JPH0321223B2 - - Google Patents
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- JPH0321223B2 JPH0321223B2 JP59034977A JP3497784A JPH0321223B2 JP H0321223 B2 JPH0321223 B2 JP H0321223B2 JP 59034977 A JP59034977 A JP 59034977A JP 3497784 A JP3497784 A JP 3497784A JP H0321223 B2 JPH0321223 B2 JP H0321223B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- cylindrical body
- liquid
- container
- ring
- Prior art date
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、塗布装置に関し、特に円筒形状体の
外周面に電子写真感光体を被覆するに適した塗布
装置に関するものである。
外周面に電子写真感光体を被覆するに適した塗布
装置に関するものである。
円筒形状体のような被塗布基材の円外周面上に
塗布材を被覆する方法としては、スプレー法、浸
漬法、リング状液体容器を用いる垂直型塗布法、
カーテン塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布
法、エクストルジヨン法等の種々の方法が知られ
ている。
塗布材を被覆する方法としては、スプレー法、浸
漬法、リング状液体容器を用いる垂直型塗布法、
カーテン塗布法、ブレード塗布法、ロール塗布
法、エクストルジヨン法等の種々の方法が知られ
ている。
しかし、スプレー法は量産性に優れている反
面、１回当りの塗布量が少ないこと、また表面平
滑性が劣るという欠点があり、1μｍ〜数十μｍ
の広い範囲の膜厚と極めて高い表面平滑性の塗布
層が必要な電子写真感光体の塗布法としては適し
ていない。
面、１回当りの塗布量が少ないこと、また表面平
滑性が劣るという欠点があり、1μｍ〜数十μｍ
の広い範囲の膜厚と極めて高い表面平滑性の塗布
層が必要な電子写真感光体の塗布法としては適し
ていない。
浸漬法は、比較的手軽な方法であるが、円筒形
状体の上部と下部とで膜厚の差が大きいこと、ま
た２層以上の塗布を行う場合に各層の塗布を同一
溶剤系で行うと下層がおかされるという欠点が生
じ易く、更に量産性に劣つている。
状体の上部と下部とで膜厚の差が大きいこと、ま
た２層以上の塗布を行う場合に各層の塗布を同一
溶剤系で行うと下層がおかされるという欠点が生
じ易く、更に量産性に劣つている。
特開昭53−22544、同昭56−101149、同昭58−
11064、同昭58−180261などに示されるリング塗
布法は、塗布層の表面平滑性に優れ、また塗布液
との接触時間が短かいため多層塗布にも適してい
る利点がある。リング塗布法は、円筒形状体の外
径より僅かに小さい内径の弾性リングと液体容器
外筒とを一体となし、このリングの中に円筒形状
体を貫通させて円筒形状体の外表面とで形成され
た塗布室に塗布液を供給し、円筒形状体あるいは
リングのいずれか又は両方を移動させることによ
つて円筒形状体の外表面に塗布するものである。
しかし、このリング塗布法は、多数の円筒形状体
を連続して塗布することは装置の構造上から困難
なことであつた。たとえば、第１の円筒形状体と
第２の円筒形状体とを隙間なく完全に接合してリ
ング中を通さなければ、塗布室が形成されず、塗
布液が漏れ出て第２の円筒形状体を汚してしまう
結果になる。さらに、円筒形状体を下部昇降手段
により供給し、塗布リングを貫通し上部昇降手段
により円筒形状体を排出する場合において、下部
昇降手段から上部昇降手段への受渡し中は、両昇
降手段の速度が完全に一致しなければならない。
また、第１の円筒形状体と第２の円筒形状体とが
接合する時にも両円筒形状体の速度は完全に一致
する必要があり、さもなければ接合時に衝撃が発
生し、塗布面の乱れとなるからである。また、そ
の接合部は、一体の円筒形状体とみなせる程度に
正確でないと、接合部の不一致部分に液の溜りが
発生し、その液溜りが第２の円筒形状体の外表面
にタレとなつて塗布面を乱したり、接合部の内面
に浸透し第２の円筒形状体の内面を汚したりする
のである。
11064、同昭58−180261などに示されるリング塗
布法は、塗布層の表面平滑性に優れ、また塗布液
との接触時間が短かいため多層塗布にも適してい
る利点がある。リング塗布法は、円筒形状体の外
径より僅かに小さい内径の弾性リングと液体容器
