JPH03213801A - Production of hardened film - Google Patents
Production of hardened filmInfo
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- JPH03213801A JPH03213801A JP2262697A JP26269790A JPH03213801A JP H03213801 A JPH03213801 A JP H03213801A JP 2262697 A JP2262697 A JP 2262697A JP 26269790 A JP26269790 A JP 26269790A JP H03213801 A JPH03213801 A JP H03213801A
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- coating
- liquid composition
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は基材に液状組成物を塗布することにより、均一
な反射光色を有し、かつ生産性に富む硬化被膜を製造す
る方法に関するものである。Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for producing a cured film having a uniform reflected light color and high productivity by applying a liquid composition to a substrate. It is something.
[従来技術]
従来からガラス、およびプラスチック製品の光学的機能
、特に反射機能は光線の有効利用という観点から、その
向上が強く望まれている。[Prior Art] It has been strongly desired to improve the optical functions of glass and plastic products, particularly the reflective function, from the viewpoint of effective use of light rays.
たとえばテレビ、パーソナルコンピューターワードプロ
セッサー、電卓等の表示装置におけるブラウン管や前面
板においては、反射防止加工を施さない場合、装着時に
光線の反射によって、表示物が見えなくなったり、小さ
な表示物については極めて見にくくなり眼に不快感を与
え、さらに進むと目に疲労を感じ、使用能率を低下させ
るという問題点がある。特に多機能化が進んでいるテレ
ビ画面の光学的機tIiの向上は強く望まれている。For example, if anti-reflection treatment is not applied to the cathode ray tubes and front panels of display devices such as televisions, personal computer word processors, and calculators, the displayed objects may become invisible due to the reflection of light rays when they are installed, or small objects may become extremely difficult to see. There is a problem in that it causes discomfort to the eyes, and as it progresses further, the eyes feel tired and the efficiency of use decreases. In particular, there is a strong desire to improve the optical features of television screens, which are becoming more and more multi-functional.
ガラスおよびプラスチック基材の光学的機能の向上は、
従来より真空蒸着法などによって基材上に反射防止膜あ
るいは反射増加膜を形成させることにより達成すること
が行われて来た。Improving the optical functionality of glass and plastic substrates
Conventionally, this has been achieved by forming an antireflection film or a reflection increasing film on a substrate using a vacuum deposition method or the like.
この場合反射防止効果あるいは反射増加をもっとも高か
らしめるためには基材に被覆する物質の厚みと屈折率の
選択が重要であることが知られている。例えば単層被覆
においては基材より低屈折率の物質を任意の波長の1/
4ないしはその奇数倍にその光学的膜厚を選択すること
が極小の反射率すなわち極大の透過率をり、えることが
知られている。In this case, it is known that the selection of the thickness and refractive index of the material coated on the substrate is important in order to maximize the antireflection effect or the increase in reflection. For example, in a single layer coating, a material with a lower refractive index than the base material is used to
It is known that selecting the optical film thickness to be 4 or an odd number multiple thereof can provide the minimum reflectance, that is, the maximum transmittance.
ここで光学的膜厚とは被覆形成材料の屈折率と該被覆の
膜厚の積で与えられるものである。さらに被覆の反射防
止層の選択が可能であり、この場合それぞれの層におけ
る膜厚および屈折率を適当に選択することによって希望
する反射光色と反射防止効果を得ることができる。これ
らに関してはすでにいくつかの提案がなされている(光
学技術]ンタクトVo1.9.Nα8.17〜23 (
1971)。The optical film thickness here is given by the product of the refractive index of the coating forming material and the film thickness of the coating. Further, it is possible to select the antireflection layer of the coating, and in this case, by appropriately selecting the film thickness and refractive index of each layer, the desired reflected light color and antireflection effect can be obtained. Several proposals regarding these have already been made (optical technology) Contact Vo1.9.Nα8.17-23 (
1971).
かかる蒸着法により形成された反射防止膜あるいは反射
増加は、用途によっては次のような問題点が生ずる。The anti-reflection film or increased reflection formed by such a vapor deposition method may cause the following problems depending on the application.
