ、２Ｈ）、８．１４（ｄ、Ｊ＝２゜
３ Ｈｚ、 Ｉ Ｈ） 実施例２〜２６ 実施例１と同様にして、下記第１表に示す各化合物を得
た。
実施例２７
７−（２−カルボキシフェニル）アミノ−５−メチルピ
ラゾロ［１，５−ａ］ピリミノンの合成実施例３で合成
した７−（２−メトキシカルボニルフェニル）アミノ−
５−メチルピラゾロ［１゜５−ａ］ピリミンン１．０ｇ
のエタノール２０ｍ１溶液に５％水酸化ナトリウム溶液
３０ｍ１を加え、１００°Ｃで１時間加熱撹拌した。冷
浸、エタノールを留去し、残渣に１０％塩酸を加えて中
和し、さらに飽和クエン酸水溶液でＩ）Ｈ４とした。析
出した結晶を濾取し、水、エタノール、エチルエーテル
で洗浄後、乾燥し、７−（２−カルボキシフェニル）ア
ミノ−５−メチルピラゾロ［１，５−ａ］ピリミノン９
７０ｍｇを無色結晶として得た。
ラゾロ［１，５−ａ］ピリミノンの合成実施例３で合成
した７−（２−メトキシカルボニルフェニル）アミノ−
５−メチルピラゾロ［１゜５−ａ］ピリミンン１．０ｇ
のエタノール２０ｍ１溶液に５％水酸化ナトリウム溶液
３０ｍ１を加え、１００°Ｃで１時間加熱撹拌した。冷
浸、エタノールを留去し、残渣に１０％塩酸を加えて中
和し、さらに飽和クエン酸水溶液でＩ）Ｈ４とした。析
出した結晶を濾取し、水、エタノール、エチルエーテル
で洗浄後、乾燥し、７−（２−カルボキシフェニル）ア
ミノ−５−メチルピラゾロ［１，５−ａ］ピリミノン９
７０ｍｇを無色結晶として得た。
融点、２６１〜２６２°Ｃ（分解）
’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ８）・ δ２．４７（ｓ、
３Ｈ）、６．４７（ｄ、Ｊ＝１．２Ｈｚ。
３Ｈ）、６．４７（ｄ、Ｊ＝１．２Ｈｚ。
ＩＨ） ６．７６（ｓ、ＩＨ）、７．２７（ｔ、Ｊ７
．６Ｈｚ、ＩＨ）、７．７２（ｔ、Ｊ＝７．６Ｈｚ。
．６Ｈｚ、ＩＨ）、７．７２（ｔ、Ｊ＝７．６Ｈｚ。
ＩＨ）、７．８６（ｄ、Ｊ＝７．６Ｈｚ、ＩＨ）、８゜
０７（ｄ、Ｊ＝７．６Ｈｚ、ＩＨ）、８．１６（ｄ、Ｊ
ｌ、２Ｈｚ、ＩＨ） 実施例２８〜３５ 実施例２７と同様にして、下記第２表に示す各化合物を
得た。
０７（ｄ、Ｊ＝７．６Ｈｚ、ＩＨ）、８．１６（ｄ、Ｊ
ｌ、２Ｈｚ、ＩＨ） 実施例２８〜３５ 実施例２７と同様にして、下記第２表に示す各化合物を
得た。
実施例３６
７−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキソフェニ
ル）アミノ−３−ヒドロキシメチル−５メチルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリミジンの合成ＬｉＡｌＨ４８４０ｍ
ｇの無水エーテル５０ｍ１懸濁液に実施例ＩＯで合成し
た７−（３，５−ジー上ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）アミノ−３エトキシカルボニル−５−メチルピラゾ
ロ［１，５ａ］ピリミジン３．５ｇの無水ＴＨＦ ５
０ｍ１溶液を水冷下で滴下し、同温度にて３０分間撹拌
、さらに室温で１時間撹拌した。酢酸エチルおよび水を
加えて過剰のＬｉＡＩＨ，を分解後、セライトで濾過し
た。濾液を酢酸エチルで希釈し、Ｎａ２ｓｔ０４飽和水
溶液および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／ジクロロエタン＝
２／ｌ→クロロホルム／メタノール＝８／１）で精製し
た。こうして得た結晶をエチルエーテルで洗浄し、７−
（３５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ア
ミノ−３−ヒドロキシメチル−５−メチルピラゾロ［Ｉ
、５−ａ］ピリミノン２．３ｇを無色結晶として得た。
ル）アミノ−３−ヒドロキシメチル−５メチルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリミジンの合成ＬｉＡｌＨ４８４０ｍ
ｇの無水エーテル５０ｍ１懸濁液に実施例ＩＯで合成し
た７−（３，５−ジー上ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）アミノ−３エトキシカルボニル−５−メチルピラゾ
ロ［１，５ａ］ピリミジン３．５ｇの無水ＴＨＦ ５
０ｍ１溶液を水冷下で滴下し、同温度にて３０分間撹拌
、さらに室温で１時間撹拌した。酢酸エチルおよび水を
加えて過剰のＬｉＡＩＨ，を分解後、セライトで濾過し
た。濾液を酢酸エチルで希釈し、Ｎａ２ｓｔ０４飽和水
溶液および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／ジクロロエタン＝
２／ｌ→クロロホルム／メタノール＝８／１）で精製し
た。こうして得た結晶をエチルエーテルで洗浄し、７−
（３５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ア
ミノ−３−ヒドロキシメチル−５−メチルピラゾロ［Ｉ
、５−ａ］ピリミノン２．３ｇを無色結晶として得た。
融点 １９４〜１９６℃