外筒とを一体となし、このリングの中に円筒形状
体を貫通させて円筒形状体の外表面とで形成され
た塗布室に塗布液を供給し、円筒形状体あるいは
リングのいずれか又は両方を移動させることによ
つて円筒形状体の外表面に塗布するものである。
しかし、このリング塗布法は、多数の円筒形状体
を連続して塗布することは装置の構造上から困難
なことであつた。たとえば、第１の円筒形状体と
第２の円筒形状体とを隙間なく完全に接合してリ
ング中を通さなければ、塗布室が形成されず、塗
布液が漏れ出て第２の円筒形状体を汚してしまう
結果になる。さらに、円筒形状体を下部昇降手段
により供給し、塗布リングを貫通し上部昇降手段
により円筒形状体を排出する場合において、下部
昇降手段から上部昇降手段への受渡し中は、両昇
降手段の速度が完全に一致しなければならない。
また、第１の円筒形状体と第２の円筒形状体とが
接合する時にも両円筒形状体の速度は完全に一致
する必要があり、さもなければ接合時に衝撃が発
生し、塗布面の乱れとなるからである。また、そ
の接合部は、一体の円筒形状体とみなせる程度に
正確でないと、接合部の不一致部分に液の溜りが
発生し、その液溜りが第２の円筒形状体の外表面
にタレとなつて塗布面を乱したり、接合部の内面
に浸透し第２の円筒形状体の内面を汚したりする
のである。
本発明の目的は、上述した如きリング塗布法の
問題を解決し、円筒形状体のような被塗布基材の
外周面への塗布を連続的に行なえるようにした塗
布装置を提供することである。
問題を解決し、円筒形状体のような被塗布基材の
外周面への塗布を連続的に行なえるようにした塗
布装置を提供することである。
本発明のその他の目的、利点は以下の明細書の
記載から自ずと理解されよう。
記載から自ずと理解されよう。
本発明の上記目的は、容器外筒と上端部の高さ
が容器外筒より低く設定され、かつ該上端部に弾
性リングを有する容器内筒との間に塗布液の液溜
り部を有し、容器内筒の中を上方向に通過する円
筒形状体の円外周面に塗布液を塗布する装置であ
つて、液溜り部の液面を上下に変動させる手段に
より、液面を容器内筒上端部より高くして、塗布
するようにしたことを特徴とする塗布装置によつ
て達成された。
が容器外筒より低く設定され、かつ該上端部に弾
性リングを有する容器内筒との間に塗布液の液溜
り部を有し、容器内筒の中を上方向に通過する円
筒形状体の円外周面に塗布液を塗布する装置であ
つて、液溜り部の液面を上下に変動させる手段に
より、液面を容器内筒上端部より高くして、塗布
するようにしたことを特徴とする塗布装置によつ
て達成された。
以下、図面を用いて本発明をさらに具体的に説
明する。
明する。
第１図は、本発明の塗布装置を用いて円筒形状
体に連続的に塗布している行程を示す主要部の概
略図である。第２図及び第３図は、第１図におけ
るリング状液体容器７の一例を示す断面図であつ
て、第２図は円筒形状体の塗布終了直前を、第３
図は塗布開始直前の状態を示している。第４図
は、リング状液体容器の別の一例を示す断面図で
ある。第１図において、昇降装置１及び１３は一
定速度で昇降する手段を備えている。昇降の手段
については公知の方法でよく、モーターによるも
の、油圧シリンダー、空気圧シリンダー等による
ものでよい。
体に連続的に塗布している行程を示す主要部の概
略図である。第２図及び第３図は、第１図におけ
るリング状液体容器７の一例を示す断面図であつ
て、第２図は円筒形状体の塗布終了直前を、第３
図は塗布開始直前の状態を示している。第４図
は、リング状液体容器の別の一例を示す断面図で
ある。第１図において、昇降装置１及び１３は一
定速度で昇降する手段を備えている。昇降の手段
については公知の方法でよく、モーターによるも
の、油圧シリンダー、空気圧シリンダー等による
ものでよい。
昇降装置１及び１３にはそれぞれロツド２及び
１２が接続され、ロツド２及び１２の先端はそれ
ぞれ第１の円筒形状体５及び第２の円筒形状体９
を内側から保持し得る保持具（図示せず）があ
り、円筒形状体を保持している。保持具は公知の
ものでよく、例えば拡張式３爪保持方法でもよ
い。検知装置３及び光源４は、円筒形状体５が光
線を遮ると検知装置３が動作する位置であり、該
位置は円筒形状体５の塗布終了直前に一致する所
に設置する。検知装置についても特に制限はな
く、リミツトスイツチ、金属探知式近接スイツ
チ、静電式スイツチ等が用いられる。
１２が接続され、ロツド２及び１２の先端はそれ
ぞれ第１の円筒形状体５及び第２の円筒形状体９
を内側から保持し得る保持具（図示せず）があ
り、円筒形状体を保持している。保持具は公知の
ものでよく、例えば拡張式３爪保持方法でもよ
い。検知装置３及び光源４は、円筒形状体５が光
