JPH03209254A - Automatic developing machine - Google Patents
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- JPH03209254A JPH03209254A JP392890A JP392890A JPH03209254A JP H03209254 A JPH03209254 A JP H03209254A JP 392890 A JP392890 A JP 392890A JP 392890 A JP392890 A JP 392890A JP H03209254 A JPH03209254 A JP H03209254A
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は感光材料へ処理液を供給し処理すると共に余剰
の処理液を回収槽内へ回収して循環手段により処理液を
再度感光材料へ供給して処理する自動現像機に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention supplies a processing liquid to a photosensitive material, processes it, collects the excess processing liquid into a recovery tank, and uses a circulation means to supply the processing liquid to the photosensitive material again. It relates to an automatic developing machine that supplies and processes.
[従来の技術]
従来、自動現像機においては、スクイズローラ等によっ
て回収された処理液は、回収槽へ収容されるようになっ
ており、回収槽へ収容された処理液は循環手段により再
び感光材料へ塗布されるようになっている。[Prior Art] Conventionally, in an automatic developing machine, processing liquid collected by a squeeze roller or the like is stored in a collection tank, and the processing liquid stored in the collection tank is exposed to light again by a circulation means. It is designed to be applied to the material.
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、この自動現像機においては、回収した処
理液が回収槽内で発泡して液面上へ浮遊しており、この
泡は、処理液が循環手段により再び感光材料の表面へ供
給される際に、処理液と一緒に感光材料の表面へ供給さ
れる。このため、感光材料の表面に処理液が均一に塗布
できないという不具合があった。[Problems to be Solved by the Invention] However, in this automatic processor, the collected processing liquid foams in the recovery tank and floats on the liquid surface, and these bubbles are removed when the processing liquid is recirculated by the circulation means. When supplied to the surface of the photosensitive material, it is supplied to the surface of the photosensitive material together with the processing liquid. For this reason, there was a problem that the processing liquid could not be uniformly applied to the surface of the photosensitive material.
本発明は上記事実を考慮し、処理液の液面上に浮遊して
いる泡等の浮遊物が処理液と一緒に感光材料の表面へ供
給されることを防止することができる自動現像機を提供
すること7が目的である。In consideration of the above facts, the present invention provides an automatic developing machine that can prevent floating objects such as bubbles floating on the surface of the processing solution from being supplied to the surface of the photosensitive material together with the processing solution. The purpose is to provide7.
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するため本発明では、感光材料へ処理液
を供給し処理すると共に余剰の処理液を回収槽内へ回収
して循環手段により処理液を再度感光材料へ供給して処
理する自動現像機であって、先端部が回収槽内に回収さ
れた処理液の液面から突出するように前記回収槽内に設
けられ先端部に処理液流入口が形成されたオバーフロー
液回収手段と、前記オーバーフロー液回収手段の先端部
に被せられ下端部が回収槽内に回収された処理液の液面
より下方へ延設された浮遊物流入防止手段と、を設けた
ことを特徴としている。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention supplies a processing liquid to a photosensitive material and processes it, collects the excess processing liquid into a recovery tank, and uses the circulation means to expose the processing liquid again. An automatic developing machine that supplies and processes materials, the tip of which is installed in the recovery tank so as to protrude from the surface of the processing liquid collected in the recovery tank, and has a processing liquid inlet formed at the tip. an overflow liquid recovery means, and a suspended matter inflow prevention means that is placed over the tip of the overflow liquid recovery means and whose lower end extends downward from the liquid level of the processing liquid collected in the recovery tank. It is characterized by
[作用]
上記構成の本発明によれば、回収槽内の処理液の液面が
上昇した場合には、回収槽内の処理液はオバーフロー液
回収手段の先端部に形成された処理液流入口からオバー
フロー液回収手段へ流入する。この場合、浮遊物流入防
止手段の下端部は回収槽内に回収された処理液の液面よ
り下方へ延設さている。このため回収槽内の処理液の液
面上に浮遊する泡等の浮遊物は、泡流入防止手段により
オバーフロー液回収手段の先端部の処理液流入口へは到
達しない。従って、浮遊物がオバーフロー液回収手段へ
流入することを防止でき、浮遊物が処理液と一緒に感光
材料の表面へ供給されることを防止することができる。[Function] According to the present invention having the above configuration, when the liquid level of the processing liquid in the recovery tank rises, the processing liquid in the recovery tank flows through the processing liquid inlet formed at the tip of the overflow liquid recovery means. The overflow liquid then flows into the overflow liquid recovery means. In this case, the lower end of the floating matter inflow prevention means extends below the level of the processing liquid collected in the collection tank. Therefore, floating substances such as bubbles floating on the surface of the processing liquid in the recovery tank do not reach the processing liquid inlet at the tip of the overflow liquid recovery means due to the bubble inflow prevention means. Therefore, the floating matter can be prevented from flowing into the overflow liquid recovery means, and the floating matter can be prevented from being supplied to the surface of the photosensitive material together with the processing liquid.
[実施例コ
第3図には本発明に係る自動現像機としての水なし平版
印刷版現像装置12゛の実施例が示されている。この水
なし平版印刷版現像装置12は現像部14と染色部16
からなり、水なしPS版11を現像処理した後に、検版
作業を容易にするための染色処理を行う装置である。[Embodiment] FIG. 3 shows an embodiment of a waterless lithographic printing plate developing device 12' as an automatic developing machine according to the present invention. This waterless lithographic printing plate developing device 12 includes a developing section 14 and a dyeing section 16.
After the waterless PS plate 11 has been developed, it is a device that performs a staining process to facilitate the plate inspection work.
ここで使用される水なしPS版11は特願昭63−86
177で提案された、基板上に、ブライマー層、感光層
、シリコーンゴム層、保護フィルムが順次積層されたも
のが使用される。The waterless PS plate 11 used here is a patent application made in 1986-86.
177, in which a brimer layer, a photosensitive layer, a silicone rubber layer, and a protective film are sequentially laminated on a substrate is used.
また現像部14で使用される現像液18は特願昭62−
317843、特願昭63−86177で提案された有
機溶剤が含有された水系現像液が利用されている。Further, the developer 18 used in the developing section 14 is
317843, an aqueous developer containing an organic solvent proposed in Japanese Patent Application No. 63-86177 is used.
また染色部16で使用される染色液17としては、クリ
スタルバイオレット、アストラゾンレッド等を含む染色
液17が用いられている。The staining solution 17 used in the staining section 16 includes crystal violet, astrazone red, and the like.
現像部14の現像槽本体20は、上方に向けて開口し、
底部が逆山形状に形成されて底部中央部に現像液回収槽
22が形成されている。現像液回収槽22内には現像液
18が収容される。The developer tank body 20 of the developer section 14 opens upward,
The bottom is formed in an inverted mountain shape, and a developer recovery tank 22 is formed in the center of the bottom. The developer 18 is contained in the developer recovery tank 22 .