(1)高度の真空度を要するために処理すべき基材の大
きさ、材料に制限を生ずる。又製造時間が長くなり、生
産性、経済性が低下する。(1) Since a high degree of vacuum is required, there are restrictions on the size and material of the substrate to be treated. Moreover, manufacturing time becomes longer, and productivity and economical efficiency decrease.
(2) 通常かなりの加熱を要し、基材によっては変
形、分解などの問題を生ずる。(2) Usually requires considerable heating, which may cause problems such as deformation and decomposition depending on the base material.
(3)使用される被覆形成材料は主として無機酸化物で
あり、緻密な膜を形成する反面、プラスチック基材の場
合には線膨張係数の差による耐熱性、付着性の低下を生
じ易い。(3) The coating forming material used is mainly an inorganic oxide, and although it forms a dense film, in the case of a plastic base material, heat resistance and adhesion are likely to deteriorate due to differences in linear expansion coefficients.
一方、特開昭58−46301号公報において、液状組
成物を用いた2層からなる反射防止膜の製造が挙げられ
ている。この方法により上記の問題点は一応解決されて
いる。これには第1層、第2層とも浸漬コート法、また
第1層、第2層ともスピンコード法の例が開示されてい
る。前者の方法は基材の上下および表裏に反射光の色む
らを生じ、商品価値の全くないものしか得られない。ま
た後者は生産性が低く非常にコストの高い製品となり、
また大面積な基材への適用は困難な状況にある。On the other hand, JP-A-58-46301 discloses the production of a two-layer antireflection film using a liquid composition. This method has solved the above problems to some extent. This document discloses an example of a dip coating method for both the first layer and the second layer, and a spin coding method for both the first layer and the second layer. The former method causes color unevenness in the reflected light on the upper and lower sides and on the front and back sides of the substrate, and only products with no commercial value can be obtained. In addition, the latter has low productivity and becomes a very costly product.
Furthermore, it is difficult to apply it to large-area base materials.
[発明が解決しようとする課題]
本発明の目的は反射光の色むらがなく、かつ生産性の高
い硬化被膜の製造方法を提供することにある。[Problems to be Solved by the Invention] An object of the present invention is to provide a method for producing a cured film that is free from color unevenness in reflected light and has high productivity.
[課題を解決するための手段]
すなわち、本発明は、下部に流出口を設けた槽内に液状
組成物を入れ、該液状組成物の中に基材を浸漬したのち
、該流出口より液状組成物を取り除き、液状組成物の液
面を一定速度または連続的に速度変化させて下降せしめ
ることにより、基材に液状組成物を塗布した後、加熱硬
化および/または乾燥することを特徴とする硬化被膜の
製造方法に関するものである。[Means for Solving the Problems] That is, the present invention provides a method in which a liquid composition is placed in a tank provided with an outlet at the bottom, a substrate is immersed in the liquid composition, and then the liquid is poured from the outlet. The liquid composition is applied to a substrate by removing the composition and lowering the liquid level of the liquid composition at a constant speed or by continuously changing the speed, and then heat-curing and/or drying. The present invention relates to a method for producing a cured film.
本発明で言うところの基材としては本発明の目的を必要
とするものであれば何でもよいが、液状組成物を塗布さ
せるという観点から平板状、曲率を有する成型品、さら
には円筒状物品などに好ましく適用される。また成型品
は球面のみならず、非球面部分を有するものにも好まし
く適用される。The base material referred to in the present invention may be any material as long as it fulfills the purpose of the present invention, but from the viewpoint of applying the liquid composition, it may be a flat plate, a molded article with curvature, or even a cylindrical article. It is preferably applied to. Moreover, the molded product is preferably applied not only to a spherical surface but also to a molded product having an aspherical surface.
反射防止性向上がもたらす透過率向上などを目的とする
場合には透明な基材への適用が好ましい。When the purpose is to improve the transmittance brought about by improving the antireflection property, it is preferable to apply it to a transparent base material.