線を遮ると検知装置３が動作する位置であり、該
位置は円筒形状体５の塗布終了直前に一致する所
に設置する。検知装置についても特に制限はな
く、リミツトスイツチ、金属探知式近接スイツ
チ、静電式スイツチ等が用いられる。
円筒形状体５は、リング状液体容器７を貫通
し、昇降装置１により一定速度で上昇しながら塗
布される。塗布中は塗布液供給管８から塗布によ
る消費量に等しい量の塗布液が供給される。塗布
が進み、やがて円筒形状体５が光源４から出た光
線を遮ると検知装置３が動作する。検知装置３の
動作直前における塗布装置の状態を第２図に示し
ている。検知装置３が動作すると、昇降装置６及
びそれに連結する液面変動部材７３が動作し上昇
する。昇降装置６と液面変動部材７３は連結棒７
２で連結されている。と同時に塗液供給管８から
の塗布液供給を遮断するようにしておくことが好
ましい。昇降装置６の上昇距離は、液溜り部の塗
布液７４の液面が容器外筒７５より高さが低く設
定された容器内筒先端部の弾性リング７１を越え
ている高さ（第２図）から液面変動部材７３の上
昇によつて弾性リング７１を下回る高さ（第３
図）まで少なくとも必要である。好ましくは第３
図に示すように、液面変動部材７３が液面から抜
け出ることなく、その先端の一部は液中に残つて
いる状態で昇降装置６の動作が停止するようにす
ることによつて液面の波動を防止することができ
るが、円筒形状体の両端部は感光体として使用さ
れないのが一般的であるから部材７３は液面を抜
け出てもよい。
し、昇降装置１により一定速度で上昇しながら塗
布される。塗布中は塗布液供給管８から塗布によ
る消費量に等しい量の塗布液が供給される。塗布
が進み、やがて円筒形状体５が光源４から出た光
線を遮ると検知装置３が動作する。検知装置３の
動作直前における塗布装置の状態を第２図に示し
ている。検知装置３が動作すると、昇降装置６及
びそれに連結する液面変動部材７３が動作し上昇
する。昇降装置６と液面変動部材７３は連結棒７
２で連結されている。と同時に塗液供給管８から
の塗布液供給を遮断するようにしておくことが好
ましい。昇降装置６の上昇距離は、液溜り部の塗
布液７４の液面が容器外筒７５より高さが低く設
定された容器内筒先端部の弾性リング７１を越え
ている高さ（第２図）から液面変動部材７３の上
昇によつて弾性リング７１を下回る高さ（第３
図）まで少なくとも必要である。好ましくは第３
図に示すように、液面変動部材７３が液面から抜
け出ることなく、その先端の一部は液中に残つて
いる状態で昇降装置６の動作が停止するようにす
ることによつて液面の波動を防止することができ
るが、円筒形状体の両端部は感光体として使用さ
れないのが一般的であるから部材７３は液面を抜
け出てもよい。
第１の円筒形状体５は上昇を続けており、弾性
リング７１を通過してしまつて塗布が完了する。
リング７１を通過してしまつて塗布が完了する。
塗布液液面は、液面変動部材の上昇によつて弾
性リング７１の先端より低い所にあるから塗布液
７４は液体容器７から外に漏れることはない。
性リング７１の先端より低い所にあるから塗布液
７４は液体容器７から外に漏れることはない。
塗布が終了した円筒形状体５は、次工程、例え
ば乾燥工程（図示せず）へと排出される。排出を
終えたロツド２は昇降装置１により第２の円筒形
状体９を上昇し塗布するべく位置に復帰する。一
方、昇降装置１３及びそれに接続されたロツド１
２、ロツド１２の先端にある保持具（図示せず）
に保持された円筒形状体９は、次の塗布の準備を
している。
ば乾燥工程（図示せず）へと排出される。排出を
終えたロツド２は昇降装置１により第２の円筒形
状体９を上昇し塗布するべく位置に復帰する。一
方、昇降装置１３及びそれに接続されたロツド１
２、ロツド１２の先端にある保持具（図示せず）
に保持された円筒形状体９は、次の塗布の準備を
している。
昇降装置１３により円筒形状体９は上昇し、弾
性リング７１にその先端が達すると停止する。こ
の停止位置の検出は、光源１１から出た光を円筒
形状体９が遮ることがなくなるこにより検知装置
１０が動作し、昇降装置１３の上昇動作が停止す
る。この状態は第３図に示している。と同時に排
出を終え下降していたロツド２の先端の保持具が
円筒形状体９を保持し（図示せず）、かつ検知装
置１０が動作することにより昇降装置６が液面変
動部材７３を下降させ、塗布液液面は弾性リング
７１の先端より高くなる結果、塗布液７４が円筒
形状体９の外周表面に接触し塗布可能状態とな
る。昇降装置１が一定速度で上昇を始めると同時
に塗布液供給管８から塗布液の供給を始め塗布を
開始する。昇降装置１３は、次の円筒形状体の供
給を可能とする準備のために下降する。
性リング７１にその先端が達すると停止する。こ
