JPH03207809A - レーザビーム式表面処理装置 - Google Patents
レーザビーム式表面処理装置Info
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- JPH03207809A JPH03207809A JP2000244A JP24490A JPH03207809A JP H03207809 A JPH03207809 A JP H03207809A JP 2000244 A JP2000244 A JP 2000244A JP 24490 A JP24490 A JP 24490A JP H03207809 A JPH03207809 A JP H03207809A
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザビーム式表面処理装置に関し、特に材料
の移動に同期させて材料に照射されるレーザビームの集
光度合(パワー密度)を変化させ材料の表面に微細なピ
ットと焼入れ硬化した箇所とを交互に連続的に形成する
レーザビーム式表面処理装置に関するものである。
の移動に同期させて材料に照射されるレーザビームの集
光度合(パワー密度)を変化させ材料の表面に微細なピ
ットと焼入れ硬化した箇所とを交互に連続的に形成する
レーザビーム式表面処理装置に関するものである。
従来、機械部品の摺動面の耐摩耗性を高めるため当該摺
動面に対し熱処理、侵炭、窒化などの処理が施される。
動面に対し熱処理、侵炭、窒化などの処理が施される。
しかし、これらの処理では作業環境の劣化や処理剤の管
理が問題となり、更に摺動特性を向上させるためには摺
動部分へ潤滑油を供給することが不可欠となる。
理が問題となり、更に摺動特性を向上させるためには摺
動部分へ潤滑油を供給することが不可欠となる。
かかる従来の処理方法の問題点を解決するために最近“
プラズマガウジング法”という新しい表面処理方法が提
案されている。第5図に基づいてプラズマガウジング法
を説明する。第5図において、51は被処理材であり、
52はプラズマトーチである。プラズマトーチ52はプ
ラズマアーク53を被処理材51の表面に吹き付けつつ
矢印55の方向に進行する。その進行の際進行方向に対
し直角の方向に高速に揺動させる。上記のプラズマアー
ク53は高密度熱源であり、これによれば被処理材51
の表面を急熱急冷して焼入れ硬化すると同時にその表面
を局部的に溶融し排除することにより、深さ10〜10
0lIIIlの微細なピットを容易に多数形成すること
ができる。プラズマガウジング法で処理した摩耗部品は
、その摺動面に多数の微細なピットが形威されているた
め、これらの多数のピットで潤滑油を保持することがで
き、これが原因で摩耗面の潤滑性能が良《なり、摩耗面
の油切れ事故の回数を少なくすることができる。
プラズマガウジング法”という新しい表面処理方法が提
案されている。第5図に基づいてプラズマガウジング法
を説明する。第5図において、51は被処理材であり、
52はプラズマトーチである。プラズマトーチ52はプ
ラズマアーク53を被処理材51の表面に吹き付けつつ
矢印55の方向に進行する。その進行の際進行方向に対
し直角の方向に高速に揺動させる。上記のプラズマアー
ク53は高密度熱源であり、これによれば被処理材51
の表面を急熱急冷して焼入れ硬化すると同時にその表面
を局部的に溶融し排除することにより、深さ10〜10
0lIIIlの微細なピットを容易に多数形成すること
ができる。プラズマガウジング法で処理した摩耗部品は
、その摺動面に多数の微細なピットが形威されているた
め、これらの多数のピットで潤滑油を保持することがで
き、これが原因で摩耗面の潤滑性能が良《なり、摩耗面
の油切れ事故の回数を少なくすることができる。
前記のプラズマガウジング法はすぐれた表面処理方法で
あるが、反面次のような問題を有している。
あるが、反面次のような問題を有している。
プラズマトーチによって発生させたプラズマアークでは
径の大きさ等について微細な制御が困難であり、ピット
の大きさが不揃いとなる。また、油溜めとしてのピット
は1つ1つが独立して形成されることが望ましいにも拘
らず、プラズマアー夕方式ではピットが連続した溝とな
る傾向にあり、これでは熱くさび効果が低減する。
径の大きさ等について微細な制御が困難であり、ピット
の大きさが不揃いとなる。また、油溜めとしてのピット
は1つ1つが独立して形成されることが望ましいにも拘
らず、プラズマアー夕方式ではピットが連続した溝とな