かかる基材に反射防止性を付与させる被膜を形成する液
状組成物としては、被膜形成物質のみでなる場合の他必
要な塗布作業性を付与するために各種の揮発性溶媒を含
んだものも用いることができる。ここで液状組成物とは
通常の塗布作業が適用できる範囲の粘度を有する組成物
であって適用温度で10ポイズ以下、好ましくは1ボイ
ズ以下のものか用いられる。すなわちこれより高い粘度
を有する液状組成物は、均一な塗膜を得ることが困難で
ある。The liquid composition for forming a film that imparts antireflection properties to such substrates may consist of only a film-forming substance, or may contain various volatile solvents to impart the necessary coating workability. be able to. Here, the liquid composition is a composition having a viscosity within a range to which ordinary coating operations can be applied, and is 10 poise or less, preferably 1 poise or less at the application temperature. That is, it is difficult to obtain a uniform coating film with a liquid composition having a viscosity higher than this.
本発明における硬化被膜の製造方法とは、下部に流出口
を設けた槽内に液状組成物を入れ、その中に基材を浸漬
したのち流出口より液状組成物を取り除くことにより液
状組成物の液面を一定速度または連続的に速度変化、特
に高速度から徐々に速度を低下させて下降せしめること
により、基材の両面または片面に液状組成物を均一に塗
布する方法である。液面の下降速度および雰囲気条件な
どについてはそれぞれ実験的に定められなければならな
いが、薄膜の膜厚コントロールの観点から、下降速度は
0.5〜40an/分、より好ましくは1〜20cm/
分で行なわれる。さらに−度に塗布される基材の枚数は
生産性の点から決められるべきであり、とくに限定され
るものではない。 また上記の下降速度がこれより遅い
場合は、生産性が著しく低下し、液除去コート法を行な
うメリットが消失するばかりでなく、液状組成物の表面
層に濃度むらが発生しやすくなり膜厚むらなどが発が発
生する。そのため外観上の問題点が生ずる。The method for producing a cured film in the present invention involves putting a liquid composition into a tank with an outlet at the bottom, immersing a substrate therein, and then removing the liquid composition from the outlet. This is a method of uniformly applying a liquid composition to both or one side of a substrate by lowering the liquid level at a constant speed or by continuously changing the speed, particularly by gradually decreasing the speed from a high speed. The rate of descent of the liquid level and the atmospheric conditions must be determined experimentally, but from the perspective of controlling the thickness of the thin film, the rate of descent should be 0.5 to 40 an/min, more preferably 1 to 20 cm/min.
done in minutes. Furthermore, the number of substrates to be coated at one time should be determined from the viewpoint of productivity, and is not particularly limited. Furthermore, if the above-mentioned rate of descent is slower than this, productivity will drop significantly and the benefits of using the liquid removal coating method will not only be lost, but also concentration unevenness will easily occur on the surface layer of the liquid composition, resulting in uneven film thickness. etc., occurs. This causes problems in terms of appearance.
さらにこれより速い場合には、基材の上下部および前後
面に大きな膜厚むらを生じ、均一な反射防止膜が得られ
ないなどの問題点がある。Furthermore, if the coating speed is faster than this, there are problems such as large film thickness unevenness occurs on the upper and lower sides and front and rear surfaces of the substrate, making it impossible to obtain a uniform antireflection film.
また下降速度の調節については液状組成物が乱流を起さ
ないようにすることが好ましい。なぜなら下降面の上下
の乱れが激しくなると膜厚むらが生じ、均一な反射防止
または反射増加膜が得られないからである。つまり槽の
形状や流出口の大きさなども基材の形状や液状組成物に
合わせて実験的に定められなければならない。Further, in adjusting the descending speed, it is preferable to prevent the liquid composition from causing turbulence. This is because if the vertical disturbance of the descending surface becomes severe, unevenness in film thickness will occur, making it impossible to obtain a uniform anti-reflection or reflection-enhancing film. In other words, the shape of the tank and the size of the outlet must be determined experimentally in accordance with the shape of the substrate and the liquid composition.