の停止位置の検出は、光源１１から出た光を円筒
形状体９が遮ることがなくなるこにより検知装置
１０が動作し、昇降装置１３の上昇動作が停止す
る。この状態は第３図に示している。と同時に排
出を終え下降していたロツド２の先端の保持具が
円筒形状体９を保持し（図示せず）、かつ検知装
置１０が動作することにより昇降装置６が液面変
動部材７３を下降させ、塗布液液面は弾性リング
７１の先端より高くなる結果、塗布液７４が円筒
形状体９の外周表面に接触し塗布可能状態とな
る。昇降装置１が一定速度で上昇を始めると同時
に塗布液供給管８から塗布液の供給を始め塗布を
開始する。昇降装置１３は、次の円筒形状体の供
給を可能とする準備のために下降する。
以上の動作を繰返すことにより円筒形状体を間
隔をあけて供給する連続的な塗布が可能となる。
隔をあけて供給する連続的な塗布が可能となる。
本発明の塗布装置は、１個の円筒形状体への塗
布開始時と塗布終了時にそれぞれ塗布液液面を弾
性リング先端の上および下に変動させる手段を有
することを特徴とする。
布開始時と塗布終了時にそれぞれ塗布液液面を弾
性リング先端の上および下に変動させる手段を有
することを特徴とする。
かかる手段の１つは、これまで第２〜３図で説
明したような、塗布液７４に浸漬および塗布液中
から引き上げることにより弾性リングの先端を境
にして塗布液液面を上下しうるだけの容積体（液
面変動部材７３）を用いる方法である。
明したような、塗布液７４に浸漬および塗布液中
から引き上げることにより弾性リングの先端を境
にして塗布液液面を上下しうるだけの容積体（液
面変動部材７３）を用いる方法である。
また別の好ましい手段の１つは、第４図に示す
ように、検知装置３及び１０の動作により開閉す
るバルブ８１を備えた塗布液排出管８２を設ける
方法である。この方法は、塗布液供給管８からの
液供給を停止しなくともバルブ８１の開閉だけで
連続的に塗布できる利点があり、またそれ以外の
説明は、第１〜３図の説明を引用することができ
る。塗布液排出管８２は、第４図のように弾性リ
ング先端より少し低い位置まで塗布液中に延びて
いる方が次の塗布開始までの液面レベルを速やか
に確保できるので好ましい。
ように、検知装置３及び１０の動作により開閉す
るバルブ８１を備えた塗布液排出管８２を設ける
方法である。この方法は、塗布液供給管８からの
液供給を停止しなくともバルブ８１の開閉だけで
連続的に塗布できる利点があり、またそれ以外の
説明は、第１〜３図の説明を引用することができ
る。塗布液排出管８２は、第４図のように弾性リ
ング先端より少し低い位置まで塗布液中に延びて
いる方が次の塗布開始までの液面レベルを速やか
に確保できるので好ましい。
本発明の塗布装置では、昇降装置１あるいは１
３を複数台設置すれば、円筒形状体の連続的な塗
布がさらに効率よく行うことができる。また、塗
布液供給管８、塗布液排出管８２なども複数設け
ることができる。
３を複数台設置すれば、円筒形状体の連続的な塗
布がさらに効率よく行うことができる。また、塗
布液供給管８、塗布液排出管８２なども複数設け
ることができる。
本発明の塗布装置を用いて塗布される液の粘度
は、広い範囲にわたつて選択することができるが
通常は0.5〜1000センチポイズ（CP）程度、好ま
しくは１〜500CPである。
は、広い範囲にわたつて選択することができるが
通常は0.5〜1000センチポイズ（CP）程度、好ま
しくは１〜500CPである。
本発明の塗布装置は、薄膜で高度に均一な塗布
面が要求される電子写真用感光体の製造に適して
いるが、被塗布基材として円外周面に塗布される
基材であれば、他の用途にも用いることができ
る。以下に実施例を示している。
面が要求される電子写真用感光体の製造に適して
いるが、被塗布基材として円外周面に塗布される
基材であれば、他の用途にも用いることができ
る。以下に実施例を示している。
実施例 １
第１図に示す塗布装置のリング状液体容器７と
して第４図に示したものを使用し、116φのアル
ミニウム管（長さ33cm）の外周面上へ下記処分の
分散液を塗布した。
して第４図に示したものを使用し、116φのアル
ミニウム管（長さ33cm）の外周面上へ下記処分の
分散液を塗布した。
ポリスチレン 16ｇ
銅フタロシアニン 3.2ｇ
キシレンで100mlに調整
塗布速度10mm／sec.で既述した方法により連続
的に30本のアルミニウム管に塗布し乾燥した。塗
膜厚みは20μｍであつた。乾燥後に電位を測定し
たところ、円周方向および長さ方向において５％
以内の電位のフレがあるだけであり、多数の円筒
形状体について同じ品質が再現性よく確保できる
ことが確認された。
的に30本のアルミニウム管に塗布し乾燥した。塗
膜厚みは20μｍであつた。乾燥後に電位を測定し
