JPH03209406A

JPH03209406A - 低圧化学蒸着法によって光学干渉被膜で被覆されたガラス反射体

Info

Publication number: JPH03209406A
Application number: JP2265315A
Authority: JP
Inventors: Robert L Bateman; ロバート・レイク・ベイトマン; Jean Parham Thomas; トーマス・ジーン・パーハム
Original assignee: General Electric Co
Current assignee: General Electric Co
Priority date: 1989-10-10
Filing date: 1990-10-04
Publication date: 1991-09-12
Anticipated expiration: 2014-07-28
Also published as: DE69019455T2; US5143445A; EP0422815A2; EP0422815B1; DE69019455D1; JP2925700B2; EP0422815A3

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】発明の背景〔発明の分野〕本発明は、両面が光学干渉被膜で被覆されたガラス反射
体に関するものである。更に詳しく言えば本発明は、内
面および外面が低圧化学蒸着法によって設置された光学
干渉被膜で被覆されているような総ガラス製の反射体並
びにかかる反射体とランプとから成るランプ・反射体ア
センブリに関する。

〔先行技術の説明〕

相異なる屈折率を有する２種以上の材料の層を交互に配
置して成りかつ干渉フィルタまたは光学干渉フィルムと
して知られる薄膜状の光学干渉被膜は、当業者にとって
公知のものである。かかる被膜は、電磁波スペクトル中
の様々な部分（たとえば、紫外線、可視光線および赤外
線部分）を選択的に反射もしくは透過させるために役立
つ、このような被膜は、反射体やランプ管球を被覆する
ためランプ業界において使用されている。かかる被膜が
有用であることが判明している用途の１つは、フィラメ
ントまたはアークから放射される電磁波スペクトル中の
可視光線部分を透過させながら赤外線部分を反射してフ
ィラメントまたはアークに戻すことによって白熱ランプ
およびアーク放電ランプの効率を向上させることである
。このようにすれば、動作温度を維持するためフィラメ
ントまたはアークに供給する必要のある電気エネルギー
の量を低減させることができる。かかる被膜はまた、当
業界においてコールドミラーとして知られるような反射
体においても使用されてきた。

先行技術に基づくコールドミラーは、ガラスまたはプラ
スチック製反射体の内側の反射面を光学干渉被膜で被覆
したものである。かかる被膜が可視光線を反射して前方
に投射すると共に、それよりも波長の長い赤外線エネル
ギーは被膜および反射体を通過する結果、反射体によっ
て前方に投射される光は可視光線および赤外線の両方が
反射されて前方に投射される場合よりも遥かに低温とな
る。

他方、一部の反射体においては、ランプのフィラメント
またはアークから放射される光の全てを反射して前方に
投射するような全反射被膜（たとえば、アルミニウム被
膜または光学干渉被膜）が内側の反射面上に設置されて
いる。この場合、投射される光はコールドミラーを用い
て得られる光よりも著しく高温となる。

また、反射体を被覆するために使用される方法（たとえ
ば、真空スパッタリング、反応プラズマ蒸着および電子
ビーム蒸着）が引起こす問題点も認められている。すな
わち、これらの方法においては、複雑な形状を有する物
体を被覆することが困難であるばかりでなく、時には不
可能でもある。

その理由は、これらの方法が見通し法または実質的な見
通し法であることにある。ランプをセメントで固定する
ための後方に突き出たソケット部分（またはノーズ部分
）を有する総ガラス製反射体の場合には、かかる従来の
方法によってソケット部分の内面を被覆することは不可
能であった。その結果、反射体の後方のソケット部分を
通して相当量の明るい白色可視光線が外部に投射されて
いたのである。

発明の要約本発明は、光反射面を有する前方の反射部分、およびラ
ンプの一部を収容するための後方に突き出た細長い中空
部分から成る光透過性の反射体（たとえば、総ガラス製
またはプラスチック製の反射体）に関するものである。

本発明の反射体は、反射部分の光反射面並びに中空部分
の内面または外面あるいはそれらの両者が電磁波スペク
トルの所望部分を選択的に反射もしくは透過するような
光学干渉被膜で被覆されていることを特徴とする。