また、現像槽本体20の上部には、水なしPS版11の
入側から順に搬送ローラ対24.26及びスクイズロー
ラ対28が配置されている。搬送ローラ対24.26及
びスクイズローラ対28は、図示しないラック側板に支
持され、図示しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転
し、水なしPS版11を第3図の右方(第3図の矢印六
方向)へ挟持搬送する。Further, in the upper part of the developer tank main body 20, a pair of transport rollers 24, 26 and a pair of squeeze rollers 28 are arranged in order from the entrance side of the waterless PS plate 11. The transport roller pair 24, 26 and the squeeze roller pair 28 are supported by a rack side plate (not shown), and are rotated by the driving force of a driving means (not shown), and move the waterless PS plate 11 to the right side in FIG. Nip and convey in the six directions of arrows in the figure).
またスクイズローラ対28は、現像部14内の水なしP
S版11の搬送経路の最後部に配置されて水なしPS版
11から現像液を絞り取るようになっている。Further, the squeeze roller pair 28 is configured to squeeze the water-free P in the developing section 14.
It is arranged at the rear end of the conveyance path of the S plate 11 to squeeze out the developer from the waterless PS plate 11.
第3図に示される如く、搬送ローラ対26とスクイズロ
ーラ対28との間にはブラシローラ10が配置されてい
る。このブラシローラ10は、搬送される水なしPS版
11の版面上を擦ることによって版面上の画像部に相当
する感光層及びシリコーン層を掻き取るためのものであ
る。As shown in FIG. 3, a brush roller 10 is disposed between the conveyance roller pair 26 and the squeeze roller pair 28. This brush roller 10 is for scraping off the photosensitive layer and silicone layer corresponding to the image area on the plate surface by rubbing the surface of the waterless PS plate 11 being conveyed.
またブラシローラ10も搬送ローラ対24.26及びス
クイズローラ対28と同様に図示しない側板に支持され
、図示しない駆動手段の駆動力が伝達されて、搬送ロー
ラ対24.26及びスクイズローラ対28の回転方向と
同一方向(第3図反時計方向)へ回転する。The brush roller 10 is also supported by a side plate (not shown) in the same manner as the pair of conveyance rollers 24.26 and the pair of squeeze rollers 28, and the driving force of a drive means (not shown) is transmitted to the pair of conveyance rollers 24.26 and the pair of squeeze rollers 28. Rotates in the same direction as the rotation direction (counterclockwise in Figure 3).
このブラシローラ10は水なしPS版11の搬送方向に
対して同一方向(第3図反時計方向)へ回転することで
水なしPS版11の表面を擦るようになっている。また
場合によっては、水なし28版の搬送方向に対して抵抗
する方向に回転しても良い。このブラシローラ10の回
転数は100〜500rpm(好ましくは200〜40
0rpm)に設定されている。場合によっては、水なし
PS版ケラレ防止レバーを設置することが好ましい。This brush roller 10 is adapted to rub the surface of the waterless PS plate 11 by rotating in the same direction (counterclockwise in FIG. 3) with respect to the transport direction of the waterless PS plate 11. Further, depending on the case, it may be rotated in a direction that resists the conveying direction of the waterless 28 plate. The rotation speed of this brush roller 10 is 100 to 500 rpm (preferably 200 to 40 rpm).
0rpm). In some cases, it is preferable to install a waterless PS version vignetting prevention lever.
またブラシローラ10は、回転すると共に軸方向へ往復
移動させることによって、より水なし28版11の版面
上の感光層及びシリコーン層を掻き取る効果が向上する
。Further, by rotating the brush roller 10 and reciprocating it in the axial direction, the effect of scraping off the photosensitive layer and silicone layer on the plate surface of the waterless 28 plate 11 is further improved.
ブラシローラ10の下部にはプラスチック等の比較的柔
軟な材質例えば高密度ポリエチレンで形成された受は台
40が配置されている。水なし28版11がこの通路を
通過する際は、受は台40上で水なし28版11が支持
されながら、ブラシローラ10によって表面が擦られて
、画像部に相当する感光層及びシリコーン層が確実に掻
き取られるようになっている。ブラシローラ10の下部
の受けは場合によってはローラでも良い。A support 40 made of a relatively flexible material such as plastic, for example high-density polyethylene, is disposed below the brush roller 10. When the waterless 28 plate 11 passes through this passage, the surface of the receiver is rubbed by the brush roller 10 while the waterless 28 plate 11 is supported on the stand 40, and the photosensitive layer and silicone layer corresponding to the image area are rubbed. is ensured to be scraped off. The lower part of the brush roller 10 may be a roller depending on the case.
搬送ローラ対24の上方にはスプレーパイプ42が配置
されている。このスプレーパイプ42には、搬送ローラ
対24の上側のローラに対向して吐出口42Aが軸方向
に沿って適当な間隔で設けられている。このスプレーパ
イプ42はバルブ44を介して管路46で後述する現像
液供給装置と連通されている。A spray pipe 42 is arranged above the transport roller pair 24. This spray pipe 42 is provided with discharge ports 42A at appropriate intervals along the axial direction, facing the upper roller of the pair of transport rollers 24. This spray pipe 42 is connected via a valve 44 to a developer supply device, which will be described later, through a conduit 46.
これによってスプレーパイプ42へは現像液18が送り
こまれ、搬送ローラ対24の上側のローラへ現像液を吐
出して、水なしPS版11上へ現像液が塗布される。As a result, the developer 18 is fed into the spray pipe 42, and is discharged to the upper roller of the transport roller pair 24, so that the developer is applied onto the waterless PS plate 11.
また搬送ローラ対26とスクイズローラ対28との間に
もスプレーパイプ48.50が配置されている。スプレ
ーパイプ48はブラシローラ10と搬送ローラ対26と
の間に配置されており、前記スプレーパイプ42と同様
に吐出口48Aが形成されている。スプレーパイプ48
の吐出口48Aはブラシローラ10に対向して設けられ
ている。Spray pipes 48, 50 are also arranged between the pair of transport rollers 26 and the pair of squeeze rollers 28. The spray pipe 48 is disposed between the brush roller 10 and the conveying roller pair 26, and has a discharge port 48A formed therein similarly to the spray pipe 42. spray pipe 48
The discharge port 48A is provided facing the brush roller 10.
このスプレーパイプ48もスプレーパイプ42と同様に
バルブ44を介して管路46から分岐している管路で後
述する現像液補充装置と連通されている。これによって
スプレーパイプ48へは現像液が送りこまれ、ブラシロ
ーラ10へ現像液18を吐出し、供給する。Like the spray pipe 42, this spray pipe 48 is also connected to a developer replenishing device, which will be described later, via a valve 44 through a pipe line branching from the pipe line 46. As a result, the developer is fed into the spray pipe 48, and the developer 18 is discharged and supplied to the brush roller 10.
