JPH03209432A - 空間光変調素子 - Google Patents
空間光変調素子Info
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- JPH03209432A JPH03209432A JP524490A JP524490A JPH03209432A JP H03209432 A JPH03209432 A JP H03209432A JP 524490 A JP524490 A JP 524490A JP 524490 A JP524490 A JP 524490A JP H03209432 A JPH03209432 A JP H03209432A
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- substrate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
この発明は、光情報処理、光コンピユーテイング、マシ
ンビジョン、デイスプレィ端末等に用いられる液晶空間
光変調素子に関する。
ンビジョン、デイスプレィ端末等に用いられる液晶空間
光変調素子に関する。
し発明の概要]
この発明は、光情報処理、光コンビニーティング、マシ
ンビジョン、デイスプレィ端末等に用いられる液晶空間
光変調素子に関し、一対の、電極を有する基板間の一方
の電極上に光導電層及び誘電体多層膜ミラーを具備し、
両基板に液晶分子を配向させる膜として、基板の法線方
向に対して750から85°の範囲の角度で一酸化珪素
を斜方蒸着したものを用い、これを一定の間隙に制御し
て対向させ、間隙に封入する液晶組成物として、強誘電
性液晶組成物を用いた液晶素子において、光導電層及び
誘電体多層膜ミラーを形成しない側の基板として゛、偏
光ビームスプリッタ−を用いることにより、光学系を小
型化し、もって光情報処理、光コンピユーテイング、マ
シンビジョン、デイスプレィ端末等のシステムへの応用
を容易ならしめるものである。
ンビジョン、デイスプレィ端末等に用いられる液晶空間
光変調素子に関し、一対の、電極を有する基板間の一方
の電極上に光導電層及び誘電体多層膜ミラーを具備し、
両基板に液晶分子を配向させる膜として、基板の法線方
向に対して750から85°の範囲の角度で一酸化珪素
を斜方蒸着したものを用い、これを一定の間隙に制御し
て対向させ、間隙に封入する液晶組成物として、強誘電
性液晶組成物を用いた液晶素子において、光導電層及び
誘電体多層膜ミラーを形成しない側の基板として゛、偏
光ビームスプリッタ−を用いることにより、光学系を小
型化し、もって光情報処理、光コンピユーテイング、マ
シンビジョン、デイスプレィ端末等のシステムへの応用
を容易ならしめるものである。
[従来の技術]
従来、強誘電性液晶を用いた空間光変調素子は、素子外
部に偏光子及びハーフミラ−またはキューブビームスプ
リンター及び検光子を配置し、読みだし光を偏光子を通
して照射し、反射光を検光子を通して読み出す事により
、変調された像を得ていた。
部に偏光子及びハーフミラ−またはキューブビームスプ
リンター及び検光子を配置し、読みだし光を偏光子を通
して照射し、反射光を検光子を通して読み出す事により
、変調された像を得ていた。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、従来の方法では、光学系中に偏光子及び
ハーフミラ−またはキューブビームスプリッタ−及び検
光子を配置するため、大きな光学系のスペースを必要と
し、システムの小型化が難しいという課題があった。
ハーフミラ−またはキューブビームスプリッタ−及び検
光子を配置するため、大きな光学系のスペースを必要と
し、システムの小型化が難しいという課題があった。
[課題を解決するための手段]
上記課題を解決するために、この発明は、光情報処理、
光コンピユーテイング、マシンビジョン、デイスプレィ
端末等に用いられる強誘電性液晶空間光変調素子の光導
電層及び誘電体多層膜ミラーを形成しない側の基板とし
て、偏光ビームスプリッタ−を用いた。
光コンピユーテイング、マシンビジョン、デイスプレィ
端末等に用いられる強誘電性液晶空間光変調素子の光導