ここで言う「光学干渉被膜」とは、高屈折率材料の層お
よび低屈折率材料の層を交互に配置して成る多層被膜を
意味する。好適な実施の態様の従えば、かかる被膜は低
圧化学蒸着法（ＬＰＣＶＤ法）によって設置される。別
の実施の態様に従えば、反射体の内面および外面のいず
れもが光学干渉被膜で被覆される。本発明はまた、この
ようにして被覆された反射体とランプとから成るランプ
・反射体アセンブリにも関する。本発明に基づくランプ
・反射体アセンブリにおいては、反射体の後方部分を通
して外部に漏れ出る光は実質的に少なくなる。本発明の
更に別の実施の態様に従えば、反射体によって透過され
る光が人間の眼にやさしくかつ快適で−様な軟らかい色
を有するように光学干渉被膜が設計される。たとえば、
前方には白色光が投射される一方、後方または側方から
見た場合には青色、金色、緑色などに見える反射体が本
発明に従って作製された。

発明の詳細な説明先ず第１図を見ると、先行技術に基づく総ガラス製の反
射体１０が略示されている。かかる反射体１０は一端に
放物面反射部分１２を有し、かつ他端にランプを収容す
るための細長い中空部分１４を有している。放物面反射
部分１２は内面１６および外面１８を有しており、また
中空部分１４は空所を規定する内面２０、外面２２およ
び端面２６を有している。第１図に示されるごとく、放
物面反射部分１２の内面１６のみが光学干渉被膜９で被
覆されている。上記の通り、被膜９は金属被膜またはコ
ールドミラー型の光学干渉被膜である。−層詳しく述べ
れば、被膜９は真空蒸着または真空スパッタリングによ
って設置されたアルミニウムまたは銀被膜であるか、あ
るいは高屈折率材料の層と低屈折率材料の層とを交互に
配置したものから成る光学干渉被膜である。かかる光学
干渉被膜は、ランプの光学中心が反射体の焦点に一致す
るようにして中空部分１４内にセメントで固定されたラ
ンプ（第３図参照）からの光を反射体の前方に投射する
ために役立つフィルタを構成するように設計されている
。従来、光学干渉被膜は真空蒸着、真空スパッタリング
、反応プラズマ蒸着および電子ビーム蒸着のごとき方法
によって設置されていた。これらの方法はいずれも見通
し法または実質的に見通し法であり、その結果として中
空部分１４の内面２０を被覆することができない、かか
る方法の一例として、標準的な真空被覆技術に基づく真
空蒸着室内においてランプ管球の外面上に被膜を設置す
るための方法が米国特許第４４６３５５７号明細書中に
開示されている。この方法においては、基体上に金属ま
たは金属酸化物を蒸着させるための蒸発手段として電子
ビームまたは抵抗加熱器が使用されると共に、基体上に
金属酸化物を生成させるための酸素が蒸着室内に流され
る。このように酸素またはその他の反応性気体を蒸着室
内に流すことは、僅かながら蒸着材料を見通し線から外
れた位置にまで分散させる。

かかる方法は、上記の特許明細書によれば、交互に配置
されたシリカ層およびタンタラ層から成りかつ赤外線エ
ネルギーを反射してフィラメントに戻すための光学干渉
被膜をランプ管球の外面上に設置するためのものとして
開示されている。

反射体を光学干渉被膜で被覆するためのこれら従来の方
法が反射体１０の後方の細長い中空部分１４の内面２０
を被覆し得ない結果、中空部分１４の内面２０と外面２
２との間に存在するガラス（またはプラスチック）を通
して実質的な量の可視光線が外部に漏れ出ることになる
。この種のランプ・反射体アセンブリの多くの用途にお
いては、該アセンブリはそれの全体が見えるような器具
に取付けられる。それ故、後方の中空部分を通って漏れ
出た光は煩わしい場合が多いのである。中空部分１４の
外面２２を不透明な耐熱ペイントで被覆すれば、それの
外観を損なうばかりでなく、中空部分１４に過剰の熱が
蓄積する結果として反射体が割れたり、また中空部分１
４内にセメントで固定されたランプリード線（第３図参
照）の酸化によってランプが故障したりすることがある
。中空部分１４にセメントを充填することもまた、過剰
の熱を蓄積させてランプの故障および（または）反射体
の割れを引起こすばかりでなく、反射体の前方に反射さ
れかつ投射される光のコヒーレンスをもならす。

次に第２（ａ）図を見ると、本発明の実施の一態様に従
って全表面が光学干渉被膜で被覆された総ガラス製の反
射体１０が略示されている。かかる反射体１０は、前方
の放物面反射部分１２および後方に突き出た中空部分１
４から成っていて、それの全表面が光学干渉被膜２４で
被覆されている。