る傾向にあり、これでは熱くさび効果が低減する。
プラズマアークはどちらかと言えば大型部品のの処理に
適しており、油圧機器等の小型精密部品への適用は困難
である。
適しており、油圧機器等の小型精密部品への適用は困難
である。
プラズマトーチは寸法的に大型のものであり、例えば材
料の穴の奥の方或いはフランジと軸の付け根部分など細
かい部分の処理には向かない。
料の穴の奥の方或いはフランジと軸の付け根部分など細
かい部分の処理には向かない。
本発明の目的は、上述した現在のプラズマガウジング法
が抱える問題点に鑑みてなされたものであり、正確な径
を有した微細なピットを独立状態で多数形成することが
できると共に、小型の精密部品においてピット形成と焼
入れ部分を交互に連続的に形成することのできるレーザ
ビーム式表面処理装置を提供することにある。
が抱える問題点に鑑みてなされたものであり、正確な径
を有した微細なピットを独立状態で多数形成することが
できると共に、小型の精密部品においてピット形成と焼
入れ部分を交互に連続的に形成することのできるレーザ
ビーム式表面処理装置を提供することにある。
本発明に係るレーザビーム式表面処理装置は、被処理材
の表面を処理するために被処理材に対してレーザビーム
を照射するレーザ発振器と、レーザビームの進行を許可
又は遮断する開閉動作を行うビームシャッタと、被処理
材の表面にレーザビームを集光させる集光レンズと、こ
の集光レンズの位置を変更し、被処理材の表面における
レーザビームのパワー密度を変更させる駆動手段と、被
処理材の移動に同期させてビームシャッタの開閉動作と
駆動手段のパワー密度変更動作を制御し、被処理材の前
記表面にピットと焼入れ硬化部を交互に連続的に形成さ
せる制御手段とから構成される。
の表面を処理するために被処理材に対してレーザビーム
を照射するレーザ発振器と、レーザビームの進行を許可
又は遮断する開閉動作を行うビームシャッタと、被処理
材の表面にレーザビームを集光させる集光レンズと、こ
の集光レンズの位置を変更し、被処理材の表面における
レーザビームのパワー密度を変更させる駆動手段と、被
処理材の移動に同期させてビームシャッタの開閉動作と
駆動手段のパワー密度変更動作を制御し、被処理材の前
記表面にピットと焼入れ硬化部を交互に連続的に形成さ
せる制御手段とから構成される。
本発明によるレーザビーム式表面処理装置では、レーザ
ビームを熱源として使用し、被処理材の表面におけるー
ザビームのパワー密度を制御してピット形成と焼入れ硬
化とを連続的に行うため、制御手段による制御の下で、
集光レンズの位置を被処理材の位置の変化に同期させて
駆動手段で変更する。また形成されたピットと焼入れ硬
化部との間の不要な材料溶融を避けるために所定時期に
ビームシャッタでレーザービームによる被処理材の照射
を中断させる。
ビームを熱源として使用し、被処理材の表面におけるー
ザビームのパワー密度を制御してピット形成と焼入れ硬
化とを連続的に行うため、制御手段による制御の下で、
集光レンズの位置を被処理材の位置の変化に同期させて
駆動手段で変更する。また形成されたピットと焼入れ硬
化部との間の不要な材料溶融を避けるために所定時期に
ビームシャッタでレーザービームによる被処理材の照射
を中断させる。
以下に、本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する
。
。
第1図は本発明による表面処理装置の全体構成を示す。
第1図において、1はレーザ発振器であり、レーザ発振
器1は所要のエネルギレベルのパルス波状又は連続波状
のレーザビーム2を出力する。3はレーザ発振器1のレ
ーザビーム出力部に近接した位置でレーザビームの進路
上に配置されたビームシャッタであり、このビームシャ
ツタ3におけるレーザビームの進行を許可又は遮断する
開閉動作はコントローラ10からの制御指令信号で制御
される。4はレーザビーム2の進路を反射作用により変
更させるペンディングミラー、5は集光レンズである。
器1は所要のエネルギレベルのパルス波状又は連続波状
のレーザビーム2を出力する。3はレーザ発振器1のレ
ーザビーム出力部に近接した位置でレーザビームの進路
上に配置されたビームシャッタであり、このビームシャ
ツタ3におけるレーザビームの進行を許可又は遮断する
開閉動作はコントローラ10からの制御指令信号で制御
される。4はレーザビーム2の進路を反射作用により変
更させるペンディングミラー、5は集光レンズである。
ペンディングミラー4によってレーザビーム2を被処理