またスプレーパイプ50は、スクイズローラ対28の上
側のローラに対向して、吐出口50Aが形成されている
。このスプレーパイプ50もノイルブ44を介して管路
46から分岐している管路で後述する現像液補充装置と
連通されている。これによってスプレーパイプ48へ現
像液18が送りこまれ、スクイズローラ対28の上側の
ローラへ現像液18を吐出する。Further, the spray pipe 50 has a discharge port 50A formed opposite to the upper roller of the squeeze roller pair 28. This spray pipe 50 also communicates with a developer replenishment device, which will be described later, through a pipe line branching from the pipe line 46 via the noil valve 44. As a result, the developer 18 is fed into the spray pipe 48 and is discharged to the upper roller of the squeeze roller pair 28.
搬送ローラ対26からブラシローラ10の上部に掛けて
、断面形状が略コ字状のカバー52が配置されている。A cover 52 having a substantially U-shaped cross section is disposed to extend from the conveying roller pair 26 to the upper part of the brush roller 10 .
このカバー52はブラシローラlOによる現像液18の
他への層数を防止している。This cover 52 prevents the brush roller 1O from spreading the developer 18 to other layers.
管路46は循環ポンプ54の吐出側へ連通されており、
吸い込み口側には管路56の一端が連通されている。管
路56の他端56Aは途中にバルブ58を介して現像液
回収槽22の内部に達している。The pipe line 46 is connected to the discharge side of the circulation pump 54,
One end of a conduit 56 is communicated with the suction port side. The other end 56A of the pipe line 56 reaches the inside of the developer recovery tank 22 via a valve 58 in the middle.
第1図及び第2図に示される如く、管路56の現像液回
収槽22内の先端部30は、オバーフロー液回収手段と
されており、この先端部30には上側から処理液流入口
としての矩形状の切欠31が略等間隔で3個形成されて
いる。なおこの処理液流入口の形状は円等の他の形状と
してもよく、個数も任意に決定してよい。As shown in FIGS. 1 and 2, the tip 30 of the pipe line 56 in the developer recovery tank 22 is used as an overflow liquid recovery means, and the tip 30 is connected from above as a processing liquid inlet. Three rectangular notches 31 are formed at approximately equal intervals. Note that the shape of the processing liquid inlet may be other shapes such as a circle, and the number thereof may be determined arbitrarily.
また、管路56の現像液回収槽22内の先端部30には
泡流入防止手段としてのカバー32が固着されている。Further, a cover 32 is fixed to the tip end 30 of the conduit 56 inside the developer recovery tank 22 as a means for preventing bubbles from flowing in.
このカバー32は円筒状とされ、上端部32Aが閉塞さ
れたキャップ型とされており、下端部32Bは現像液1
8の液面37より下方まで延設されている。This cover 32 has a cylindrical shape, has a cap shape with an upper end 32A closed, and a lower end 32B that is closed with a closed end 32A.
It extends below the liquid level 37 of 8.
従って、現像液18の液面が昇降し、切欠31の高さを
越えた場合にはく液面34の状態)、切欠31から現像
液18は流入するが、液面上に浮遊する泡35は、カバ
ー32によって切欠31から管路56内への流入を阻止
される。またカバー32の下端部32Bは、現像液18
の液面37より下方まで延設されているため、現像液1
8の液面が下がった場合にも泡35が切欠31から管路
56内へ侵入することはない。Therefore, when the liquid level of the developer 18 rises and falls and exceeds the height of the notch 31 (state of the liquid level 34), the developer 18 flows from the notch 31, but bubbles 35 floating on the liquid surface is prevented from flowing into the conduit 56 from the notch 31 by the cover 32. Further, the lower end 32B of the cover 32 is connected to the developer 18.
Because it extends below the liquid level 37 of the developer 1
Even if the liquid level of the tube 8 drops, the bubbles 35 will not enter into the pipe line 56 from the notch 31.
第3図に示される如く、循環ポンプ54の作動によって
、現像液回収槽22内の現像液18が管路56を通って
、循環ポンプ54に吸い込まれ、管路46を通ってスプ
レーバイブ42.48.50へ送られる。As shown in FIG. 3, by the operation of the circulation pump 54, the developer 18 in the developer recovery tank 22 is sucked into the circulation pump 54 through the pipe line 56, and is passed through the pipe line 46 into the spray vibrator 42. Sent to 48.50.
管路46の途中には流量センサ60が配設されており、
管路46内を通過する現像液18の流量を検出する。A flow rate sensor 60 is disposed in the middle of the pipe line 46,
The flow rate of the developer 18 passing through the pipe line 46 is detected.
また流量センサ60と循環ポンプ54の間にはバイパス
管路62が設けられており、この管路62の途中にはイ
ンピーダンス検出器64が配設されている。このインピ
ーダンス検出器64は管路62を通る現像液18のイン
ピーダンスを検出する。このインピーダンス検出器64
は、一般公知のセンサが用いられている。Further, a bypass line 62 is provided between the flow rate sensor 60 and the circulation pump 54, and an impedance detector 64 is provided in the middle of this line 62. This impedance detector 64 detects the impedance of the developer 18 passing through the conduit 62. This impedance detector 64
A generally known sensor is used.
管路56の途中にはフィルタ66が配設されており、管
路48内を通る現像液中のかす(主に水なしPS版11
の表面から擦り取った感光層、シリコーン層からの現像
かす)を濾過する。A filter 66 is disposed in the middle of the conduit 56, and filters the residue (mainly waterless PS plate 11) in the developer passing through the conduit 48.
The photosensitive layer and development residue from the silicone layer that have been scraped off the surface of the photosensitive layer are filtered.
管路56の途中から分岐管路68が分岐しており、バル
ブ70を介してオーバーフロー槽72と連通されている
。オーバーフロー槽72は現像液回収槽22の側部に配
設されており、現像液回収槽22の隔壁に設けられ、現
像液面に沿う長孔74によって現像液回収槽22と連通
されている。A branch pipe line 68 branches off from the middle of the pipe line 56 and communicates with an overflow tank 72 via a valve 70. The overflow tank 72 is disposed on the side of the developer recovery tank 22, is provided on a partition wall of the developer recovery tank 22, and communicates with the developer recovery tank 22 through a long hole 74 along the developer surface.
これによって現像液回収槽22内の現像液18の表層部
が、現像液回収槽22の下部隔壁22Aの上端部を乗り
越えてオーバーフロー槽72内へ流れ込む。オバーフロ
ー槽72内への現像液18のオーバーフロー流量は、全
循環量の1/10〜8/工0 (好ましくは1/3〜2
/3)とされている。As a result, the surface layer of the developer 18 in the developer recovery tank 22 flows over the upper end of the lower partition wall 22A of the developer recovery tank 22 into the overflow tank 72. The overflow flow rate of the developer 18 into the overflow tank 72 is 1/10 to 8/hour (preferably 1/3 to 2) of the total circulation amount.
/3).