電層及び誘電体多層膜ミラーを形成しない側の基板とし
て、偏光ビームスプリッタ−を用いた。
光ビームスプリッタ−は、一対の直角プリズムの斜面同
士を張り合わせたもので、張り合わせた面には誘電体多
層膜コーティングが施されており、キューブの外表面に
0@で入射した単一波長の光線を偏光面が互いに直交す
る2つの直線偏光に分岐させることができる。分岐角は
90@であり、2つの射出光はそれぞれ外表面に0°で
射出され、外部に偏光子、ハーフミラ−またはキューブ
ビームスブリフタ−1検光子を配置する必要がなく、光
学系を小型化することができる。
士を張り合わせたもので、張り合わせた面には誘電体多
層膜コーティングが施されており、キューブの外表面に
0@で入射した単一波長の光線を偏光面が互いに直交す
る2つの直線偏光に分岐させることができる。分岐角は
90@であり、2つの射出光はそれぞれ外表面に0°で
射出され、外部に偏光子、ハーフミラ−またはキューブ
ビームスブリフタ−1検光子を配置する必要がなく、光
学系を小型化することができる。
[実施例]
以下に本発明の内容を図面を用いて詳細に説明する。
第1図は本発明に係る液晶空間光変調素子の概念図であ
る。液晶分子を挟持するための基板11a、11bとし
て、光による書き込み側基板11aには透明ガラス基板
を、読みだし側基板11bには偏光ビームスプリッタ−
を用いた。両基板の表面には■TOi!明電極層12a
、12bを設けた。ここでITO電極12a、12b
は、酸化錫アンチモン等でも問題ない。偏光ビームスブ
リ、ターは、一対の直角プリズムの斜面同士を張り合わ
せたもので、張り合わせ面には誘電対多層膜コーティン
グが施されており、キューブの外表面にO°で入射した
単一波長の光線を偏光面が互いに直交する2つの直線偏
光に分岐させることができる。分岐角は90″であり、
2つの射出光はそれぞれ外表面に06で射出される。本
実施例に於いては、読み出し光にHe−Neレーザーを
用い、偏光ビームスプリッタ−を用いた基板11bには
メレスグリオ社製03PBSO37(25,4+nm角
)を用いた。両基板の表面には基板の法線方向から85
°の入射角で、かつ、偏光ビームスプリンター側からの
入射光の偏波面から22.5°の角度をなし、組み合わ
せた状態で書き込み側及び読みだし側の基板上の入射方
間が一致するように一酸化珪素を斜方蒸着した配向膜層
13a 、13bを設けた。
る。液晶分子を挟持するための基板11a、11bとし
て、光による書き込み側基板11aには透明ガラス基板
を、読みだし側基板11bには偏光ビームスプリッタ−
を用いた。両基板の表面には■TOi!明電極層12a
、12bを設けた。ここでITO電極12a、12b
は、酸化錫アンチモン等でも問題ない。偏光ビームスブ
リ、ターは、一対の直角プリズムの斜面同士を張り合わ
せたもので、張り合わせ面には誘電対多層膜コーティン
グが施されており、キューブの外表面にO°で入射した
単一波長の光線を偏光面が互いに直交する2つの直線偏
光に分岐させることができる。分岐角は90″であり、
2つの射出光はそれぞれ外表面に06で射出される。本
実施例に於いては、読み出し光にHe−Neレーザーを
用い、偏光ビームスプリッタ−を用いた基板11bには
メレスグリオ社製03PBSO37(25,4+nm角
)を用いた。両基板の表面には基板の法線方向から85
°の入射角で、かつ、偏光ビームスプリンター側からの
入射光の偏波面から22.5°の角度をなし、組み合わ
せた状態で書き込み側及び読みだし側の基板上の入射方
間が一致するように一酸化珪素を斜方蒸着した配向膜層
13a 、13bを設けた。
−酸化珪素を斜方蒸着した配向膜層13a 、13bの
基板の法線方向からの入射角度は75″から85″の範
囲で特性を考慮して選択すればよい。光による書き込み
側の透明電極層12a上にはアモルファスシリコン光導
電層15を、SiF、を主体とするガスを放電分解して
、2μmの厚さのa−5i rH層とすることにより形
成した。ここで該アモルファスシリコン光導電層15は
、放電分解時にP、N等を添加した膜組成でも良く、ま
た、a−3i:8層上にn型、あるいはp型の、他の組
成の半導体膜を積層した構成であっても差し支えない。
基板の法線方向からの入射角度は75″から85″の範