詳しく述べれば、放物面反射部分１２の内面１６および
外面１８の両方が光学干渉被膜２４で被覆されていると
共に、かかる光学干渉被膜２４は放物面反射部分１２の
内面１６、中空部分１４の内面２０、端面２６、中空部
分１４の外面２２、および放物面反射部分１２の外面１
８を連続的に包囲している。第２（ｂ）は第２（ａ）図
に示された反射体１０の端面図であって、中空部分１４
の外面２２および内面２０が光学干渉被膜２４で被覆さ
れていることを示している０本発明の別の実施の態様に
従えば、放物面反射部分１２の内面１６および中空部分
１４の内面２０のみが被覆されるが、中空部分１４の内
面２０と外面２２との間に存在するガラスを通って漏れ
出る光の大部分を実質的に低減させるためにはこれで十
分である。なお、第２図に示されたような実施の態様に
おいては、反射体１０の内面および外面の全てが光学干
渉被膜２４で被覆されている。更に別の実施の態様に従
えば、製造上の理由またはその他の理由により、反射体
１０の内面および外面の両方を光学干渉被膜２４で被覆
した後に中空部分１４の後部端面２６から該被膜を除去
することが望ましい場合もある。このような場合でも、
中空部分１４のガラス壁を通して外部に漏れ出る光につ
いて顕著な差は生じない。本発明においては、上記のご
とく、放物面反射部分１２の光反射面および中空部分１
４の少なくとも内面または外面が光学干渉被膜で被覆さ
れていれば事足りるのである。とは言え、第２図に示さ
れるごとくに全表面が被覆された実施の態様が特に好適
である。

次に第３図を見ると、本発明に基づく反射体１０とラン
プ３０とから成るランプ・反射体アセンブリが略示され
ている。ランプ３０は、通常のつまみ封止部または収縮
封止部３４によって気密封止されたガラス質管球３２を
含むと共に、外部リード線３６を有している。かかるラ
ンプ３０はセメント３８によって中空部分１４内に固定
されている。反射体の内部反射面上だけに光学干渉被膜
を有するこの種のランプ・反射体アセンブリは当業界に
おいて公知であり、また反射体にランプを固定するなめ
に適したセメントも当業界において公知である。米国特
許第４８３３５７６号明細書中には、本発明の実施に際
して有用なランプ・反射体アセンブリ並びに反射体にラ
ンプを固定するためのセメントが開示されている。ラン
プ３０はまた、管球３２内にフィラメントおよび内部リ
ード線あるいはアーク（図示せず）をも含んでいる。

点灯時、ランプ３０から放射される光の可視光線部分の
ほとんどは放物面反射部分１２の内面１６上に設置され
た光学干渉被膜２４によって反射される。かかる被膜が
内面１６上だけにしか存在しない場合には、可視光線の
一部が（ランプ３０およびそれを適正な位置に保持する
セメント３８を含んだ）中空部分１４を通って外部に漏
れ出る。

すなわち、中空部分１４の内面２０上にも外面２２上に
も光学干渉被膜が存在しなければ、ランプ３０から放射
される光の相当量が中空部分１４のガラス壁を通過する
ことになる。第３図に示された実施の態様においては、
反射体１０の内側および外側に存在する全ての表面が光
学干渉被膜２４で被覆されている。かかる光学干渉被膜
２４が赤外線を透過すると共に、反射体の前方に可視光
線を反射しかつ投射する結果、後方の中空部分１４のガ
ラス壁を通って漏れ出る可視光線は極めて少なくなる。

上記のごとく、光学干渉被膜２４は中空部分１４の内面
２０上だけに設置されていてもよいし、あるいはそれの
外面２２上だけに設置されていてもよい、とは言え、第
３図に示された実施の態様においては、光学干渉被膜２
４は反射体１０の外面および内面を完全に被覆している
。