また上部隔壁22Bは、後述する現像供給先装置によっ
て現像液が補充され、現像液18の液面が上昇した場合
に、オーバーフロー槽72内に一旦捕集された現像かす
か現像液回収槽22内へ広がらないようにしている。Furthermore, when the developer is replenished by the developer supply destination device described later and the liquid level of the developer 18 rises, the upper partition wall 22B allows the developer residues once collected in the overflow tank 72 to flow into the developer recovery tank 22. I'm trying not to spread it.
オーバーフロー槽72は第3図に示されるように上方が
開口されて開口部が形成され、蓋76で開閉されるよう
になってあり、オバーフロー槽72内のメンテナンス時
には開口部から取り外される。オーバーフローI’!’
72の側壁78の上部は傾斜して傾斜壁78Aが形成さ
れている。この側壁78の下部を貫通して分岐管路68
が連通されており、循環ポンプ54の作動によってオー
バーフ、ロー槽72内の現像液18が吸引される。この
吸引によって、傾斜壁78Aに沿って矢印B方向への現
像液18の流れが形成される。また循環ポンプ54の吸
引によって現像液回収槽22内の現像液18の表層部が
オーバーフロー槽72内へ流し込み、現像液回収槽22
内の現像液に浮遊している現像かすかオーバーフロー槽
72内へ流れ込んで、現像かすか捕集され、傾斜壁78
Aによる流れによって管路68内へ送りこまれる。この
場合水なしPS版11の表面にはインキ反撥用としてシ
リコーンゴム層が積層されており、このシリコーンゴム
層は画像部に相当する感光層と共にブラシローラ10に
よって掻き取られると、現像かすとなって余剰の現像液
と共に現像液回収槽22内へ回収される。現像液回収槽
22内の現像液中では、現像かすの比重が現像液より低
いため現像液180表層部へ浮遊する。また上部隔壁2
2Bは一旦オーバーフロー槽72へ捕集された現像かす
が現像液回収槽22内へ広がらないように、いわゆる堰
の役目をしている。As shown in FIG. 3, the overflow tank 72 has an opening formed at the top and is opened and closed with a lid 76, which is removed from the opening when maintenance is performed inside the overflow tank 72. Overflow I'! '
The upper part of the side wall 78 of 72 is inclined to form an inclined wall 78A. The branch pipe 68 passes through the lower part of this side wall 78.
are in communication with each other, and the developer 18 in the overflow and low tank 72 is sucked by the operation of the circulation pump 54. This suction causes the developer 18 to flow in the direction of arrow B along the inclined wall 78A. In addition, the surface layer of the developer 18 in the developer recovery tank 22 flows into the overflow tank 72 due to the suction of the circulation pump 54, and the developer recovery tank 22
The developer scum floating in the developer inside flows into the overflow tank 72 and is collected by the inclined wall 78.
The flow caused by A sends it into the conduit 68. In this case, a silicone rubber layer is laminated on the surface of the waterless PS plate 11 for ink repellency, and when this silicone rubber layer is scraped off by the brush roller 10 together with the photosensitive layer corresponding to the image area, it becomes development residue. The developer is collected into the developer recovery tank 22 along with the excess developer. In the developer in the developer recovery tank 22, the developer scum floats to the surface layer of the developer 180 because its specific gravity is lower than that of the developer. Also, upper partition wall 2
2B serves as a so-called weir to prevent the developer residue once collected in the overflow tank 72 from spreading into the developer recovery tank 22.
またオーバーフロー槽72内にはオーバーフロー管80
が配設されている。このオーバーフロー管80の下端部
はオーバーフロー槽72の底部を貫通して外方へ突出し
ており、上端部は、現像液回収槽22の上部隔壁22B
の上端部より高く設定されている。このため、後述する
現像液補給装置によって現像液18が補充されて、現像
液回収槽22内の現像液18の液面が上昇すると、オー
バー70槽72内の現像液18の表層部が、現像かすと
共にオーバーフロー管80によって外方へ流れ出す。Also, an overflow pipe 80 is provided in the overflow tank 72.
is installed. The lower end of this overflow pipe 80 penetrates the bottom of the overflow tank 72 and protrudes outward, and the upper end extends through the upper partition wall 22B of the developer recovery tank 22.
It is set higher than the top of the. Therefore, when the developer 18 is replenished by the developer replenishment device described later and the level of the developer 18 in the developer recovery tank 22 rises, the surface layer of the developer 18 in the over 70 tank 72 is Together with the dregs, it flows outward through an overflow pipe 80.
現像液補給装置は現像原液が収容された現像原液タンク
82と、水が収容された水タンク84と、現像原液を現
像液回収槽22内へ供給するための現像原液供給ポンプ
86と、水を現像液回収槽22内へ供給するための水供
給ポンプ88とで構成されている。The developer replenishment device includes a developer solution tank 82 containing a developer solution, a water tank 84 containing water, a developer solution supply pump 86 for supplying the developer solution into the developer recovery tank 22, and a developer solution supply pump 86 for supplying the developer solution into the developer recovery tank 22, and a developer solution supply pump 86 for supplying the developer solution to the developer recovery tank 22. It is composed of a water supply pump 88 for supplying water into the developer recovery tank 22.
現像原液タンク82には管路90の一端が連通されてお
り、他端は現像液回収槽22内に配設された広口管路9
2へ開口している。この管路90の途中に現像原液供給
ポンプ86が配設されている。One end of a pipe line 90 is connected to the developer stock tank 82, and the other end is connected to a wide-mouth pipe line 9 disposed in the developer recovery tank 22.
It opens to 2. A developing solution supply pump 86 is disposed in the middle of this pipe line 90.
水タンク84は管路94の一端が連通されており、他端
は現像液回収槽22内の広口管路92へ開口している。The water tank 84 is connected to one end of a pipe line 94, and the other end opens to a wide-mouth pipe line 92 in the developer recovery tank 22.
この管路94の途中には水供給ポンプ88が配設されて
いる。A water supply pump 88 is disposed in the middle of this pipe line 94.
また現像液回収槽22内の底部にはヒータ98が配置さ
れている。このヒータ98は図示しない電源と接続され
て、現像液18を加熱するようになっている。このヒー
タ98によって現像液18の温度は15°〜45° (
好ましくは25°〜30°)に設定されている。Further, a heater 98 is arranged at the bottom of the developer recovery tank 22 . This heater 98 is connected to a power source (not shown) to heat the developer 18. The temperature of the developer 18 is controlled by this heater 98 from 15° to 45° (
It is preferably set at 25° to 30°).
また本装置の現像時間は、10秒〜3分く好ましくは3
0秒〜2分)に設定されており、染色時間は、5秒〜1
分(好ましくは10秒〜30秒)に設定されている。The developing time of this device is 10 seconds to 3 minutes, preferably 3 minutes.
0 seconds to 2 minutes), and the staining time is 5 seconds to 1 minute.
minutes (preferably 10 seconds to 30 seconds).