’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）： δ１．４１（ｓ
、１８Ｈ）、２．３６（ｓ、３Ｈ）、４６０（ｄ、Ｊ＝
５．２Ｈｚ、２Ｈ）、４．７９（ｔ Ｊ＝５．２Ｈｚ、
ＩＨ）、６．０４（ｓ、ＩＨ）、７゜１０（ｂｒｓ、ｆ
Ｈ）、７．１７（ｓ、２Ｈ）、８．０６ （ｓ、 Ｉ
Ｈ）、 ９ 、４４ （ｂｒｓ、 Ｉ Ｈ）実施例３
７ ６．７−シヒドロー８−（３５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）アミノ−５Ｈ−シクロペンタ［ｄ
］ピラゾロ［１，５−ａ］ピリミノンの合成 ２−オキソソクロペンタンカルポン酸エチルの３１９と
３−アミノピラゾール１７．４９を酢酸３００杼に溶か
し、１００℃で３時間加熱した。放冷後、生じた結晶を
濾取し、水、次いでジエチルエーテルで洗浄し、さらに
ンクロロメタンーノエチルエーテルで再結晶して、融点
２８０℃以上の結晶２２．３ｇを得た。
、１８Ｈ）、２．３６（ｓ、３Ｈ）、４６０（ｄ、Ｊ＝
５．２Ｈｚ、２Ｈ）、４．７９（ｔ Ｊ＝５．２Ｈｚ、
ＩＨ）、６．０４（ｓ、ＩＨ）、７゜１０（ｂｒｓ、ｆ
Ｈ）、７．１７（ｓ、２Ｈ）、８．０６ （ｓ、 Ｉ
Ｈ）、 ９ 、４４ （ｂｒｓ、 Ｉ Ｈ）実施例３
７ ６．７−シヒドロー８−（３５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）アミノ−５Ｈ−シクロペンタ［ｄ
］ピラゾロ［１，５−ａ］ピリミノンの合成 ２−オキソソクロペンタンカルポン酸エチルの３１９と
３−アミノピラゾール１７．４９を酢酸３００杼に溶か
し、１００℃で３時間加熱した。放冷後、生じた結晶を
濾取し、水、次いでジエチルエーテルで洗浄し、さらに
ンクロロメタンーノエチルエーテルで再結晶して、融点
２８０℃以上の結晶２２．３ｇを得た。
次に、上記で得られた結晶９．０ｇとＮ、Ｎ−ジエチル
アニリン１５ｚＣをオキシ塩化リン９０ｉρ中に加え、
８０℃で３時間加熱した。反応終了後、減圧５縮し、残
渣を氷水中に注ぎ込み、ノクロロメタンで抽出した。有
機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた後、溶媒を留去した。残渣をｎ−ヘキサンで結晶
化して、９．９９の結晶を得た。
アニリン１５ｚＣをオキシ塩化リン９０ｉρ中に加え、
８０℃で３時間加熱した。反応終了後、減圧５縮し、残
渣を氷水中に注ぎ込み、ノクロロメタンで抽出した。有
機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた後、溶媒を留去した。残渣をｎ−ヘキサンで結晶
化して、９．９９の結晶を得た。
上記結晶３．９ｇと３．５−ジ−ｔ−ブチル−４ヒドロ
キノアニリン塩酸塩５．２ｇおよびＮ、Ｎジエチルアニ
リン５ｍａをトルエン６０ｍ１ｉ中に加え、１００°Ｃ
で３時間加熱した。実施例１と同様に後処理し、粗生成
物をノリカゲルカラムクロマトグラフィ−（溶出溶媒・
ジクロロメタン→ノクロロメタンーメタノール−５０：
Ｉ）で精製し、更にノクロロメタンーンエチルエーテル
で再結晶して、目的化合物３．８ｇを得た。
キノアニリン塩酸塩５．２ｇおよびＮ、Ｎジエチルアニ
リン５ｍａをトルエン６０ｍ１ｉ中に加え、１００°Ｃ
で３時間加熱した。実施例１と同様に後処理し、粗生成
物をノリカゲルカラムクロマトグラフィ−（溶出溶媒・
ジクロロメタン→ノクロロメタンーメタノール−５０：
Ｉ）で精製し、更にノクロロメタンーンエチルエーテル
で再結晶して、目的化合物３．８ｇを得た。
融点２５５〜２５７℃（分解）
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）： δ
１．４５（ｓ、 Ｉ ８ Ｈ）、 １．９６（ｑｕｉ
ｎｔｅｔ、Ｊ ＝７．３Ｈｚ、２Ｈ）、２．２２（ｔ、
Ｊ＝７．３Ｈｚ。
ｎｔｅｔ、Ｊ ＝７．３Ｈｚ、２Ｈ）、２．２２（ｔ、
Ｊ＝７．３Ｈｚ。
２Ｈ）、２．８９（ｔ、Ｊ＝７．３Ｈｚ、２Ｈ）、５゜
３０（ｓ、ＩＨ）、６．４０（ｄ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、Ｉ
Ｈ）、７．０７（ｓ、２Ｈ）、７．９７（ｄ、Ｊ＝２゜
３ Ｈｚ、 Ｉ Ｈ）、 ７ 、９７ （ｂｒｓ、
１． Ｈ）実施例３８〜４８ 実施例３７と同様にして、下記第３表に示す各化合物を
得た。
３０（ｓ、ＩＨ）、６．４０（ｄ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、Ｉ
Ｈ）、７．０７（ｓ、２Ｈ）、７．９７（ｄ、Ｊ＝２゜
３ Ｈｚ、 Ｉ Ｈ）、 ７ 、９７ （ｂｒｓ、
１． Ｈ）実施例３８〜４８ 実施例３７と同様にして、下記第３表に示す各化合物を
得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式； ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は同一または