反射体１０の内面および（または）外面を光学干渉被膜
で被覆することは、低圧化学蒸着法（ＬＰＣＶＤ法）を
用いて高屈折率材料層および低屈折率材料層を交互に形
成することによって容易に達成される。ＬＰＣＶＤ法に
おいては、光学干渉被膜の各材料に対応した適当な金属
酸化物前駆体から成る反応物質が蒸着室内に個別に導入
され、そして該反応物質の分解または反応によって加熱
された基体上に金属酸化物が生成される。このようにし
て、たとえばシリカから成る層およびタンタラまたはチ
タニアから成る層を基体上に交互に形成することにより
、所望の光学干渉被膜が得られるのである。このような
化学蒸着技術は当業界において公知であって、たとえば
、米国特許第４００６４８１．４２１１８０３．４３９
３０９７．４４３５４４５．４５０８０５４．４５６５
７４７および４７７５２０３号明細書中に開示されてい
る０本発明に従ってチタニア（またはタンタラ）層およ
びシリカ層をガラス反射体上に交互に形成する際には、
先ず最初に、該反射体が蒸着室内に配！される。一般に
、蒸着室は炉内に収容されていて、それにより反応物質
の反応または分解および反射体上へのチタニア層または
シリカ層の蒸着を達成するために必要な温度にまで反射
体を加熱することができる。かかる温度は、使用する反
応物質の種類に応じ、約３５０〜６００℃の範囲内にあ
るのが普通である。ＬＰＣＶＤ法の場合には、蒸着室は
排気され、そして所望の金属酸化物（たとえば、チタニ
アまたはシリカ）に対応した適当な蒸気状の有機金属前
駆体から成る反応物質が任意適宜の手段によって蒸着室
内に流される。蒸着室内に流れ込んだ反応物質は分解さ
れ、そしてチタニアまたはシリカの層が反射体上に蒸着
される。

このような方法を使用すれば、チタニア層およびシリカ
層を個別に蒸着することができると共に、平坦な基体お
よび（ランプ管球のごとき）湾曲した基体のいずれをも
−様に被覆することができる。

このようにして、約１００〜１０００００人の範囲内の
厚さを有する−様なチタニア（またはタンタラ）層およ
びシリカ層を形成することができるのである。所望の層
厚さが得られた後、反応物質の流れが停止され、蒸着室
が排気され、そして別の材料に対応する反応物質が蒸着
室内に流されるこの場合にも、反応物質は所望の層厚さ
が得られるまで供給される。このような操作を繰返すこ
とにより、所望の多層光学干渉被膜が得られるのである
。

ＬＰＣＶＤ法に従ってシリカ層を蒸着するため本発明に
おいて使用するのに適した反応物質の実例としては、テ
トラエトキシシラン、ジアセトキシジブトキシシラン、
テトラアセトキシシランおよびシリコンテトラキスジエ
チルオキシアミンが挙げられる。また、ＬＰＣＶＤ法に
従ってタンタラ層を蒸着するため本発明において使用す
るのに適した反応物質の実例としては、タンタルエトキ
シド、タンタルイソプロポキシド、タンタルメトキシド
、タンタルブトキシド、混合タンタルアルコキシド、お
よび五塩化タンタルと水および（または）酸素との混合
物が挙げられる。チタニアを蒸着するための反応物質と
してはチタンテトラエトキシド、チタンイソプロポキシ
ド、チタンイソブトキシドおよびチタンｎ−１０ボキシ
ドが適当であり、またニオビアを蒸着するための反応物
質としてはペンタエチルニオベートが適当である。

蒸着室内における反応物質の移動を容易にするため蒸着
室内にキャリヤガスを供給することは必要でないが、所
望ならば不活性のキャリヤガスを使用することもできる
。蒸着操作時における蒸着室内の圧力は、使用する反応
物質の種類および基体の温度に応じ、約０，１〜Ｚ　Ｏ
Ｔｏｒｒの範囲内にあるのが普通である。蒸着室内にお
ける気体状反応物質の流量は、蒸着室の大きさ、反応物
質の種類、キャリヤガスの有無、所望の蒸着速度などに
応じ、約１０〜２０００　ＳＣＣＭの範囲内にあるのが
普通である。

総ガラス製の反射体の全ての内面を光学干渉被膜で一様
に被覆するために使用し得るもう１つの方法は、当業界
において公知の湿式法である。かかる湿式法の一例を米
国特許第４７０１６６３号明細書中に見出すことができ
る。かかる湿式法においては、吹付けまたは浸漬に続い
て旋回および焼付けまたは乾燥を行うことによって被覆
材料を交互に設置することが必要である。このような操
作が必要な理由は、−様な被膜厚さを達成すると共に、
２種の材料間に拡散を生じることなしに相次ぐ層を交互
に形成しなければならないからである。しかしながら、
このような湿式法によって反射体を一様に被覆すること
は極めて困難である上、非常に長い時間がかかる。それ
故、総ガラス製反射体の放物面反射部分の内面に加えて
後方の中空部分の内面および（または）外面を光学干渉
被膜で被覆するための方法として最も好適な現行の技術
は、被覆すべき基体の表面において分解する適当な気体
状反応物質を使用するＬＰＣＶＤ法または化学蒸着法（
ＣＶＤ法）である。