塗布にあたっては各種の化学処理、物理処理を基材に適
用することで付着性を向上させることもできる。Adhesion can also be improved by applying various chemical and physical treatments to the base material during application.
液状組成物としては、それから形成された被膜が反射防
止または反射増加膜を形成するものであれば、すなわち
、すでに従来から提案されている前記の光学技術]ンタ
クトVo1.9.No、 8. 17〜23(197
り等に記載の要件を満たす反射防止膜を形成する組成か
らなるものであれば特に限定されるものではない。The liquid composition may be used if the coating formed from it forms an anti-reflection or reflection-enhancing film, that is, the above-mentioned optical technology [Tact Vol. 1.9. No, 8. 17-23 (197
The composition is not particularly limited as long as it has a composition that forms an antireflection film that satisfies the requirements described in .
例えば液状組成物を塗布するという観点から、透明な被
膜形成性を有する有機材料あるいは無機系材料を溶剤に
分散または溶解させたものが好ましく使用される。For example, from the viewpoint of applying a liquid composition, it is preferable to use an organic material or an inorganic material having the ability to form a transparent film dispersed or dissolved in a solvent.
またそれ自身が液状であるものは、それ単独でも使用可
能であるが、適当な溶剤に希釈して使用することも可能
である。これらの材料は透明性をそこなわない範囲で2
種以上を混合して使用することも可能である。Further, those that are liquid themselves can be used alone, but they can also be used after being diluted with a suitable solvent. These materials can be used within the range of 2.
It is also possible to use a mixture of more than one species.
硬化被膜の形成に好ましく使用される比較的屈折率の高
い被膜形成性物質として用いられる有機材料としては、
例えばポリスチレン、ポリスチレン共重合体、ポリカー
ボネート、ポリスチレン以外の芳香環、複素環、脂環式
環状基またはフッ素以外のハロゲン基を有する各種重合
体組成物、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ないしエポ
キシ樹脂などを硬化剤とする各種熱硬化性樹脂形成性組
成物、脂環式ないしは芳香族イソシアネートおよびまた
はこれらとポリオールからなるウレタン形成性組成物、
および上記の化合物に2重結合を導入することにより、
ラジカル硬化を可能にした各種変性樹脂またはプレポリ
マを含む組成物などが好ましく用いられる。Organic materials used as film-forming substances with a relatively high refractive index that are preferably used to form a cured film include:
For example, cure polystyrene, polystyrene copolymers, polycarbonates, various polymer compositions containing aromatic rings other than polystyrene, heterocycles, alicyclic groups, or halogen groups other than fluorine, melamine resins, phenolic resins, or epoxy resins. Various thermosetting resin-forming compositions as agents, urethane-forming compositions comprising alicyclic or aromatic isocyanates and/or these and polyols,
and by introducing a double bond into the above compound,
Compositions containing various modified resins or prepolymers that enable radical curing are preferably used.