異なって水素原子、カルボキシル基、低級アルコキシカ
ルボニル基、フェニル基、置換基としてヒドロキシル基
、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基を有す
ることのある低級アルキル基、シクロアルキル基を示し
、またＲ＿１およびＲ＿２は互いに結合して低級アルキ
レン基を形成してもよい。Ｒ＿５は基−ＳＲ＿６または
−ＮＲ＿７Ｒ＿８を示し、Ｒ＿６はピリジニル基または
置換基としてヒドロキシル基、低級アルキル基から選ば
れる基の１〜３個を有することのあるフェニル基を示し
、Ｒ＿７およびＲ＿８は水素原子、置換基としてヒドロ
キシル基、低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
基、カルボキシル基から選ばれる基の１〜３個を有する
ことのあるフェニル基を示すか、あるいはＲ＿７とＲ＿
８が互いに結合して、これらが結合している窒素原子と
共に１−ピロリジニル基、２−オキソ−１−ピロリジニ
ル基、または置換基としてハロゲン原子もしくはトリハ
ロメチル基を有することのあるフェニル基、ヒドロキシ
低級アルキル基あるいはジフェニル低級アルキル基を有
する１−ピペラジニル基を形成する基を示す］ で表されるピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン誘導体お
よびそれらの塩。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27756689 | 1989-10-25 | ||
| JP1-277566 | 1989-10-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03204877A true JPH03204877A (ja) | 1991-09-06 |
| JP2585462B2 JP2585462B2 (ja) | 1997-02-26 |
Family
ID=17585289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2289769A Expired - Fee Related JP2585462B2 (ja) | 1989-10-25 | 1990-10-25 | ピラゾロ［１，５―ａ］ピリミジン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2585462B2 (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0591528A4 (en) * | 1991-04-22 | 1995-02-15 | Otsuka Pharma Co Ltd | PYRAZOLO (1,5-A) PYRIMIDINE DERIVATIVES AND ANTI-INFLAMMATORY CONTAINERS THEREOF. |
| WO1995035298A1 (en) * | 1994-06-21 | 1995-12-28 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | PYRAZOLO[1,5-a]PYRIMIDINE DERIVATIVE |
| WO1997046560A1 (en) * | 1996-06-06 | 1997-12-11 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Amide derivatives |
| WO1998003510A1 (en) * | 1996-07-24 | 1998-01-29 | Du Pont Pharmaceuticals Company | Azolo triazines and pyrimidines |
| WO1999059998A1 (en) * | 1998-05-19 | 1999-11-25 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | PYRAZOLO[1,5-a]PYRIMIDINE DERIVATIVES |
| US6649759B2 (en) | 2000-03-30 | 2003-11-18 | Pfizer Inc. | Neuropeptide Y antagonists |
| US6664261B2 (en) | 1996-02-07 | 2003-12-16 | Neurocrine Biosciences, Inc. | Pyrazolopyrimidines as CRF receptor antagonists |
| WO2004026229A3 (en) * | 2002-09-04 | 2004-06-17 | Schering Corp | Pyrazolo[1,5-a]pyrimidines compounds as cyclin dependent kinase inhibitors |