本発明を一層詳しく説明するなめ、以下に実施例を示す
。

実施例上記のごときＬＰＣＶＤ法に従い、交互に配置された全
部で３０のチタニア層およびシリカ層から成る光学干渉
被膜で第２　（ａ　）［Ｊに示されたような総ガラス製
の反射体を被覆した。その際には、図示のごとくに反射
体の内面および外面の全てを完全かつ連続的に被覆した
。チタニア生成用の反応物質としてはチタンエトキシド
を使用し、またシリカ生成用の反応物質としてはジアセ
トキシジブトキシシランを使用した。こうして得られた
光学干渉被膜の全厚は約２７００ｎｍであって、この被
膜は約４００〜７００ｎｔａの範囲内の波長を有する可
視光線の約９５％を反射しかつ約８００ａｍより長い波
長を有する赤外線を透過するようなコールドミラー型の
ものであった。第４図には、このような光学干渉被膜の
理論的な分光反射率および透過率が示されている。反射
体の内面に加えて外面をも被覆した場合には、全ての内
面のみを被覆した場合に比べ、約４００〜７００　ａｍ
の可視光線の前方反射率は僅かに約１％しか増加しない
ことが判明した。他方、見通し法である特許登録された
物理蒸着法（ＰＶＤ法）に従って別の反射体を被覆した
。この場合には、交互に配置されたシリカ層および硫化
亜鉛層から成る光学干渉被膜によリ、第１図に示された
ような総ガラス製反射体の放物面反射部分の内部反射面
のみが被覆された。

なお、かかる被覆は特許登録された従来の商業的方法に
従って行った。こうして得られた被膜もまた、４００〜
７００ｎｍの範囲内の可視光線を反射しかつ約９００　
ｎｍより長い波長を有する赤外線の少なくとも約８０％
を透過するようなコールドミラー型のものであった。こ
れら２種の光学干渉被膜は、スペクトルの可視光線部分
（４００〜７００＋１１１）を反射しかつ赤外線（≧９
００　ａｍ）の少なくとも約８０％を透過するという点
で類似していた。

第３図に示されるごとく、これら２種の反射体の後方の
中空部分内に５０ワツトおよび７５ワツトのタングステ
ンハロゲンランプをセメントで固定することによってラ
ンプ・反射体アセンブリを作製した。なお、全ての反射
体は同じ寸法を有していた。すなわち、反射部分の開放
端の幅が４’／１ｃｍ、かつ長さが約４ｃｍ＋であって
、その内で後方に突き出た中空部分の長さが約１％Ｃ層
であった９反射体にランプを固定する際には、米国特許
第４８３３５７６号明細書中に開示されたようなリン酸
アルミニウムセメントを使用した。ＣＩＨの規定に従っ
て可視光線の相対光量をルクス単位の照度として測定す
るように調整されたミノルタのＸＹｌ型照度計を使用す
ることにより、２種の反射体の後方から漏れ出る光の相
対量を測定した。かかる照度計は、横断軸に対して垂直
に測定してランプ・反射体アセンブリから約５０ＣＩ＋
の距離にあり、かつ反射体の後部に向かって垂線から約
２０゜だけ傾斜した状態で保持された。測定結果によれ
ば、放物面反射部分の内面のみを従来の光学干渉被膜で
被覆したランプ・反射体アセンブリが約１２０〜２００
の相対光量を示したのに対し、反射体の全ての表面を上
記のごとき光学干渉被膜で被覆したランプ・反射体アセ
ンブリは僅かに約１６〜２０の相対光量しか示さなかっ
た。すなわち、反射体の後方の中空部分を通って漏れ出
る光の量について本発明のランプ・反射体アセンブリと
従来のランプ・反射体アセンブリとを比較した場合、減
衰率は約８に等しかったのである。