材の方ヘガイドする。
材の方ヘガイドする。
集光レンズ5は、駆動装置6によってレーザビームの光
軸に沿って図中上下方向に移動するように駆動される。
軸に沿って図中上下方向に移動するように駆動される。
集光レンズ5を上下方向に移動可能とずることにより、
被処理材の表面に照射されるレーザビームのスポット径
を変化させることが可能となる。7はXテーブル、8は
yテーブルであり、それぞれX軸方向、y軸方向へ移動
することができる。Xテーブル7の上面には被処理材9
が載置される。Xテーブル7、Yテーブル8の移動機構
により被処理材9の表面におけるレーザビームスポット
の位置をx−y平面内で自由に変更することができる。
被処理材の表面に照射されるレーザビームのスポット径
を変化させることが可能となる。7はXテーブル、8は
yテーブルであり、それぞれX軸方向、y軸方向へ移動
することができる。Xテーブル7の上面には被処理材9
が載置される。Xテーブル7、Yテーブル8の移動機構
により被処理材9の表面におけるレーザビームスポット
の位置をx−y平面内で自由に変更することができる。
以上の駆動装置6、xテーブル7、yテーブル8の動作
は、前記コントローラ10によって制御される。
は、前記コントローラ10によって制御される。
次に上記構戚を有するレーザビームを利用した表面処理
装置による表面処理方法を説明する。
装置による表面処理方法を説明する。
第2図はレーザビームによって行える各種の加工、処理
をグラフ形式で表したものであり、横軸はパルス幅、縦
軸はパワー密度をそれぞれ示している。第2図で示した
グラフによれば、被処理材9に与えられるレーザビーム
2のパワー密度に応じて被処理材9に対し穴あけA1溶
接(溶融)B1焼入れCができることを示している。例
えば、レ一ザビーム2のパルス幅(レーザビーム照射時
間)を1 0−’@ec程度に設定し、レーザビーム2
のパワー密度を1 0 ’ W/ cm2、1 0 3
W/cm’・・と上げていくと、パワー密度の小さいう
ちは被処理材の表面を乾燥させるだけであったものが、
焼入れ、溶接、穴あけの順序で各種の処理を行うことが
可能となる。実際には、パワー密度だけではなく、表に
示される如くパルス幅との組み合わせによって最適な材
料処理条件が存在するが、第一義的にはパワー密度によ
って処理の形態は決定される。上記の説明はパルスレー
ザを使用する場合の説明であるが、連続レーザを使用す
る場合にはその照射時間をビームシャッタ3で制御する
ことにより同様な効果を発生させることができる。
をグラフ形式で表したものであり、横軸はパルス幅、縦
軸はパワー密度をそれぞれ示している。第2図で示した
グラフによれば、被処理材9に与えられるレーザビーム
2のパワー密度に応じて被処理材9に対し穴あけA1溶
接(溶融)B1焼入れCができることを示している。例
えば、レ一ザビーム2のパルス幅(レーザビーム照射時
間)を1 0−’@ec程度に設定し、レーザビーム2
のパワー密度を1 0 ’ W/ cm2、1 0 3
W/cm’・・と上げていくと、パワー密度の小さいう
ちは被処理材の表面を乾燥させるだけであったものが、
焼入れ、溶接、穴あけの順序で各種の処理を行うことが
可能となる。実際には、パワー密度だけではなく、表に
示される如くパルス幅との組み合わせによって最適な材
料処理条件が存在するが、第一義的にはパワー密度によ
って処理の形態は決定される。上記の説明はパルスレー
ザを使用する場合の説明であるが、連続レーザを使用す
る場合にはその照射時間をビームシャッタ3で制御する
ことにより同様な効果を発生させることができる。
以上のようにレーザビームのパワー密度を変えることに
より材料表面の加工作業を変えることができる。本実施
例では、第l図において集光レンズ5の上下方向の位置
を変更することによってパワー密度を任意に設定するこ
とを可能とし、もって被処理材9に対し行われる加工・
処理を変更できるようにしている。この状態を第3図に
基づいて説明する。
より材料表面の加工作業を変えることができる。本実施
例では、第l図において集光レンズ5の上下方向の位置
を変更することによってパワー密度を任意に設定するこ
とを可能とし、もって被処理材9に対し行われる加工・
処理を変更できるようにしている。この状態を第3図に
基づいて説明する。
第3図では(A),(B).(C)の3種類の加工作業
の状態を示している。各図において、2はレーザビーム
、5は集光レンズ、9は被処理材である。第3図(A)