次に染色部16について説明する。Next, the dyeing section 16 will be explained.
染色部16の染色槽本体100は現像槽本体20と同様
に上方に向けて開口し、底部が逆山形状に形成されて底
部中央部に染色液回収槽102が形成されている。染色
液回収槽102内には染色液17が収容される。染色液
回収槽102内にはオーバーフロー管104が配置され
ている。このオーバーフロー管104の上端は染色液回
収槽10・2内の上部に位置しており、下端は、染色液
回収槽102の底部を貫通して外方に突出している。The dye tank main body 100 of the dyeing section 16 opens upward like the developer tank main body 20, has an inverted mountain-shaped bottom, and has a dye solution recovery tank 102 formed in the center of the bottom. A staining liquid 17 is accommodated in the staining liquid recovery tank 102 . An overflow pipe 104 is disposed within the dye solution recovery tank 102 . The upper end of this overflow pipe 104 is located at the upper part of the dye solution recovery tank 10, 2, and the lower end penetrates the bottom of the dye solution recovery tank 102 and projects outward.
このオーバーフロー管104は、後述する染色液補充装
置による染色液の補充によって、染色液回収槽102内
の液面が上昇して、オーバーフロー管104の上端を越
えると染色液17を染色液回収槽102内から外方へ排
出し、染色液17の液面高さを設定している。This overflow pipe 104 causes the dye solution 17 to be transferred to the dye solution collection tank 102 when the liquid level in the dye solution collection tank 102 rises and exceeds the upper end of the overflow pipe 104 due to replenishment of the dye solution by a dye solution replenishment device to be described later. The liquid level height of the staining liquid 17 is set by discharging from the inside to the outside.
染色槽本体100の上部には、水なし23版11の搬送
方向に沿って、水なし23版11の染色槽本体100へ
の入側から順次搬送ローラ対106及びスクイズローラ
対108が配置されている。At the top of the dyeing tank main body 100, a pair of transport rollers 106 and a pair of squeeze rollers 108 are arranged in order from the entrance side of the 23rd waterless version 11 into the dyeing tank main body 100 along the transport direction of the 23rd waterless version 11. There is.
搬送ローラ対106は図示しないラック側板に支持され
、スクイズローラ対108はスクイズローラ対28と同
様なローラ支持構造によって支持され、図示しない駆動
手段の駆動力が伝達されて回転し、水なし23版11を
挟持搬送する。これらの搬送ローラ対106及びスクイ
ズローラ対108は一般的なゴム材質で成形されており
、搬送する水なし23版11の表面を傷付けないように
なっている。The transport roller pair 106 is supported by a rack side plate (not shown), and the squeeze roller pair 108 is supported by a roller support structure similar to that of the squeeze roller pair 28, and is rotated by being transmitted with the driving force of a driving means (not shown). 11 is held and conveyed. These transport roller pair 106 and squeeze roller pair 108 are made of a general rubber material so as not to damage the surface of the waterless 23 plate 11 being transported.
染色槽本体100の、水なし23版11の搬送方向下流
側にはスクイズローラ対109が配置されている。この
スクイズローラ対109は、ロール材質がNBRゴムに
トリルブタジェンラバー)等で形成されており、染色液
17の拭き取り性が向上されている。A pair of squeeze rollers 109 is arranged on the downstream side of the dyeing tank main body 100 in the conveyance direction of the waterless 23rd plate 11. The squeeze roller pair 109 is made of a roll material such as NBR rubber or tolyl butadiene rubber, and the wipeability of the dyeing solution 17 is improved.
搬送ローラ対106とスクイズローラ対108との間に
はブラシローラ120が配置されている。A brush roller 120 is arranged between the transport roller pair 106 and the squeeze roller pair 108.
ブラシローラ120も搬送ローラ対106と同様に図示
しない側板に支持され、図示しない駆動手段の駆動力が
伝達されて、搬送ローラ対106の回転方向と逆方向(
第3図時計方向)へ回転する。Like the transport roller pair 106, the brush roller 120 is also supported by a side plate (not shown), and the driving force of a drive means (not shown) is transmitted to rotate the brush roller 120 in the direction opposite to the rotational direction of the transport roller pair 106 (
(clockwise in Figure 3).
このブラシローラ120は前述したブラシローラ10と
同構成で、水なし23版11の搬送方向に対して抵抗す
る方向(第3図時計方向)へ回転することで水なし23
版11の表面を擦るようになっている。場合によっては
、水なし23版11の搬送方向に対して順方向へ回転し
ても良い。ブラシローラ120の回転数は100〜50
0rpm(好ましくは200〜400rpm)に設定さ
れている。さらに場合によっては水なしPS版11ケラ
レ防止レバーを設置することが好ましい。This brush roller 120 has the same configuration as the brush roller 10 described above, and rotates in a direction (clockwise in FIG. 3) that resists the conveyance direction of the waterless 23 plate 11.
The surface of plate 11 is rubbed. Depending on the case, it may be rotated in the forward direction with respect to the conveyance direction of the waterless 23 plate 11. The number of rotations of the brush roller 120 is 100 to 50.
It is set at 0 rpm (preferably 200 to 400 rpm). Furthermore, depending on the case, it is preferable to install a vignetting prevention lever in the waterless PS plate 11.
このブラシローラ120の下部にはプラスチック等の比
較的柔軟な材質例えば高密度ポリエチレンで形成された
受は台122が配置されている。A support stand 122 made of a relatively flexible material such as plastic, for example high-density polyethylene, is disposed below the brush roller 120.
このため水なし23版11がこの通路を通過する際は、
受は台122上で水なし23版11が案内されながら、
ブラシローラ120によって表面へ染色液17が塗布さ
れる。Therefore, when waterless 23rd edition 11 passes through this passage,
While the waterless 23rd edition 11 is guided on the stand 122,
A staining liquid 17 is applied to the surface by a brush roller 120.
ブラシローラ120の上部にはスプレーバイブ124が
配設されている。このスプレーパイプ124は略コ字状
の整流板126で囲まれている。A spray vibrator 124 is disposed above the brush roller 120. This spray pipe 124 is surrounded by a substantially U-shaped rectifier plate 126.
この整流板126に対向して、スプレーパイプ124に
は吐出口124Aが、軸方向に沿って適当数形成されて
いる。A suitable number of discharge ports 124A are formed in the spray pipe 124 along the axial direction so as to face the current plate 126.
このスプレーバイブ124はバルブ128を介して管路
130で後述する染色液供給装置と連通されている。こ
れによってスプレーバイブ124へは染色液が送りこま
れ、整流板126へ向けて吐出され、整流板126に案
内されてブラシローラ120へ染色液17が供給される
。このとき染色液17は整流板126の板上を流下しな
がら広がり、ブラシローラ120上へ均一に供給される
。This spray vibrator 124 is connected through a valve 128 to a stain solution supply device, which will be described later, through a conduit 130. As a result, the dyeing liquid is fed into the spray vibrator 124 and is discharged toward the current plate 126. The dyeing liquid 17 is guided by the current plate 126 and supplied to the brush roller 120. At this time, the staining liquid 17 spreads while flowing down on the rectifying plate 126 and is uniformly supplied onto the brush roller 120.