反射体の外面、とりわけ後方に突き出た中空部分の外面
を被覆することは、後方に漏れ出る光をかなりの程度ま
で減衰させるのに有効である。しかしながら、総ガラス
製反射体の外面は管理された反射面として役立たないの
が通例であるから、上記のごとき本発明の実施例の場合
において反射体の前方に反射されかつ投射される約４０
０〜７００ｎｍの可視光線の増加は１％未満に過ぎなか
った。

総ガラス製反射体の全ての表面上に３０層の光学干渉被
膜を有しかつ５０ワツトのランプを含む本発明のランプ
・反射体アセンブリを再びミノルタ照度計で測定するこ
とにより、反射体の後方から漏れ出る光量および前方に
反射されかつ投射される光量をいずれも５０ｃｓｉの距
離で測定した。前方への相対光量は４７０００ルクスで
あり、また後方への相対光量は僅かに１４ルクスであっ
た。

このように、反射体の後方から漏れ出る光は前方に投射
される光の僅か０．１％に過ぎなかった。それに対し、
上記のごとき従来のシリカ／１ｉＪＥ化亜鉛光学干渉被
膜で内部反射面のみを被覆した同種の反射面（第１図）
を７５ワツトのランプと組合わせて成るランプ・反射体
アセンブリにおいては、前方への相対光量は５３５００
ルクスでり、また後方への相対光量は１３６ルクスであ
った。この場合、後方に漏れ出る光は前方に投射される
光の０．２５％であった。また、反射体の後方から漏れ
出る光量を約３インチの距離で測定したところ、本発明
のランプ・反射体アセンブリの場合には約３５ルクスで
あったのに対し、従来のランプ・反射体アセンブリの場
合には１８０〜３００ルクスであった。

本発明のもう１つの利点は、本発明に従って被覆された
反射体の後方の中空部分内にセメントで固定されたラン
プを押出すために必要な押出力が、内部反射面のみを被
覆した同種の反射体の場合に必要な押出力よりも実質的
に大きいことである。

すなわち、米国特許第４８３３５７６号明細書中に開示
されたリン酸アルミニウムセメントを使用しながら上記
のごとくにして作製された２種のランプ・反射体アセン
ブリを比較した場合、本発明のアセンブリに関する押出
力は従来のアセンブリに関する押出力より少なくとも４
０％だけ大きかった。また、１ケ月間にわたって高湿度
条件下に保存した場合、従来のアセンブリに関する押出
力が３４ボンドであったのに対し、本発明のアセンブリ
に関する押出力は４８ボンドであった。

先行技術に対する本発明のもう１つの顕著な利点は、反
射体の後方から漏れ出る相対光量を抑制し得るばかりで
なく、反射体の前方に反射されかつ投射される光の色ま
たは量に悪影響を及ぼすことなしに反射体の色を制御し
得ることである。すなわち、本発明に従って全ての表面
をシリカ／チタニ光学干渉被膜で被覆した反射体をラン
プと組合わせて成るランプ・反射体アセンブリは、反射
体の前方に反射されかつ投射される光に悪影響を及ぼす
ことなく、後方または側方から見た場合に赤色、緑色ま
たは青色に見えるようにすることができるのである。こ
れは、光学干渉被膜の設計を変更することによって達成
される。上記に記載されかつ第４図に示された３０層の
シリカ／チタニア光学干渉被膜を用いて反射体の全表面
を被覆した場合、得られるランプ・反射体アセンブリは
青色の外観を呈する。第４図に示されたスペクトルの青
色部分は約４００〜４８０ａｍの波長範囲にあって、点
灯時のランプ・反射体アセンブリを後方または側方から
見た場合、視線が反射体の外面に対して垂直でない時に
生じるオフアングルシフトのために該アセンブリは青色
に見えるのである。

【図面の簡単な説明】

第１図は先行技術に従って内部反射面のみを光学干渉被
膜で被覆して成る総ガラス製反射体の略図、第２（ａ）
および２（ｂ）図は本発明の実施の一態様を示す略図、
第３図は本発明に基づく反射体をランプと組合わせて成
るランプ・反射体アセンブリの略図、そして第４図は本
発明に従って設置された光学干渉被膜の理論的な分光反
射率および透過率を示すグラフである。図中、１０は総ガラス製の反射体、１２は放物面反射部
分、１４は中空部分、１６は反射部分の内面、１８は反
射部分の外面、２０は中空部分の内面、２２は中空部分
の外面、２４は光学干渉被膜、２６は端面、３０はラン
プ、３２は管球、３４は封止部、３６は外部リード線、
そして３８はセメントを表わす。