囲で特性を考慮して選択すればよい。光による書き込み
側の透明電極層12a上にはアモルファスシリコン光導
電層15を、SiF、を主体とするガスを放電分解して
、2μmの厚さのa−5i rH層とすることにより形
成した。ここで該アモルファスシリコン光導電層15は
、放電分解時にP、N等を添加した膜組成でも良く、ま
た、a−3i:8層上にn型、あるいはp型の、他の組
成の半導体膜を積層した構成であっても差し支えない。
さらに前記膜上に、投影光が光導電層15に入射しない
ように遮光層16を設け、さらに、SiO□とStを交
互に計15層積層した誘電体ミラー17を積層、形成し
た。さらに、基板11aとllbはその配向膜層13a
、13b側を対向させ、直径1.0μmのグラスファ
イバーを加えた接着剤よりなるスペーサ19を介して間
隙を制御、形成し、強誘電性液晶層14を挟持するよう
にした。
ように遮光層16を設け、さらに、SiO□とStを交
互に計15層積層した誘電体ミラー17を積層、形成し
た。さらに、基板11aとllbはその配向膜層13a
、13b側を対向させ、直径1.0μmのグラスファ
イバーを加えた接着剤よりなるスペーサ19を介して間
隙を制御、形成し、強誘電性液晶層14を挟持するよう
にした。
間隙は約1.0μmであった。封入した強誘電性液晶組
成物としては、5CE−6(BDH社製)を用いた。
成物としては、5CE−6(BDH社製)を用いた。
上記の強誘電性液晶空間光変調素子は、外部から両基板
の透明電極間に直流電界を印加する事により強誘電性液
晶分子が基板表面からみて一軸に整列した安定状態とな
る。また、印加電界の極性を反転することにより、もう
一方の、強誘電性液晶分子が基板表面からみて一軸に整
列した安定状態となる。この二状態間の電界による反転
は、強誘電性液晶層に印加される電界に対して、非線形
性と明確なしきい値を有する。印加電界は、直流に交流
を重畳したものであっても差し支えない。
の透明電極間に直流電界を印加する事により強誘電性液
晶分子が基板表面からみて一軸に整列した安定状態とな
る。また、印加電界の極性を反転することにより、もう
一方の、強誘電性液晶分子が基板表面からみて一軸に整
列した安定状態となる。この二状態間の電界による反転
は、強誘電性液晶層に印加される電界に対して、非線形
性と明確なしきい値を有する。印加電界は、直流に交流
を重畳したものであっても差し支えない。
二つの安定状態間の角度は強誘電性液晶のコーン角に対
応し、本実施例では光軸は一酸化珪素の斜方蒸着方向か
らそれぞれ22.5” (光軸間で45″)の角度を
存していた。斜方蒸着方向の、入射光の偏波面に対する
角度は、使用する強誘電性液晶のコーン角に合わせて設
定すれば良い。偏光ビームスプリンターから入射する光
はS偏光であり、その偏波面と一酸化珪素の斜方蒸着方
向は22.5’に設定したため、偏波面は一方の安定状
態の強誘電性液晶分子の光軸と一致しているから、この
場合入射光は強誘電性液晶層で変調を受けずに反射され
る。読み出し方向(偏光ビームスプリッタ−を使用した
側の素子に対して垂直方向)から観察するとき、偏光ビ
ームスプリッタ−を透過する光はp偏光のみであるから
、この場合は光が透過せず暗状態となる。印加電界方向
を反転した場合のもう一方の安定状態では、入射光の偏
波面と強誘電性液晶分子の光軸が45@の角度をなすた
め、入射光は強誘電性液晶層内で複屈折による変調を受
け、p偏光成分が生じて、明状態となる。
応し、本実施例では光軸は一酸化珪素の斜方蒸着方向か
らそれぞれ22.5” (光軸間で45″)の角度を
存していた。斜方蒸着方向の、入射光の偏波面に対する
角度は、使用する強誘電性液晶のコーン角に合わせて設
定すれば良い。偏光ビームスプリンターから入射する光
はS偏光であり、その偏波面と一酸化珪素の斜方蒸着方
向は22.5’に設定したため、偏波面は一方の安定状
態の強誘電性液晶分子の光軸と一致しているから、この
場合入射光は強誘電性液晶層で変調を受けずに反射され
る。読み出し方向(偏光ビームスプリッタ−を使用した
側の素子に対して垂直方向)から観察するとき、偏光ビ
ームスプリッタ−を透過する光はp偏光のみであるから
、この場合は光が透過せず暗状態となる。印加電界方向
を反転した場合のもう一方の安定状態では、入射光の偏