| WO2004087707A1 (en) * | 2003-03-31 | 2004-10-14 | Vernalis (Cambridge) Limited | Pyrazolopyrimidine compounds and their use in medicine |
| WO2004110454A1 (ja) * | 2003-06-13 | 2004-12-23 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | アデノシンＡ2ａ受容体アゴニストの投与が必要な疾患を治療又は予防するための組成物 |
| US7196111B2 (en) * | 2002-06-04 | 2007-03-27 | Schering Corporation | Pyrazolo[1,5a]pyrimidine compounds as antiviral agents |
| US7205308B2 (en) | 2002-09-04 | 2007-04-17 | Schering Corporation | Trisubstituted 7-aminopyrazolopyrimidines as cyclin dependent kinase inhibitors |
| US9056111B1 (en) * | 2011-09-21 | 2015-06-16 | Stc.Unm | Selective efflux inhibitors and related pharmaceutical compositions and methods of treatment |
| US20160318937A1 (en) * | 2014-01-22 | 2016-11-03 | Apodemus Ab | Pyrazolo[1,5-a]pyrimidines as antiviral compounds |
-
1990
- 1990-10-25 JP JP2289769A patent/JP2585462B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5688949A (en) * | 1991-04-22 | 1997-11-18 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Pyrazolo 1,5-A!pyrimidine derivatives and anti-inflammatory agent containing the same |
| EP0591528A4 (en) * | 1991-04-22 | 1995-02-15 | Otsuka Pharma Co Ltd | PYRAZOLO (1,5-A) PYRIMIDINE DERIVATIVES AND ANTI-INFLAMMATORY CONTAINERS THEREOF. |
| CN1046730C (zh) * | 1994-06-21 | 1999-11-24 | 株式会社大塚制药工场 | 吡唑并[1,5-a]嘧啶衍生物 |
| AU680370B2 (en) * | 1994-06-21 | 1997-07-24 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Pyrazolo(1,5-a)pyrimidine derivative |
| WO1995035298A1 (en) * | 1994-06-21 | 1995-12-28 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | PYRAZOLO[1,5-a]PYRIMIDINE DERIVATIVE |
| US7074797B2 (en) | 1996-02-07 | 2006-07-11 | Neurocrine Biosciences, Inc. | Pyrazolopyrimidines as CRF receptor antagonists |
| US6664261B2 (en) | 1996-02-07 | 2003-12-16 | Neurocrine Biosciences, Inc. | Pyrazolopyrimidines as CRF receptor antagonists |
| WO1997046560A1 (en) * | 1996-06-06 | 1997-12-11 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Amide derivatives |
| AU716633B2 (en) * | 1996-06-06 | 2000-03-02 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Amide derivatives |
| WO1998003510A1 (en) * | 1996-07-24 | 1998-01-29 | Du Pont Pharmaceuticals Company | Azolo triazines and pyrimidines |