一方、無機系材料としても被膜形成性を有し、溶剤に分
散し得るか、それ自身が液状であるものが用いられ、具
体的な代表例としては、各種元素のアルコキシド、有機
酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物がある。こ
れらの好適な例としては、チタンテトラエトキシド、チ
タンテトラプロポキシド、チタンテトラ−n−プロポキ
シド、チタンテトラ−n−ブトキシド、チタンテトラ−
$CC−ブトキシド、チタンテトラ−1e「1−ブトキ
シド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリ
ーミープロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、ア
ンチモントリエトキシド、アンチモントリブトキシド、
ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラ−
1−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−プロポキ
シド、ジルコニウムテトラ−n−ブトキシド、ジルコニ
ウムテトラ−5ee −ブトキシド、ジルコニウムテト
ラ−1erl−ブトキシドなどの金属アルコレート化合
物、さらにはジイソプロポキシチタニウムビスアセチル
アセトネート、ジ−ブトキシチタニウムビスアセチルア
セトネート、ジ−エトキシチタニウムビスアセチルアセ
トネート、ビスアセチルアセトンジルコニウム、アルミ
ニウムアセチルアセトネート、アルミニウムジ−n−ブ
トキシドモノエチルアセトアセテート、アルミニウムジ
−ミープロポキシドモノメチルアセトアセテート、トリ
ーローブトキシドジルコニウムモノエチルアセトアセテ
ートなどのキレート化合物、さらには炭酸ジルコニール
アンモニウム、あるいはジルコニウムを主成分とする活
性無機ポリマーなどを挙げることができる。On the other hand, inorganic materials that have film-forming properties and can be dispersed in solvents or are liquid themselves are used. Typical examples include alkoxides of various elements, salts of organic acids, There are coordination compounds combined with coordination compounds. Suitable examples of these include titanium tetraethoxide, titanium tetrapropoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-n-butoxide, titanium tetra-
$CC-butoxide, titanium tetra-1e "1-butoxide, aluminum triethoxide, aluminum treaty propoxide, aluminum tributoxide, antimony triethoxide, antimony tributoxide,
Zirconium tetraethoxide, zirconium tetra-
Metal alcoholate compounds such as 1-propoxide, zirconium tetra-n-propoxide, zirconium tetra-n-butoxide, zirconium tetra-5ee-butoxide, zirconium tetra-1erl-butoxide, and even diisopropoxytitanium bisacetylacetonate. , di-butoxytitanium bisacetylacetonate, di-ethoxytitanium bisacetylacetonate, bisacetylacetone zirconium, aluminum acetylacetonate, aluminum di-n-butoxide monoethylacetoacetate, aluminum di-propoxide monomethylacetoacetate, tri- Examples include chelate compounds such as lobe toxide zirconium monoethyl acetoacetate, zirconyl ammonium carbonate, and active inorganic polymers containing zirconium as a main component.
一方、それ単独では使用できないが、前記の有機材料ま
たは無機系材料と透明性を損わない範囲で使用可能な無
機化合物としては、アルミニウム、チタニウム、ジルコ
ニウム、アンチモン、ケイ素などの金属元素の酸化物が
好ましく用いられる。On the other hand, oxides of metal elements such as aluminum, titanium, zirconium, antimony, and silicon are examples of inorganic compounds that cannot be used alone but can be used with the above-mentioned organic or inorganic materials to the extent that transparency is not impaired. is preferably used.
これらは微粒子状で粉末ないしは水および、/またはそ
の他の溶媒中へのコロイド状分散体として提供されるも
のである。これらは上記の有機材料または無機系材料に
混合分散される。These are provided in the form of fine particles or as a colloidal dispersion in water and/or other solvents. These are mixed and dispersed in the above organic material or inorganic material.
また、低屈折率のものも使用可能であり、これらの使用
可能な材料としては、上記に述べた有機材料の他アクリ
ル系を含むビニル系共重合体、ポリエステル(アルキド
を含む)系重合体、繊維素系重合体、ウレタン系重合体
、およびこれらを硬化せしめる各種の硬化剤、硬化性官
能基を有する組成物などがある。In addition, materials with a low refractive index can also be used, and in addition to the organic materials mentioned above, vinyl copolymers including acrylic ones, polyester (including alkyd) polymers, Examples include cellulose polymers, urethane polymers, various curing agents for curing these, and compositions having curable functional groups.
さらに有機置換されたケイ素系化合物をこれに含めるこ
きができる。これらの有機系ケイ素化合物は一般式
%式%
であられされる化合物ないしはその加水分解生成物であ
る。ここでR1,R2は各々アルキル基、アルケニル基
、アリール基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ
基、メルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基
を有する炭化水素基、Xはアルコキシル基、アルコキシ
アルコキシル基、ハロゲンないしアシルオキシ基から選
ばれた加水分解可能な置換基、a、 bは各々0,1
または2でかつa十すが0. 1または2である。Furthermore, it is possible to include organically substituted silicon compounds. These organosilicon compounds are compounds represented by the general formula % or their hydrolysis products. Here, R1 and R2 are each an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a hydrocarbon group having a halogen group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a methacryloxy group or a cyano group, and X is an alkoxyl group, an alkoxyalkoxyl group, Hydrolyzable substituent selected from halogen or acyloxy group, a and b are 0 and 1, respectively
Or 2 and a tenth is 0. 1 or 2.