波面と強誘電性液晶分子の光軸が45@の角度をなすた
め、入射光は強誘電性液晶層内で複屈折による変調を受
け、p偏光成分が生じて、明状態となる。
上記のような強誘電性液晶空間光変調素子によれば、強
誘電性液晶素子のもつ双安定性により、消去電界印加に
よる消去後に消去電界と逆方向の、液晶層に分圧される
電圧が光導電層が暗時には閾値以下であり引時には閾値
以上であるような電界を印加しながらセル外面からの書
き込み光20によって光学像を照射、または半導体レー
ザーを変調しつつポリゴンミラーやガルバノミラ−を用
いて走査を行なうことにより、光が照射された部分での
み液晶分子の反転がおこり、また、それが安定に保持さ
れるため、強誘電性液晶層14に像の書き込み、形成を
行なうことができた。また、書き込みにより形成された
像は、投影光21の照射により読み出すことが出来る。
誘電性液晶素子のもつ双安定性により、消去電界印加に
よる消去後に消去電界と逆方向の、液晶層に分圧される
電圧が光導電層が暗時には閾値以下であり引時には閾値
以上であるような電界を印加しながらセル外面からの書
き込み光20によって光学像を照射、または半導体レー
ザーを変調しつつポリゴンミラーやガルバノミラ−を用
いて走査を行なうことにより、光が照射された部分での
み液晶分子の反転がおこり、また、それが安定に保持さ
れるため、強誘電性液晶層14に像の書き込み、形成を
行なうことができた。また、書き込みにより形成された
像は、投影光21の照射により読み出すことが出来る。
前記印加電圧は、交流波形を重畳した直流でもよい。さ
らに、前記書き込み時の電界方向とは逆方向の、液晶層
に分圧される電圧が光導電層が暗時には闇値以下であり
引時には闇値以上であるような電界を印加しながら、半
導体レーザーを変調しつつポリゴンミラーやガルバノミ
ラ−を用いて走査を行なうことにより、強誘電性液晶層
のレーザー光が照射された部分でのみ液晶分子の反転が
おこり、また、それが安定に保持されるため、像の部分
消去も行なうことができた。
らに、前記書き込み時の電界方向とは逆方向の、液晶層
に分圧される電圧が光導電層が暗時には闇値以下であり
引時には闇値以上であるような電界を印加しながら、半
導体レーザーを変調しつつポリゴンミラーやガルバノミ
ラ−を用いて走査を行なうことにより、強誘電性液晶層
のレーザー光が照射された部分でのみ液晶分子の反転が
おこり、また、それが安定に保持されるため、像の部分
消去も行なうことができた。
第2図に従来の強誘電性液晶空間光変調素子を用いた場
合の読みだし光学系を、第3図に本発明に係る強誘電性
空間光変調素子を用いた場合の読みだし光学系を示す。
合の読みだし光学系を、第3図に本発明に係る強誘電性
空間光変調素子を用いた場合の読みだし光学系を示す。
第2図では、読みだし光21は検光子22を通った後、
ハーフミラ−23(またはビームスプリンター)で反射
されて強誘電性液晶素子24へ入射し、素子により変調
を受けて反射され、ハーフミラ−23、検光子25を通
って像として読み出される。第3図では、本発明に係る
強誘電性液晶空間光変調素子26を用いることにより、
読みたし側基板として偏光ビームスプリッタ−を用いて
いるため、外部に偏光子、ハーフミラ−またはキューブ
ビームスプリッタ−1検光子を配置する必要がなく、光
学系を小型化することができることがわかる。
ハーフミラ−23(またはビームスプリンター)で反射
されて強誘電性液晶素子24へ入射し、素子により変調
を受けて反射され、ハーフミラ−23、検光子25を通
って像として読み出される。第3図では、本発明に係る
強誘電性液晶空間光変調素子26を用いることにより、
読みたし側基板として偏光ビームスプリッタ−を用いて
いるため、外部に偏光子、ハーフミラ−またはキューブ
ビームスプリッタ−1検光子を配置する必要がなく、光
学系を小型化することができることがわかる。
[発明の効果]
このように、本発明に係る強誘電性液晶空間光変調素子
は、光情報処理、光コンピユーテイング、マシンビジョ
ン、デイスプレィ端末等に用いられる強誘電性液晶空間
光変調素子の光導電層及び誘電体多層膜ミラーを形成し
ない側の基板として、偏光ビームスプリッタ−を用いた
ことにより、光学系を小型化し、もって光情報処理、光