ブラシローラ120とスクイズローラ対108との間で
スクイズローラ対108側にもスプレーバイブ132が
配設されている。このスプレーバイブ132もスプレー
バイブ124と同様に略コ字状の整流板126で囲われ
ている。このスプレーバイブ132は吐出口132Aが
、整流板126に対向して軸方向に沿って適当な間隔で
複数個設けられている。スプレーバイブ132はスプレ
ーバイブ124と同様にバルブ128を介して管v&1
30で後述する染色液供給装置と連通されている。これ
によってスプレーバイブ132へは染色液17が送りこ
まれ、整流板126へ向けて吐出され案内されてスクイ
ズローラ対108の上側ローラへ染色液17が供給され
る。このとき染色液17は整流板126の板上を流下し
ながら広がす、スクイズローラ対108へ均一に供給さ
れる。A spray vibrator 132 is also arranged between the brush roller 120 and the squeeze roller pair 108 on the squeeze roller pair 108 side. Like the spray vibe 124, this spray vibe 132 is also surrounded by a substantially U-shaped rectifier plate 126. This spray vibrator 132 has a plurality of discharge ports 132A provided at appropriate intervals along the axial direction, facing the rectifier plate 126. The spray vibrator 132, like the spray vibrator 124, is connected to the pipe v&1 via the valve 128.
30 communicates with a staining solution supply device, which will be described later. As a result, the dyeing liquid 17 is fed into the spray vibrator 132, discharged toward the current plate 126, guided, and supplied to the upper roller of the squeeze roller pair 108. At this time, the dyeing liquid 17 is uniformly supplied to the squeeze roller pair 108, which spreads while flowing down on the rectifying plate 126.
ブラシローラ120とスクイズローラ対108の上方に
は断面形状が略コ字状のカバー131が配置されている
。このカバー131はブラシローラ120による染色液
17の他への飛散を防止している。A cover 131 having a substantially U-shaped cross section is disposed above the brush roller 120 and squeeze roller pair 108. This cover 131 prevents the staining liquid 17 from being scattered by the brush roller 120.
染色液供給装置は循環ポンプ134と、フィルタ136
と、循環ポンプ134と染色液回収槽102とを連通ず
る管路138で構成されている。The dye solution supply device includes a circulation pump 134 and a filter 136.
and a conduit 138 that communicates the circulation pump 134 and the dye solution recovery tank 102.
循環ポンプ134の吐出口側へ管路130が連通され、
吸い込み口側には管路138の一端が連通されている。A pipe line 130 is connected to the discharge port side of the circulation pump 134,
One end of a conduit 138 is communicated with the suction port side.
管路138の他端は染色液回収槽102の底部と連通さ
れている。この循環ポンプ134の作動によって、染色
液回収槽102内の染色液17が管路138を通って、
循環ポンプ134に吸い込まれ、管路130を通ってス
プレーバイブ124.132へ送られる。The other end of the conduit 138 is communicated with the bottom of the dye solution recovery tank 102. Due to the operation of this circulation pump 134, the dyeing solution 17 in the dyeing solution recovery tank 102 passes through the pipe line 138.
It is drawn into circulation pump 134 and sent through line 130 to spray vibrator 124,132.
管路138の途中にフィルタ136が配設されており、
管路138内を通る染色液中のかず(主に現像部より持
ち込まれた水なし23版11の表面から擦り取られた感
光層、シリコーン層からのかず)を除去する。A filter 136 is disposed in the middle of the conduit 138,
Dirt in the dyeing solution passing through the pipe 138 (mainly debris from the photosensitive layer and silicone layer scraped off from the surface of the waterless 23 plate 11 brought in from the developing section) is removed.
染色液補充装置は染色液が収容された染色液タンク14
0と、染色液を染色液回収槽102内へ供給するための
染色液供給ポンプ142と、で構成されている。The staining liquid replenishing device includes a staining liquid tank 14 containing the staining liquid.
0, and a dye solution supply pump 142 for supplying the dye solution into the dye solution recovery tank 102.
染色液タンク140には管路146の一端が連通されて
おり、他端は染色液回収槽102内に配設された広口管
路92へ開口している。この管路146の途中に染色液
供給ポンプ142が配設されている。One end of a conduit 146 is communicated with the dyeing solution tank 140, and the other end opens into a wide-mouthed conduit 92 disposed within the dyeing solution recovery tank 102. A dye solution supply pump 142 is disposed in the middle of this conduit 146.
染色液回収槽102内の底部にはヒータ98が配設され
ており、図示しない電源と接続されて染色液を加熱する
。この染色液17の温度は15〜45℃(好ましくは2
0〜30℃)に設定されている。A heater 98 is disposed at the bottom of the dyeing solution recovery tank 102 and is connected to a power source (not shown) to heat the dyeing solution. The temperature of this staining solution 17 is 15 to 45°C (preferably 2
temperature (0 to 30°C).
次に本実施例の作用について説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.
図示しない画像焼付は装置で画像が焼付けられた水なし
23版11は水なし平版印刷版現像装置12内へ送り込
まれて現像部14内へ挿入される。The waterless 23rd plate 11 on which the image has been printed is sent into the waterless lithographic printing plate developing device 12 and inserted into the developing section 14 using an image printing device (not shown).
現像部14内へ挿入される水なし23版11の感光層へ
光が照射された部分すなわち露光部分は硬化してプライ
マー層へ接着し、未露光部分は現像液18によって膨潤
または溶出可能な状態となっている。The portion of the photosensitive layer of the waterless 23 plate 11 inserted into the developing section 14 that is irradiated with light, that is, the exposed portion, hardens and adheres to the primer layer, and the unexposed portion is in a state where it can be swollen or eluted by the developer 18. It becomes.
この状態から、水なし23版11の表面を保護するため
にラミネートされた保護フィルムを剥離した後、水なし
23版11は現像部14へ挿入され、現像部14の搬送
ローラ対24に挟持搬送されながら現像液18が表面へ
塗布される。これによって水なし23版11の未露光部
分(画像部分)の感光層は膨潤してプライマー層から剥
がれ易くなる。From this state, after peeling off the protective film laminated to protect the surface of the waterless 23rd plate 11, the waterless 23rd plate 11 is inserted into the developing section 14, and is conveyed while being held between the pair of conveying rollers 24 of the developing section 14. The developer 18 is applied to the surface while being applied. As a result, the photosensitive layer in the unexposed area (image area) of the waterless 23rd plate 11 swells and becomes easily peeled off from the primer layer.