たところ、円周方向および長さ方向において５％
以内の電位のフレがあるだけであり、多数の円筒
形状体について同じ品質が再現性よく確保できる
ことが確認された。
実施例 ２
実施例１の塗布液において総量をキシレンで
1000mlに調整する以外は実施例１を繰返した。こ
の塗布層は、約0.3μｍの厚みで電荷発生層として
十分に使用できる均一な薄膜層であつた。
1000mlに調整する以外は実施例１を繰返した。こ
の塗布層は、約0.3μｍの厚みで電荷発生層として
十分に使用できる均一な薄膜層であつた。
第１図は、本発明の塗布装置を用いて円筒形状
体に塗布している行程の主要部概略図である。第
２図及び第３図は、本発明の塗布装置の一例を示
す断面図、第４図は別の一例を示す断面図であ
る。 １，６，１３……昇降装置、５，９……円筒形
状体、３，１０……検知装置、４，１１……光
源、７１……弾性リング、７３……液面変動部
材、７５……液体容器外筒、８……塗布液供給
管、８１……バルブ、８２……塗布液排出管、７
６……塗布層、２，１２，７２……ロツド。
体に塗布している行程の主要部概略図である。第
２図及び第３図は、本発明の塗布装置の一例を示
す断面図、第４図は別の一例を示す断面図であ
る。 １，６，１３……昇降装置、５，９……円筒形
状体、３，１０……検知装置、４，１１……光
源、７１……弾性リング、７３……液面変動部
材、７５……液体容器外筒、８……塗布液供給
管、８１……バルブ、８２……塗布液排出管、７
６……塗布層、２，１２，７２……ロツド。
Claims (1)
- １ 容器外筒と上端部の高さが容器外筒より低く
設定され、かつ該上端部に弾性リングを有する容
器内筒との間に塗布液の液溜り部を有し、容器内
筒の中を上方向に通過する円筒形状体の円外周面
に塗布液を塗布する装置であつて、液溜り部の液
面を上下に変動させる手段により、液面を容器内
筒上端部より高くして、塗布するようにしたこと
を特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3497784A JPS60179171A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3497784A JPS60179171A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60179171A JPS60179171A (ja) | 1985-09-13 |
| JPH0321223B2 true JPH0321223B2 (ja) | 1991-03-22 |
Family
ID=12429201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3497784A Granted JPS60179171A (ja) | 1984-02-24 | 1984-02-24 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60179171A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002023348A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-01-23 | Asahi Kasei Corp | スリーブ状感光性樹脂印刷版の製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5242162A (en) * | 1975-09-30 | 1977-04-01 | Mitsubishi Electric Corp | Edge detection device |
| JPS5315095A (en) * | 1976-07-28 | 1978-02-10 | Toshiba Corp | Preparing recurrence reflector having gas layer |
| JPS5734026A (en) * | 1980-08-01 | 1982-02-24 | Showa K B I Kk | Production of high-purity potassium fluorotantalate |
-
1984
- 1984-02-24 JP JP3497784A patent/JPS60179171A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60179171A (ja) | 1985-09-13 |
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