コンピユーテイング、マシンビジ目ン、デイスプレィ端
末等のシステムへの応用を容易ならしめることができる
。
は、光情報処理、光コンピユーテイング、マシンビジョ
ン、デイスプレィ端末等に用いられる強誘電性液晶空間
光変調素子の光導電層及び誘電体多層膜ミラーを形成し
ない側の基板として、偏光ビームスプリッタ−を用いた
ことにより、光学系を小型化し、もって光情報処理、光
コンピユーテイング、マシンビジ目ン、デイスプレィ端
末等のシステムへの応用を容易ならしめることができる
。
第1図は、本発明に係る強誘電性液晶空間光変調素子の
構造を示す断面図、第2図は、従来の強誘電性液晶空間
光変調素子を用いた場合の読みだし光学系の一例を示す
概略図、第3図は、本発明に係る強誘電性液晶空間光変
調素子を用いた場合の読みだし光学系の一例を示す概略
図である。 11a・・・透明基板 11b・・・偏光ビームスプリッタ− 12a、12b・・・透明電極 13a、13b・・・配向膜 14・・・強誘電性液晶層 15・・・光導電膜 16・・・遮光膜 17・・・誘電体ミラー 19・・・スペーサー 20・・・書き込み光 21・・・読み出し光 22・・・偏光子 23・・・ハーフミラ− 24・・・従来の強誘電性液晶空間光変調素子25・・
・検光子 26・・・本発明に係る強誘電性液晶空間光変調素子
構造を示す断面図、第2図は、従来の強誘電性液晶空間
光変調素子を用いた場合の読みだし光学系の一例を示す
概略図、第3図は、本発明に係る強誘電性液晶空間光変
調素子を用いた場合の読みだし光学系の一例を示す概略
図である。 11a・・・透明基板 11b・・・偏光ビームスプリッタ− 12a、12b・・・透明電極 13a、13b・・・配向膜 14・・・強誘電性液晶層 15・・・光導電膜 16・・・遮光膜 17・・・誘電体ミラー 19・・・スペーサー 20・・・書き込み光 21・・・読み出し光 22・・・偏光子 23・・・ハーフミラ− 24・・・従来の強誘電性液晶空間光変調素子25・・
・検光子 26・・・本発明に係る強誘電性液晶空間光変調素子
Claims (1)
- (1)一対の、電極を有する基板間の一方の電極上に光
導電層及び誘電体多層膜ミラーを具備し、両基板に液晶
分子を配向させる膜として、基板の法線方向に対して7
5°から85°の範囲の角度で一酸化珪素を斜方蒸着し
たものを用い、これを一定の間隙に制御して対向させ、
間隙に封入する液晶組成物として、強誘電性液晶組成物
を用いた液晶素子において、光導電層及び誘電体多層膜
ミラーを形成しない側の基板として、偏光ビームスプリ
ッターを用いた事を特徴とする液晶空間光変調素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP524490A JPH03209432A (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 空間光変調素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP524490A JPH03209432A (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 空間光変調素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03209432A true JPH03209432A (ja) | 1991-09-12 |
Family
ID=11605791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP524490A Pending JPH03209432A (ja) | 1990-01-12 | 1990-01-12 | 空間光変調素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03209432A (ja) |
-
1990
- 1990-01-12 JP JP524490A patent/JPH03209432A/ja active Pending
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