さらに水なし23版11は搬送ローラ対26によって挟
持搬送され、ブラシローラ10と受は台40との間に挿
入される。ブラシローラ10は水なしPS版11の搬送
方向に順する方向(第3図反時計方向)へ回転し、受は
台40上を通過する水なしPS版11の上面を擦る。こ
のブラシローラ10へも現像液18が供給されており、
水なしPS版11は現像液18を塗布されながら、ブラ
シローラ10によって表面が擦られ、現像液18によっ
て膨潤又は溶出した感光層及びシリコーンゴム層が掻き
取られる。これによって水なしPS版11には露光部分
(非画像部分)に相当する、感光層、シリコーン層が残
り、ポジ画像が形成される。Further, the waterless 23rd plate 11 is pinched and conveyed by a pair of conveying rollers 26, and the brush roller 10 and the receiver are inserted between the table 40. The brush roller 10 rotates in a direction that follows the conveyance direction of the waterless PS plate 11 (counterclockwise in FIG. 3), and the receiver rubs the upper surface of the waterless PS plate 11 passing over the table 40. A developer 18 is also supplied to this brush roller 10.
The surface of the waterless PS plate 11 is rubbed by the brush roller 10 while being coated with the developer 18, and the photosensitive layer and silicone rubber layer swollen or eluted by the developer 18 are scraped off. As a result, a photosensitive layer and a silicone layer corresponding to exposed areas (non-image areas) remain on the waterless PS plate 11, and a positive image is formed.
水なしPS版11の表面へ塗布された現像液18の現像
後の余剰の現像液18は、現像液回収層22内へ落下し
て回収される。The surplus developer 18 after the developer 18 applied to the surface of the waterless PS plate 11 is developed falls into the developer collection layer 22 and is collected.
さらにブラシローラ10によって未露光部分(画像部分
)の感光層及びシリコーン層が掻き取られた水なしPS
版11はスクイズローラ対28に挟持搬送されると共に
現像液18が再度塗布されて、水なしPS版11から現
像液18が絞り取られる。この状態の水なしPS版11
は染色部16の搬送ローラ対106間へ挿入される。現
像液18が絞り取られた水なしPS版11はブラシロー
ラ120と受は台1220間に挿入される。このブラシ
ローラ120もブラシローラ10と同様に水なしPS版
11の搬送方向に抗する方向へ回転し、整流板126に
案内されて供給された染色液17を水なしPS版11の
土面へ塗布する。これによってプライマー層すなわち未
露光部(画像部)に染色液が付着して染色される。Further, the waterless PS has the photosensitive layer and silicone layer in the unexposed area (image area) scraped off by the brush roller 10.
The plate 11 is held and conveyed by a pair of squeeze rollers 28, and the developer 18 is applied again, and the developer 18 is squeezed out from the waterless PS plate 11. PS version 11 without water in this state
is inserted between the pair of transport rollers 106 of the dyeing section 16. The waterless PS plate 11 from which the developer 18 has been squeezed out is inserted between the brush roller 120 and the tray 1220. Like the brush roller 10, this brush roller 120 also rotates in the direction opposite to the conveyance direction of the waterless PS plate 11, and the dyeing solution 17 supplied while being guided by the current plate 126 is directed to the soil surface of the waterless PS plate 11. Apply. As a result, the staining liquid adheres to the primer layer, that is, the unexposed area (image area), and the dyeing is carried out.
さらに水なしPS版11はスクイズローラ対108間に
挿入され1、スクイズローラ対108の上側のローラへ
、整流板126によって案内されて供給される染色液1
7が表面へ塗布されながら染色液17が絞り取られて、
スクイズされる。この染色は、現像処理した後の水なし
PS版11の画像部と非画像部表面が同一色なので、画
像部と非画像部とを見分は易くするための工程で、検版
作業のために行う工程である。Further, the waterless PS plate 11 is inserted between the pair of squeeze rollers 108 , and the staining liquid 1 is supplied to the upper roller of the pair of squeeze rollers 108 while being guided by a rectifying plate 126 .
7 is applied to the surface, the staining liquid 17 is squeezed out,
Being squeezed. This staining is a process to make it easier to distinguish between the image area and the non-image area, as the surfaces of the image area and non-image area of the waterless PS plate 11 after development are the same color, and are used for plate inspection work. This is the process that is carried out.
画像部が染色された水なしPS版11は染色部16から
送り出された後に、スクイズローラ対109間へ挿入さ
れ、表面に残っている染色液17が拭い取られる。この
スクイズローラ対109はNBRゴムで形成されている
ので、染色液17の拭い取り性が向上する。特に非画像
部に染色液17が残っているとシリコーンゴム層のイン
キ反撥力が低下するので、印刷時に良好な画像を得るこ
とが出来なくなるが、スクイズローラ対109で染色液
17を確実に表面から絞り取るので、良好な画像を得る
ことができる。After the waterless PS plate 11 with the image area dyed is sent out from the staining section 16, it is inserted between the squeeze roller pair 109, and the staining solution 17 remaining on the surface is wiped off. Since this squeeze roller pair 109 is made of NBR rubber, the wiping property of the dyeing liquid 17 is improved. In particular, if the dyeing solution 17 remains in the non-image area, the ink repellency of the silicone rubber layer will decrease, making it impossible to obtain a good image during printing. Since the aperture is squeezed out, a good image can be obtained.
次に現像部14における現像液18の循環、かす取り及
び現像液18の補充について説明する。Next, the circulation of the developer 18 in the developing section 14, removal of residue, and replenishment of the developer 18 will be explained.
〈循環〉
第3図に示されるように、現像液回収槽22内の現像液
18は、循環ポンプ54の作動によってスプレーパイプ
42.48.50へ送られ、現像部14を搬送される水
なしPS版11へ塗布される。水なしPS版11の塗布
後の余剰の現像液18は落下して、現像液回収槽22内
へ回収される。<Circulation> As shown in FIG. 3, the developer 18 in the developer recovery tank 22 is sent to the spray pipes 42, 48, 50 by the operation of the circulation pump 54, and the developer 18 is transported through the developing section 14 without water. It is applied to the PS plate 11. Excess developer 18 after coating the waterless PS plate 11 falls and is collected into a developer recovery tank 22 .
現像液回収槽22内へ回収された現像液中には水なしP
S版11の表面から剥離した、感光層及びシリコーンゴ
ム層等の現像かすか混ざっており、これらの現像かすは
、比重が現像液よりも軽いので、現像液回収槽22内で
現像液の表層部に浮遊している。There is no water in the developer collected into the developer recovery tank 22.
There are developer residues such as the photosensitive layer and silicone rubber layer peeled off from the surface of the S plate 11 mixed in, and since these developer residues have a lighter specific gravity than the developer, the surface layer of the developer is removed in the developer collection tank 22. floating in the air.