Claims

【特許請求の範囲】

１．　光反射面を有する前方の反射部分および後方に突
き出た細長い中空部分から成る光透過性の反射体におい
て、前記反射部分の前記光反射面並びに前記中空部分の
内面または外面あるいはそれらの両者が光学干渉被膜で
被覆されていることを特徴とする反射体。
２．　前記被膜が電磁波スペクトルの異なる部分を選択
的に反射もしくは透過する請求項１記載の反射体。
３．　前記被膜が低圧化学蒸着法または化学蒸着法によ
って設置されたものである請求項２記載の反射体。
４．　前記被膜が低圧化学蒸着法によって設置されたも
のである請求項３記載の反射体。
５．　前記被膜がシリカ層とそれよりも高い屈折率を有
する高屈折率材料層とを交互に配置したものから成る請
求項４記載の反射体。
６．　前方に向けて光を反射しかつ投射するための光反
射面を有する前方の反射部分、およびランプの一部を収
容するための後方に突き出た細長い中空部分から成る総
ガラス製の反射体において、前記反射部分の前記光反射
面並びに前記中空部分の内面または外面あるいはそれら
の両者が電磁波スペクトルの特定部分を選択的に反射も
しくは透過するような光学干渉被膜で被覆されているこ
とを特徴とする反射体。
７．　前記被膜がシリカ層とそれよりも高い屈折率を有
する高屈折率材料層とを交互に配置したものから成る請
求項６記載の反射体。
８．　前記高屈折率材料がチタニア、タンタラおよびニ
オビアから成る群より選ばれる請求項７記載の反射体。
９．　前記被膜が前記反射体の内面上および外面上に設
置されている請求項８記載の反射体。
１０．　前記被膜が低圧化学蒸着法または化学蒸着法に
よって設置されたものである請求項９記載の反射体。
１１．　前記被膜が低圧化学蒸着法によって設置された
ものである請求項１０記載の反射体。
１２．　前記高屈折率材料がチタニアである請求項８記
載の反射体。
１３．　前記被膜が赤外線を透過しかつ可視光線を反射
する請求項１２記載の反射体。
１４．　前方に向けて光を反射しかつ投射するための光
反射面を有する前方の反射部分および後方に突き出た細
長い中空部分から成る総ガラス製の反射体と、一部が前
記中空部分内に保持されたランプとから構成されるラン
プ・反射体アセンブリにおいて、前記反射部分の前記光
反射面並びに前記中空部分の内面または外面あるいはそ
れらの両者が電磁波スペクトルの特定部分を選択的に反
射もしくは透過するような光学干渉被膜で被覆されてい
ることを特徴とするランプ・反射体アセンブリ。
１５．　前記被膜が低圧化学蒸着法または化学蒸着法に
よって設置されたものである請求項１４記載のランプ・
反射体アセンブリ。
１６．　前記低屈折率材料がシリカである請求項１５記
載のランプ・反射体アセンブリ。
１７．　前記被膜が前記反射体の内面上および外面上に
設置されている請求項１６記載のランプ・反射体アセン
ブリ。
１８．　前記高屈折率材料がチタニア、タンタラおよび
ニオビアから成る群より選ばれる請求項１７記載のラン
プ・反射体アセンブリ。
１９．　前記反射体が可視光線を反射しかつ赤外線を透
過する請求項１８記載のランプ・反射体アセンブリ。
２０．　前記反射体によって透過される光が前記反射体
の前方に反射されかつ投射される光とは異なる色を有す
る請求項１９記載のランプ・反射体アセンブリ。
２１．　前方に向けて光を反射しかつ投射するための光
反射面を有する前方の放物面反射部分および後方に突き
出た細長い中空部分から成る総ガラス製の反射体と、一
部が前記中空部分内に保持されたランプとから構成され
るランプ・反射体アセンブリにおいて、前記反射体の内
面および外面が高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交
互に配置して成る多層光学干渉被膜で被覆されており、
前記被膜が電磁波スペクトルの特定部分を選択的に反射
もしくは透過することによって前記中空部分を透過する
可視光線が減少し、かつ前記被膜が低圧化学蒸着法によ
って設置されたものであることを特徴とするランプ・反
射体アセンブリ。