| EP1908764A1 (en) * | 1996-07-24 | 2008-04-09 | Bristol-Myers Squibb Pharma Company | Azolo triazines and pyrimidines |
| WO1999059998A1 (en) * | 1998-05-19 | 1999-11-25 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | PYRAZOLO[1,5-a]PYRIMIDINE DERIVATIVES |
| US6372749B1 (en) | 1998-05-19 | 2002-04-16 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Pyrazolo[1,5-a]pyrimidine derivatives |
| US6649759B2 (en) | 2000-03-30 | 2003-11-18 | Pfizer Inc. | Neuropeptide Y antagonists |
| US7196111B2 (en) * | 2002-06-04 | 2007-03-27 | Schering Corporation | Pyrazolo[1,5a]pyrimidine compounds as antiviral agents |
| JP2006502184A (ja) * | 2002-09-04 | 2006-01-19 | シェーリング コーポレイション | サイクリン依存性キナーゼインヒビターとしての新規ピラゾロピリミジン |
| US7067661B2 (en) | 2002-09-04 | 2006-06-27 | Schering Corporation | Pyrazolopyrimidines as cyclin dependent kinase inhibitors |
| US7205308B2 (en) | 2002-09-04 | 2007-04-17 | Schering Corporation | Trisubstituted 7-aminopyrazolopyrimidines as cyclin dependent kinase inhibitors |
| WO2004026229A3 (en) * | 2002-09-04 | 2004-06-17 | Schering Corp | Pyrazolo[1,5-a]pyrimidines compounds as cyclin dependent kinase inhibitors |
| US7514442B2 (en) | 2002-09-04 | 2009-04-07 | Schering Corporation | Trisubstituted 4-aminopyrazolopyrimidines as cyclin dependent kinase inhibitors |
| JP4790265B2 (ja) * | 2002-09-04 | 2011-10-12 | シェーリング コーポレイション | サイクリン依存性キナーゼインヒビターとしての新規ピラゾロピリミジン |
| WO2004087707A1 (en) * | 2003-03-31 | 2004-10-14 | Vernalis (Cambridge) Limited | Pyrazolopyrimidine compounds and their use in medicine |
| WO2004110454A1 (ja) * | 2003-06-13 | 2004-12-23 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | アデノシンＡ2ａ受容体アゴニストの投与が必要な疾患を治療又は予防するための組成物 |
| US9056111B1 (en) * | 2011-09-21 | 2015-06-16 | Stc.Unm | Selective efflux inhibitors and related pharmaceutical compositions and methods of treatment |
| US20150197526A1 (en) * | 2011-09-21 | 2015-07-16 | Stc.Unm | Selective efflux inhibitors and related pharmaceutical compositions and methods of treatment |
| US20160318937A1 (en) * | 2014-01-22 | 2016-11-03 | Apodemus Ab | Pyrazolo[1,5-a]pyrimidines as antiviral compounds |