くかす取り〉
この状態で、現像液回収槽22内の現像液18はオーバ
ーフロー槽72内へ下部隔壁22Aを乗り越えて流れ込
む。これによって現像液18の表層部に浮遊している現
像かすは、オーバーフロー槽72内へ流れ込んで、この
オーバーフロー槽72内へ捕集される。Dust Removal> In this state, the developer 18 in the developer recovery tank 22 flows into the overflow tank 72 over the lower partition wall 22A. As a result, the developer residue floating on the surface layer of the developer 18 flows into the overflow tank 72 and is collected therein.
さらに、現像液回収槽22内へ現像液または水を補充す
ると、現像液回収槽22内の現像液の液面高さが上昇し
、長孔74を越えて上昇するとオーバーフロー槽72内
の現像液(表層部に現像かすか捕集されている)の液面
の高さも上昇し、オーバーフロー管80の上端部が水没
する。これによって、オーバーフロー槽72内の現像液
18は表層部(現像かすが浮遊している)からオーバー
フロー管80を通って外方へ排出される。この際に貫通
孔74を形成している現像液回収[22の上部隔壁22
Bは堰の役目をして、オーバーフロー槽72内へ一旦集
積された現像かすか、現像液18の液面の上昇によって
現像液回収槽22内へ拡散することがない。Furthermore, when the developer or water is replenished into the developer recovery tank 22, the level of the developer in the developer recovery tank 22 rises, and when it rises beyond the elongated hole 74, the developer in the overflow tank 72 rises. The height of the liquid level (developing particles collected on the surface layer) also rises, and the upper end of the overflow pipe 80 is submerged in water. As a result, the developer 18 in the overflow tank 72 is discharged from the surface layer (in which developer residue is floating) to the outside through the overflow pipe 80. At this time, the upper partition wall 22 of the developer recovery [22] forming the through hole 74
B acts as a weir, and prevents the developer particles once accumulated in the overflow tank 72 from being diffused into the developer recovery tank 22 due to the rise in the liquid level of the developer 18.
次に現像液回収槽22内のオーバーフロー液の回収に付
いて説明する。Next, recovery of the overflow liquid in the developer recovery tank 22 will be explained.
第2図に示されるように、現像液回収槽22の現像液1
8の液面が上昇し、管路56の先端部30に形成された
切欠31の高さ以上となった場合(液面34となった場
合)には、現像液18は切欠31から管路56内への流
入する。この場合、カバー32の下部開口部32Cから
現像液tf3は侵入するが、液面34上に浮遊する泡3
5は、カバー32によって切欠31から管路56内への
流入を阻止される。As shown in FIG. 2, the developer 1 in the developer recovery tank 22
When the liquid level of 8 rises and becomes equal to or higher than the height of the notch 31 formed at the tip 30 of the conduit 56 (when the liquid level reaches 34), the developer 18 flows from the notch 31 to the conduit. 56. In this case, the developer tf3 enters from the lower opening 32C of the cover 32, but the bubbles 3 floating on the liquid surface 34
5 is prevented from flowing into the conduit 56 from the notch 31 by the cover 32.
このため、泡35が現像液18と一緒に、循環ポンプ5
4等を介してPS版11へ送られることがない。従って
、泡35によってPS版11に現像液18の塗布むらが
発生することを防止できる。For this reason, the bubbles 35 are mixed with the developer 18 in the circulation pump 5.
It is not sent to PS version 11 via 4 etc. Therefore, uneven coating of the developer 18 on the PS plate 11 due to the bubbles 35 can be prevented.
なお上記実施例においては、現像液回収槽22へ連結さ
れた管路56の先端部30に処理液流入口としての切欠
31を形成し、浮遊物流入防止手段としてのカバー32
を配置したが、染色液回収槽102へ連結された管路1
38を上方へ延設し、その先端部に処理液流入口を形成
すると共に、浮遊物流入防止手段を配置してもよい。In the above embodiment, a notch 31 as a processing liquid inlet is formed at the tip end 30 of the pipe line 56 connected to the developer recovery tank 22, and a cover 32 is formed as a means for preventing the inflow of suspended matter.
However, the pipe line 1 connected to the dyeing solution recovery tank 102
38 may be extended upward, and a processing liquid inlet may be formed at the tip thereof, and a means for preventing floating matter from flowing may be arranged.
[発明の効果]
本発明は上記構成としたため、処理液の液面上に浮遊し
ている泡等の浮遊物が処理液と一緒に感光材料の表面へ
供給されることを防止することができるという優れた効
果が得られる。[Effects of the Invention] Since the present invention has the above structure, it is possible to prevent floating substances such as bubbles floating on the surface of the processing liquid from being supplied to the surface of the photosensitive material together with the processing liquid. This excellent effect can be obtained.
第1図は本発明に係る自動現像機の現像液回収槽内を示
す斜視図、第2図は第1図■−■線断面図、第3図は本
発明が適用された自動現像機を示す概略構成図である。
11・・・PS版、
12・・・水なし平版印刷版現像装置、18・・・現像
液、
20・・・現像液回収層、
30・・・先端部、
31・・・切欠、
32・・・カバー
37・・・液面。FIG. 1 is a perspective view showing the inside of the developer recovery tank of an automatic developing machine according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line ■-■ in FIG. FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 11... PS plate, 12... Waterless lithographic printing plate developing device, 18... Developer, 20... Developer collection layer, 30... Tip, 31... Notch, 32... ...Cover 37...Liquid level.
Claims (1)
処理液を回収槽内へ回収して循環手段により処理液を再
度感光材料へ供給して処理する自動現像機であって、先
端部が回収槽内に回収された処理液の液面から突出する
ように前記回収槽内に設けられ先端部に処理液流入口が
形成されたオバーフロー液回収手段と、前記オーバーフ
ロー液回収手段の先端部に被せられ下端部が回収槽内に
回収された処理液の液面より下方へ延設された浮遊物流
入防止手段と、を設けたことを特徴とする自動現像機。(1) An automatic developing machine that supplies a processing liquid to a photosensitive material to process it, collects excess processing liquid into a recovery tank, and supplies the processing liquid to the photosensitive material again using a circulation means for processing, and the tip part an overflow liquid recovery means provided in the recovery tank so as to protrude from the surface of the processing liquid collected in the recovery tank, and having a processing liquid inlet at its tip; and a tip of the overflow liquid recovery means. 1. An automatic developing machine, comprising: means for preventing the inflow of suspended matter, the lower end of which is placed over the surface of the processing liquid and extends below the surface of the processing liquid collected in the collection tank.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP392890A JP2612944B2 (en) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | Automatic developing machine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP392890A JP2612944B2 (en) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | Automatic developing machine |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03209254A true JPH03209254A (en) | 1991-09-12 |
| JP2612944B2 JP2612944B2 (en) | 1997-05-21 |
Family
ID=11570798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP392890A Expired - Fee Related JP2612944B2 (en) | 1990-01-11 | 1990-01-11 | Automatic developing machine |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2612944B2 (en) |
-
1990
- 1990-01-11 JP JP392890A patent/JP2612944B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2612944B2 (en) | 1997-05-21 |
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