は集光レンズ5の位置を下方位置に設定し、レーザビー
ム2の焦点位置をほぼ被処理材9の表面に一致させてい
る。この場合には、被処理材9の表面におけるレーザビ
ーム2のパワー密度は最大となり、被処理材9の表面で
はレーザビーム集光箇所で瞬時に加熱蒸発状態が発生し
、これによりピットを形成することができる。第3図(
B)では、集光レンズ5の位置が少し上昇し、レーザビ
ーム2の焦点位置が被処理材9の表面よりも上方位置に
移り、表面上のレーザビームによるスポット径が大きく
なる。この場合には被処理材9の表面におけるパワー密
度は少し小さくなり、溶融するだけで蒸発に至らず、レ
ーザビーム2による照射が停止されると再凝固する。
の状態を示している。各図において、2はレーザビーム
、5は集光レンズ、9は被処理材である。第3図(A)
は集光レンズ5の位置を下方位置に設定し、レーザビー
ム2の焦点位置をほぼ被処理材9の表面に一致させてい
る。この場合には、被処理材9の表面におけるレーザビ
ーム2のパワー密度は最大となり、被処理材9の表面で
はレーザビーム集光箇所で瞬時に加熱蒸発状態が発生し
、これによりピットを形成することができる。第3図(
B)では、集光レンズ5の位置が少し上昇し、レーザビ
ーム2の焦点位置が被処理材9の表面よりも上方位置に
移り、表面上のレーザビームによるスポット径が大きく
なる。この場合には被処理材9の表面におけるパワー密
度は少し小さくなり、溶融するだけで蒸発に至らず、レ
ーザビーム2による照射が停止されると再凝固する。
このような現象は溶接に利用される。第3図(C)では
集光レンズ5は更に上昇し、被処理材9の表面における
レーザビーム2のスポット径は更に大きくなり、反面パ
ワー密度はより小さくなる。従って、第3図(C)に示
される状態では、被処理材9の表面のレーザビーム2が
照射された箇所は瞬時に加熱されるのみであり、溶融に
は至らず、その後レーザビーム2を停止したときには急
令され、焼入れが行われる。
集光レンズ5は更に上昇し、被処理材9の表面における
レーザビーム2のスポット径は更に大きくなり、反面パ
ワー密度はより小さくなる。従って、第3図(C)に示
される状態では、被処理材9の表面のレーザビーム2が
照射された箇所は瞬時に加熱されるのみであり、溶融に
は至らず、その後レーザビーム2を停止したときには急
令され、焼入れが行われる。
本発明では、上記第3図(A),(C)の2つの状態を
利用し、この2つの状態に交互に設定するように、Xテ
ーブル7とyテーブル8による被処理材9の送り運動に
同期させて集光レンズ5を駆動装置6によって周期的に
上下に移動させる。
利用し、この2つの状態に交互に設定するように、Xテ
ーブル7とyテーブル8による被処理材9の送り運動に
同期させて集光レンズ5を駆動装置6によって周期的に
上下に移動させる。
第3図の(A)と(C)の間における(B)の状態では
被処理材9の表面が溶融するのを避けるべくビームシャ
ッタ3を閉状態にしてレーザビーム2が表面に照射され
るのを防止するようにしている。
被処理材9の表面が溶融するのを避けるべくビームシャ
ッタ3を閉状態にしてレーザビーム2が表面に照射され
るのを防止するようにしている。
上記の表面処理方法を適用することによって形成された
被処理材9の処理面を第4図に示す。被処理材9は矢印
の方向に移動するように設定されている。また実線20
と破線21は被処理材9の移動と同期されて照射される
レーザビーム2のスポット形状を示し■,■,■・・・
の順序で照射されるものとする。また、■は1回目のビ
ーム走査ライン、■は2回目のビーム走査ラインを示す
。
被処理材9の処理面を第4図に示す。被処理材9は矢印
の方向に移動するように設定されている。また実線20
と破線21は被処理材9の移動と同期されて照射される
レーザビーム2のスポット形状を示し■,■,■・・・
の順序で照射されるものとする。また、■は1回目のビ
ーム走査ライン、■は2回目のビーム走査ラインを示す
。
上記のおいて第4図中の,■,・・・の照射は第3図(
C)で示した焼入れモード(焼入れ硬化)の照射であり
、■,■・・・の照射は第3図(A)で示した穴あけモ
ード(ピット形成)の照射である。このように、被処理
材9の移動に適宜に同期させて集光レンズ5を上下に繰
り返し移動させることにより焼入れ硬化21とピット形
成20とを交互に連続的に被処理材9の表面に形成する
。焼入れと穴あけとの間、すなわち集光レンズ5の上下
動作の中間では第3図(B)に示された溶融モードがあ
り、このままの状態では被処理材9の表面が溶融再凝固
して表面品質が低下する。そこで、当該中間過程ではビ
ームシャッタ3を閉状態にして表面へのビーム照射を中
断する。以上の処理が繰り返し行われて走査ラインIに
ついて終了すると、次に走査ラインを■に移し、同様に
上記の処理作業を行う。このようにして、被処理材9に
は焼入れ硬化された表面に多数の微細なピットが形成さ
れることになる。
C)で示した焼入れモード(焼入れ硬化)の照射であり
、■,■・・・の照射は第3図(A)で示した穴あけモ
ード(ピット形成)の照射である。このように、被処理
材9の移動に適宜に同期させて集光レンズ5を上下に繰
り返し移動させることにより焼入れ硬化21とピット形
成20とを交互に連続的に被処理材9の表面に形成する
。焼入れと穴あけとの間、すなわち集光レンズ5の上下
動作の中間では第3図(B)に示された溶融モードがあ
り、このままの状態では被処理材9の表面が溶融再凝固
して表面品質が低下する。そこで、当該中間過程ではビ
ームシャッタ3を閉状態にして表面へのビーム照射を中
断する。以上の処理が繰り返し行われて走査ラインIに
ついて終了すると、次に走査ラインを■に移し、同様に
上記の処理作業を行う。このようにして、被処理材9に
は焼入れ硬化された表面に多数の微細なピットが形成さ
れることになる。
第4図に示された実施例では、レーザビーム2の断面の
形状が円形であるが、例えば第1図で示した構成におい
てペンディングミラー4と集光レンズ5との間に角穴を
有したマスク部材を配設することにより被処理材9に照
射されるレーザビーム2の形状を角穴形状にすることも
できる。
形状が円形であるが、例えば第1図で示した構成におい
てペンディングミラー4と集光レンズ5との間に角穴を
有したマスク部材を配設することにより被処理材9に照
射されるレーザビーム2の形状を角穴形状にすることも
できる。
以上の説明で明らかなように、本発明によれば次の効果
を得ることができる。
を得ることができる。
レーザビームを熱源とし、レーザビームを被処理材に照
射しつつ集光レンズを上下動させ且つビームシャッタを
開閉させ、被処理材の表面におけるパワー密度を制御し
てピット形成、焼入れ硬化を行うようにしたため、ピッ
トの直径や深さなどを微細のものに調整することができ
、摺動条件に応じた任意のピット密度、ピット径を実現
することができる。ピットを1つ1つ独立して形戊する
ことができるので、プラズマガウジング法に比較して潤
滑特性の再現性が良い。またレーザビームを使用してい
るため、微細の処理を行うことができ、精密且つ小型の
物品の処理に好適であると共に、狭隘な部位に照射する
こともでき、そのため複雑な形状を有する物品にも容易
に適用することができる。
射しつつ集光レンズを上下動させ且つビームシャッタを
開閉させ、被処理材の表面におけるパワー密度を制御し
てピット形成、焼入れ硬化を行うようにしたため、ピッ
トの直径や深さなどを微細のものに調整することができ
、摺動条件に応じた任意のピット密度、ピット径を実現
することができる。ピットを1つ1つ独立して形戊する
ことができるので、プラズマガウジング法に比較して潤
滑特性の再現性が良い。またレーザビームを使用してい
るため、微細の処理を行うことができ、精密且つ小型の
物品の処理に好適であると共に、狭隘な部位に照射する
こともでき、そのため複雑な形状を有する物品にも容易
に適用することができる。
第1図は本発明に係る表面処理装置の全体構成図、第2
図はレーザビームのパワー密度と処理作業の関係を示す
説明図、第3図は被処理材の表面におけるレーザビーム
のスポットの大きさと処理作業との関係を説明するため
の説明図、第4図は本発明に係る表面処理装置による表
面処理の状態を示す被処理材の表面図、第5図は従来の
プラズマガウジング法を説明するための斜視図である。 〔符号の説明〕 1・・・・・・レーザ発振器 2・・●・・・レーザビーム 3・・●・・・ビームシャッタ 4・・・・・・ペンディングミラー 5・・・・・・集光レンズ 6・・・・・・駆動装置 7●◆●・●●Xテーブル 8・・・・・・yテーブル 9・・・・・・被処理材 10・・・・・コントローラ
図はレーザビームのパワー密度と処理作業の関係を示す
説明図、第3図は被処理材の表面におけるレーザビーム
のスポットの大きさと処理作業との関係を説明するため
の説明図、第4図は本発明に係る表面処理装置による表
面処理の状態を示す被処理材の表面図、第5図は従来の
プラズマガウジング法を説明するための斜視図である。 〔符号の説明〕 1・・・・・・レーザ発振器 2・・●・・・レーザビーム 3・・●・・・ビームシャッタ 4・・・・・・ペンディングミラー 5・・・・・・集光レンズ 6・・・・・・駆動装置 7●◆●・●●Xテーブル 8・・・・・・yテーブル 9・・・・・・被処理材 10・・・・・コントローラ
Claims (1)
- (1)被処理材の表面を処理するために前記被処理材に
対してレーザビームを照射するレーザ発振器と、前記レ
ーザビームの進行を許可又は遮断する開閉動作を行うビ
ームシャッタと、前記被処理材の前記表面に前記レーザ
ビームを集光させる集光レンズと、この集光レンズの位
置を変更し、前記被処理材の前記表面における前記レー
ザビームのパワー密度を変更させる駆動手段と、前記被
処理材の移動に同期させて前記ビームシャッタの開閉動
作と前記駆動手段のパワー密度変更動作を制御し、前記
被処理材の前記表面にピットと焼入れ硬化部を交互に連
続的に形成させる制御手段とからなることを特徴とする
レーザビーム式表面処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000244A JPH03207809A (ja) | 1990-01-05 | 1990-01-05 | レーザビーム式表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000244A JPH03207809A (ja) | 1990-01-05 | 1990-01-05 | レーザビーム式表面処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03207809A true JPH03207809A (ja) | 1991-09-11 |
Family
ID=11468542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000244A Pending JPH03207809A (ja) | 1990-01-05 | 1990-01-05 | レーザビーム式表面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03207809A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005032756A1 (de) * | 2003-09-16 | 2005-04-14 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum glätten und polieren oder zum strukturieren von oberflächen mit modulierter laserstrahlung |
| JP2016055303A (ja) * | 2014-09-08 | 2016-04-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | コンフォーマルマスク材料のレーザ加工方法 |
| JP2024025855A (ja) * | 2022-08-15 | 2024-02-28 | トーカロ株式会社 | 鉄鋼材料の粗面化方法 |
-
1990
- 1990-01-05 JP JP2000244A patent/JPH03207809A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005032756A1 (de) * | 2003-09-16 | 2005-04-14 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum glätten und polieren oder zum strukturieren von oberflächen mit modulierter laserstrahlung |
| JP2016055303A (ja) * | 2014-09-08 | 2016-04-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | コンフォーマルマスク材料のレーザ加工方法 |
| JP2024025855A (ja) * | 2022-08-15 | 2024-02-28 | トーカロ株式会社 | 鉄鋼材料の粗面化方法 |
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