| US9963455B2 (en) * | 2014-01-22 | 2018-05-08 | Curovir Ab | Pyrazolo[1,5-a]pyrimidines as antiviral compounds |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2585462B2 (ja) | 1997-02-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0591528B1 (en) | PYRAZOLO[1,5-a]PYRIMIDINE DERIVATIVE AND ANTI-INFLAMMATORY CONTAINING THE SAME | |
| JPH03204877A (ja) | ピラゾロ［１，５―ａ］ピリミジン誘導体 | |
| EP0628032A1 (en) | Quinazolinone antianginal agents | |
| PL161379B1 (pl) | S p o só b wytwarzania kwasu 2-[2-[4-[/4-chlorofenylo/fenylom etylo]-1-piperazynylo] etoksy]octow ego i jego dichlorowodorku PL PL | |
| AU680320B2 (en) | Morpholine derivatives as dopamine receptor subtype ligands | |
| EP0264586A1 (en) | Hydantoin derivatives for treating complications of diabetes | |
| IE67288B1 (en) | 1-indolyalkyl-4-(alkoxypyrimidinyl) piperazines | |
| JP2753659B2 (ja) | ピラゾール誘導体 | |
| JPS61155358A (ja) | ジアリール酪酸誘導体 | |
| CA2515218A1 (en) | Process for preparing pyrrolotriazine kinase inhibitors | |
| CA2338945A1 (en) | Process for the preparation of pyrrolo[2,3-d]pyrimidines | |
| JPH01226886A (ja) | ピリド〔２，３―ｄ〕ピリミジン誘導体 | |
| DK161966B (da) | Fremgangsmaade til fremstilling af 5-aroylerede 1,2-dihydro-3h-pyrrolooe1,2-aaapyrrol-1-carboxylsyrer eller estere eller farmaceutisk acceptable salte deraf | |
| JP2000119273A (ja) | ピラゾロ［４，３―ｄ］ピリミジン―７―オン類及びそれらの中間体の製造方法 | |
| JPH03170465A (ja) | ピリダジン誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する医薬組成物 | |
| JPH0341068A (ja) | インドールカルボン酸誘導体の製造法 | |
| JPS60193990A (ja) | 新規なポリアザ複素環誘導体 | |
| EP0089065B1 (en) | Novel phenylpiperazine derivatives and process for producing the same | |
| JPH05132484A (ja) | ピラゾロキノリン及びピラゾロナフチリジン誘導体 | |
| EP0273321B1 (en) | 7-bromo-beta-carboline compound and method for producing same | |
| IL135323A (en) | Process for the synthesis of -4 [-2 amino-6-chloro-9H-purine-9yl] -2-cyclopentane-1-methanol | |
| JP2641879B2 (ja) | 光学活性を有するヒダントイン誘導体の製法 | |
| HU176005B (en) | Process for producing new 2-bracket-1,8-naftiridine-2-yl-bracket closed-3-square bracket-bracket-alkyl-1-piperazinyl-bracket closed-carbonyloxy-square bracket closed-trifluoromethyl-isoindolinones | |
| JPH08208591A (ja) | ２−アミノベンゼンスルホン酸誘導体ならびに２−アミノベンゼンスルホニルクロリド誘導体とその製造法およびその合成中間体としての使用 | |
| JP2007534678A (ja) | Ｃｃｒ−１アンタゴニストとしての化合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |