JPH03212646A - 有機膜乾燥装置 - Google Patents
有機膜乾燥装置Info
- Publication number
- JPH03212646A JPH03212646A JP802990A JP802990A JPH03212646A JP H03212646 A JPH03212646 A JP H03212646A JP 802990 A JP802990 A JP 802990A JP 802990 A JP802990 A JP 802990A JP H03212646 A JPH03212646 A JP H03212646A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylindrical
- radiator
- film
- drying
- org
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、円筒状物体の表面に塗布された機能性有機
膜を表面平滑に均一に乾燥させる有機膜乾燥装置に関す
る。
膜を表面平滑に均一に乾燥させる有機膜乾燥装置に関す
る。
従来、円筒状あるいは複雑な形状の基体上に有機塗膜を
形成する場合、塗膜を塗布した後の乾燥には熱対流方式
の乾燥装置を用い、溶剤の急激な蒸発による塗膜の乱れ
、特に機能性塗膜の場合の熱による機能の低下などを考
慮して、やや低温の雰囲気中で、あるいは低温から高温
への温度、勾配をもたせた８囲気中で長時間をかけて徐
々に乾燥することにより、塗膜の表面平滑性５機能性を
保っていた。しかしながら、上述の乾燥方法では、温度
条件が複雑になる。高温度雰囲気の容積が大きくなるな
どの難点があった。
形成する場合、塗膜を塗布した後の乾燥には熱対流方式
の乾燥装置を用い、溶剤の急激な蒸発による塗膜の乱れ
、特に機能性塗膜の場合の熱による機能の低下などを考
慮して、やや低温の雰囲気中で、あるいは低温から高温
への温度、勾配をもたせた８囲気中で長時間をかけて徐
々に乾燥することにより、塗膜の表面平滑性５機能性を
保っていた。しかしながら、上述の乾燥方法では、温度
条件が複雑になる。高温度雰囲気の容積が大きくなるな
どの難点があった。
近年、電磁波加熱乾燥、特に赤外線による乾燥が注目さ
れている。赤外線を用いる利点としては、電磁波が直接
被加熱体に作用するため高温雰囲気が不要となる。また
直接被加熱体にエネルギーを与えるから損失が少なく経
済的である。乾燥時間を短縮することができるなどがあ
げられ、一般乾燥のほか、各分野への応用が進められて
いる。
れている。赤外線を用いる利点としては、電磁波が直接
被加熱体に作用するため高温雰囲気が不要となる。また
直接被加熱体にエネルギーを与えるから損失が少なく経
済的である。乾燥時間を短縮することができるなどがあ
げられ、一般乾燥のほか、各分野への応用が進められて
いる。
しかしながら、電磁波による加熱乾燥の実用化にあたり
、平面でない形状の物体上に塗布された塗膜に均一に電
磁波を照射して均一に乾燥させるためには電磁波放射体
と塗膜との距離を一定に保ちながら物体を回転させるな
どの操作が必要となり、乾燥装置の機構が複雑になると
いう問題点があった。特に、機能性塗膜の場合には、加
熱のばらつきが機能に大きく影響しばらつきが生じるの
で、より一層の加熱均一性が要求される。
、平面でない形状の物体上に塗布された塗膜に均一に電
磁波を照射して均一に乾燥させるためには電磁波放射体
と塗膜との距離を一定に保ちながら物体を回転させるな
どの操作が必要となり、乾燥装置の機構が複雑になると
いう問題点があった。特に、機能性塗膜の場合には、加
熱のばらつきが機能に大きく影響しばらつきが生じるの
で、より一層の加熱均一性が要求される。
この発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、
円筒状物体の表面に機能性有機膜を塗布形成する際に好
適に用いられる、塗膜を精度よく均一に乾燥することが
でき、かつ、機構の簡単な乾燥装置を提供することを解
決すべき課題とする。
円筒状物体の表面に機能性有機膜を塗布形成する際に好
適に用いられる、塗膜を精度よく均一に乾燥することが
でき、かつ、機構の簡単な乾燥装置を提供することを解
決すべき課題とする。
上記の課題は、この発明によれば、波長が３μｍ以上１
００μｍ以下の範囲の電磁波を放射する円筒状放射体と
、この円筒状放射体と径が異なる円筒状物体を前記円筒
状放射体に対して同心軸でかつ長さ方向が重なるように
保持する保持機構とを備え、この保持機構に保持される
円筒状物体の前記円筒状放射体に対向する面に塗布され
た有機膜を前記円筒状放射体から放射される前記電磁波
により加熱乾燥する構成の有機膜乾燥装置によって解決
される。
００μｍ以下の範囲の電磁波を放射する円筒状放射体と
、この円筒状放射体と径が異なる円筒状物体を前記円筒
状放射体に対して同心軸でかつ長さ方向が重なるように
保持する保持機構とを備え、この保持機構に保持される
円筒状物体の前記円筒状放射体に対向する面に塗布され
た有機膜を前記円筒状放射体から放射される前記電磁波
により加熱乾燥する構成の有機膜乾燥装置によって解決
される。
円筒状放射体と同心軸でかつ長さ方向が重なるように円
筒状物体を保持することにより、両者の互に対向する面
の間隔は偏りがなく等間隔となり、後者の前者に対向す
る面に塗布された有機膜は全面極めて均一に加熱乾燥さ
れることになる。従って、均一に乾燥するために円筒状
物体を回転させる必要はなくなる。
筒状物体を保持することにより、両者の互に対向する面
の間隔は偏りがなく等間隔となり、後者の前者に対向す
る面に塗布された有機膜は全面極めて均一に加熱乾燥さ
れることになる。従って、均一に乾燥するために円筒状
物体を回転させる必要はなくなる。
第１図は、この発明の有機膜乾燥装置の一実施例の概念
図で、第１図（ａ）は上面図、第１図ら）は縦断面図を
示す。
図で、第１図（ａ）は上面図、第１図ら）は縦断面図を
示す。
第１図において、基台４上に電磁波の円筒状放射体１と
円筒状のホルダー３が同心軸となるように配設されてお
り、このホルダー３により外表面に有機膜の塗布された
円筒状物体２が円筒状放射体１と同心軸で、かつ、長さ
方向が重なるように保持され、円筒状放射体１の内面よ
り放射される電磁波１例えば赤外線により、円筒状物体
２の外表面に塗布されている有機膜が均一に加熱乾燥さ
れる。
円筒状のホルダー３が同心軸となるように配設されてお
り、このホルダー３により外表面に有機膜の塗布された
円筒状物体２が円筒状放射体１と同心軸で、かつ、長さ
方向が重なるように保持され、円筒状放射体１の内面よ
り放射される電磁波１例えば赤外線により、円筒状物体
２の外表面に塗布されている有機膜が均一に加熱乾燥さ
れる。
このような装置を用いて、機能性有機膜としての感光層
を備えた電子写真用有機感光体を作製した。円筒状放射
体としてセラミック材料からなるものを用い、円筒状放
射体体の外表面に有機光導電性材料を含むジクロロメチ
ル溶液を塗布したものを円筒状物体としてホルダーにセ
ットし、円筒状放射体からの赤外線により塗布膜を乾燥
して感光層とする。そのとき、円筒状物体の加熱温度お
よび加熱時間を第１表に示すように変えて、実施例１〜
４の感光体を作製した。
を備えた電子写真用有機感光体を作製した。円筒状放射
体としてセラミック材料からなるものを用い、円筒状放
射体体の外表面に有機光導電性材料を含むジクロロメチ
ル溶液を塗布したものを円筒状物体としてホルダーにセ
ットし、円筒状放射体からの赤外線により塗布膜を乾燥
して感光層とする。そのとき、円筒状物体の加熱温度お
よび加熱時間を第１表に示すように変えて、実施例１〜
４の感光体を作製した。
また、比較のために、前記塗膜の乾燥を従来の熱対流方
式で行い、そのときの加熱温度および加熱時間を第１表
に示すように変えて比較例１〜３の感光体を作製した。
式で行い、そのときの加熱温度および加熱時間を第１表
に示すように変えて比較例１〜３の感光体を作製した。
このようにして得られた感光体について、感光層の密着
性１表面性、均一性を調べ、また、電気特性を評価した
。その結果を同じく第１表に示す。
性１表面性、均一性を調べ、また、電気特性を評価した
。その結果を同じく第１表に示す。
第
表
第１表に見られるとおり、有機塗膜の乾燥を赤外線で行
うことにより、表面性、膜質のばらつきの少ない有機膜
が得られ、その結果、実施例の感光体が比較例の感光体
に比べて優れたものとなることが明らかである。また、
塗膜の乾燥時間も短縮できることが判る。
うことにより、表面性、膜質のばらつきの少ない有機膜
が得られ、その結果、実施例の感光体が比較例の感光体
に比べて優れたものとなることが明らかである。また、
塗膜の乾燥時間も短縮できることが判る。
以上の実施例は、円筒状物体の外表面に有機膜を形成す
る場合であるが、円筒状物体の内表面に有機膜を形成す
る場合には、逆に、円筒状物体より小径の円筒状放射体
を円筒状物体の内部に同心軸で、かつ、長さ方向が重な
るように配置することにより同様の有効な乾燥を行うこ
とが可能である。
る場合であるが、円筒状物体の内表面に有機膜を形成す
る場合には、逆に、円筒状物体より小径の円筒状放射体
を円筒状物体の内部に同心軸で、かつ、長さ方向が重な
るように配置することにより同様の有効な乾燥を行うこ
とが可能である。
この発明によれば、円筒状物体の表面に塗布された有機
膜の乾燥装置を波長が３μｍ以上１００μｍ以下の電磁
波を放射する円筒状放射体と、この円筒状放射体と径が
異なる円筒状物体を前記円筒状放射体に対して同心軸で
かつ長さ方向が重なるように保持する保持機構とを備え
た有機膜乾燥装置とする。このような装置を用いること
により、円筒状物体の表面に塗布した有機膜を精度よく
表面平滑に均一に短時間で乾燥することができ、表面性
に優れかつ均質な膜を形成することができ、特に機能性
有機膜において機能の低下、ばらつきを低減することが
でき好適である。
膜の乾燥装置を波長が３μｍ以上１００μｍ以下の電磁
波を放射する円筒状放射体と、この円筒状放射体と径が
異なる円筒状物体を前記円筒状放射体に対して同心軸で
かつ長さ方向が重なるように保持する保持機構とを備え
た有機膜乾燥装置とする。このような装置を用いること
により、円筒状物体の表面に塗布した有機膜を精度よく
表面平滑に均一に短時間で乾燥することができ、表面性
に優れかつ均質な膜を形成することができ、特に機能性
有機膜において機能の低下、ばらつきを低減することが
でき好適である。
さらに、この発明による有機膜乾燥装置は円筒状物体を
回転させることなく、複雑な温度条件の制御を行う必要
もなくて、機構が簡単であり、また、高温度雰囲気の容
積が小さいので小型化が可能である。
回転させることなく、複雑な温度条件の制御を行う必要
もなくて、機構が簡単であり、また、高温度雰囲気の容
積が小さいので小型化が可能である。
第１図はこの発明の有機膜乾燥装置の一実施例の概念図
である。
である。
Claims (1)
- １）波長が３μｍ以上１００μｍ以下の範囲の電磁波を
放射する円筒状放射体とこの円筒状放射体と径が異なる
円筒状物体を前記円筒状放射体に対して同心軸でかつ長
さ方向が重なるように保持する保持機構とを備え、この
保持機構に保持される円筒状物体の前記円筒状放射体に
対向する面に塗布された有機膜を前記円筒状放射体から
放射される前記電磁波により加熱乾燥させることを特徴
とする有機膜乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP802990A JPH03212646A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 有機膜乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP802990A JPH03212646A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 有機膜乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03212646A true JPH03212646A (ja) | 1991-09-18 |
Family
ID=11681917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP802990A Pending JPH03212646A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 有機膜乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03212646A (ja) |
-
1990
- 1990-01-17 JP JP802990A patent/JPH03212646A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN111774266B (zh) | 一种涂布过程中的烘干装置 | |
| CN104516087A (zh) | 一种用于空间光学遥感器反射镜的夹层式精密热控装置 | |
| US9194624B2 (en) | Device and method for drying film | |
| JP4320174B2 (ja) | ゾル−ゲル法コーテイングの急速硬化用装置および関連する方法 | |
| JPH03233885A (ja) | 熱処理装置およびこれを用いた機能性薄膜の乾燥方法 | |
| JPH03212646A (ja) | 有機膜乾燥装置 | |
| JPH09114111A (ja) | 電子写真有機感光体の製造方法および製造装置 | |
| CN108545955A (zh) | 一种用于曲面玻璃真空柔性加热的方法 | |
| US8660414B2 (en) | Thermal processor employing radiant heater | |
| JPS62193248A (ja) | レジスト塗布・ベ−ク装置 | |
| JP2000021736A (ja) | レジスト塗布方法 | |
| CN219400920U (zh) | 厚膜用吸附性热板 | |
| CN221837081U (zh) | 一种分区温控束源炉及高真空蒸发镀膜装置 | |
| JPS61178064A (ja) | ドラム塗布方法 | |
| JP3044745B2 (ja) | 熱定着ローラの製造方法 | |
| JPH0853766A (ja) | 気相成長装置 | |
| JPS6333275B2 (ja) | ||
| JP2020007587A (ja) | 蒸着装置、および、蒸着方法 | |
| JPS5950167A (ja) | グロ−放電による薄膜形成装置 | |
| JPS60178626A (ja) | レジストパタ−ン形成方法及びレジスト処理装置 | |
| JP2001289714A (ja) | 基板の温度計測方法及び計測装置、並びに基板の処理装置 | |
| JPS6153632B2 (ja) | ||
| JPH0367287A (ja) | 電子複写機用ローラの製造方法 | |
| JPS62160462A (ja) | 電子写真感光体製造用加熱源 | |
| JPH0621580Y2 (ja) | 木材の塗膜乾燥装置 |