その他に好ましく使用される比較的屈折率の低い有機材
料からなる被膜形成性物質としては、芳香環を含まない
アクリル系を含むビニル系共重合体、フッ素置換された
各種ポリマ、芳香環を含まないポリエステル(アルキド
を含む)系重合体、繊維素系誘導体、シリコーン系ポリ
マ、炭化水素系ポリマないしはこれらのプレポリマまた
はこれらのうち硬化性官能基を有するものと硬化剤から
成る組成物がある。Other preferred film-forming substances made of organic materials with a relatively low refractive index include vinyl copolymers containing acrylics that do not contain aromatic rings, various fluorine-substituted polymers, and polymers that do not contain aromatic rings. There are compositions comprising polyester (including alkyd) polymers, cellulose derivatives, silicone polymers, hydrocarbon polymers, prepolymers thereof, or those having a curable functional group among these, and a curing agent.
また無機系材料としては各種アルキルシリケート類、各
種アリールシリケート類、各種テトラカルボキシシラン
類などの無機系ケイ素化合物がある。これら無機系ケイ
素化合物の具体的な代表例としては、メチルシリケート
、エチルシリケート、n−プロピルシリケート、1so
−プロピルシリケート、n−ブチルシリケート、5ec
−ブチルシリケート、1erl−ブチルシリケート、n
−へキシルシリケート、フェニルシリケート、テトラア
セトキシシラン、テトラ(2−メタクリロキシ)エトキ
シシラン、テトラメトキシエトキシシランなどを挙げる
ことができる。Inorganic materials include inorganic silicon compounds such as various alkyl silicates, various aryl silicates, and various tetracarboxysilanes. Specific representative examples of these inorganic silicon compounds include methyl silicate, ethyl silicate, n-propyl silicate, 1so
-Propyl silicate, n-butyl silicate, 5ec
-butyl silicate, 1erl-butyl silicate, n
Examples include -hexyl silicate, phenyl silicate, tetraacetoxysilane, tetra(2-methacryloxy)ethoxysilane, and tetramethoxyethoxysilane.
さらには有機置換されたケイ素系化合物も好ましく使用
される。これらの有機ケイ素化合物は一般式
%式%
で表わされる有機系ケイ素化合物およびまたはその加水
分解物である。Furthermore, organically substituted silicon compounds are also preferably used. These organosilicon compounds are organosilicon compounds represented by the general formula % and/or hydrolysates thereof.
ここでR3,R4は各々アルキル基、アルケニル基、ア
リール基またはハロゲン基、メタクリルオキシ基ないし
シアノ基を有する炭化水素である。Here, R3 and R4 each represent a hydrocarbon having an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a halogen group, a methacryloxy group or a cyano group.
またR5は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシアル
キル基またはアシル基であり、Cおよびdは0または1
であり、c+dは1または2である。R5 is an alkyl group, alkoxyalkyl group, or acyl group having 1 to 8 carbon atoms, and C and d are 0 or 1.
and c+d is 1 or 2.
これら有機ケイ素化合物の具体的な代表例としては、グ
リシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメ
チルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリ
メトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシ
シラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、
β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキ
シプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルト
リエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン
、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、γ
グリシドキシプロビルトリフエノキシシラン、α−グリ
シドキシブチルトリメトキシシラン、αグリシドキシブ
チルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリ
メトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシ
シラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリ
シドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシ
ブチルトリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)メチルトリメトキシシラン、(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチ
ルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)エチルトリプロポキシシラン、β−(3,4
−エポキシシクロヘキシル)エチルトリブトキシシラン
、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
メトキシエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリフエノキシシラン、γ−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシ
ラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピ
ルトリエトキシシラン、δ(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)ブチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)ブチルトリエトキシシラン、グ
リシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキ
シメチルメチルジェトキシシラン、α−グリシドキシエ
チルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチル
メチルジェトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチ
ルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジ
ェトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、αグリシドキシプロピルメチルジェトキ
シシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジェトキシ
シラン、β−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン
、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン
、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシエトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルエチルジェトキシシラン
、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルビニルジェトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルフエニルジメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルフエニルジエトキシシランなど
のエポキシ基含有有機ケイ素化合物およびその加水分解
物、さらにはメチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシランメチ
ルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、
エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン
、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシ
エトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニ
ルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン
、γりロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリア
セトキシシラン、3.3.3−1リフロロプロピルトリ
メトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエ
チルトリエトキシシラン、メチルトリフエノキシシラン
、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリ
エトキシシランなどのトリアルコキシ、トリアジルオキ
シまたトリフエノキシシラン類またはその加水分解物お
よび、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメ
トキシシラン、ジメチルジェトキシシラン、フェニルメ
チルジェトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジェトキシシ
ラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メチクリルオ
キシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリル
オキシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−メルカプ
トプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルメチルジェトキシシラン、γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジェ
トキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチル
ビニルジェトキシシランなどジアルコキシシランまたは
ジアシルオキシシラン類またはその加水分解物を挙げる
ことができる。Specific representative examples of these organosilicon compounds include glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, α-glycidoxyethyltrimethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, and β-glycidoxyethyltriethoxysilane. - glycidoxyethyltrimethoxysilane,
β-glycidoxyethyltriethoxysilane, α-glycidoxypropyltriethoxysilane, α-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxysilane , γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltripropoxysilane, γ-glycidoxypropyltributoxysilane, γ-
Glycidoxypropyltrimethoxyethoxysilane, γ
Glycidoxypropyltriphenoxysilane, α-glycidoxybutyltrimethoxysilane, α-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltrimethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ - glycidoxybutyltrimethoxysilane,
γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, δ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, δ-glycidoxybutyltriethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl)methyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) ) Methyltriethoxysilane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltripropoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltripropoxysilane
-Epoxycyclohexyl)ethyltributoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxyethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltriphenoxysilane, γ-(3,
4-Epoxycyclohexyl)propyltrimethoxysilane, γ-(3,4-epoxycyclohexyl)propyltriethoxysilane, δ(3,4-epoxycyclohexyl)butyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)butyl Triethoxysilane, glycidoxymethylmethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyljethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyljethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldimethoxy Silane, β-glycidoxyethylmethyljethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, β-glycidoxypropyl Methyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldipropoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldibutoxysilane,
γ-glycidoxypropylmethyldimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiphenoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylethyljethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyl dimethoxysilane,
γ-glycidoxypropylvinyljethoxysilane, γ
-glycidoxypropylphenyldimethoxysilane, γ
-Epoxy group-containing organosilicon compounds such as glycidoxypropylphenyldiethoxysilane and their hydrolysates, as well as methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, and methyltributoxysilane. ,
Ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-lylopropyl Trimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3.3.3-1 Lifluoropropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane , γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-
Trialkoxy, triazyloxy, or triphenoxysilanes such as γ-aminopropyltrimethoxysilane, β-cyanoethyltriethoxysilane, methyltriphenoxysilane, chloromethyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, or their hydrolysis dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyljethoxysilane, phenylmethyljethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyljethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-methyclyloxy Propylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyljethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyljethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyljethoxysilane, methyl Examples include dialkoxysilanes or diacyloxysilanes such as vinyldimethoxysilane and methylvinyljethoxysilane, or hydrolysates thereof.
これらの有機系ケイ素化合物はキュア温度を下げ硬化を
より進行させるためには加水分解して使用することが好
ましい。These organosilicon compounds are preferably used after being hydrolyzed in order to lower the curing temperature and further promote curing.
さらには硬化促進剤として各種の硬化剤が使用可能であ
り、具体的な代表例としては、アルミニウムアセチルア
セトネート、アルミニウムエチルアセトアセテートビス
アセチルアセトナート、アルミニウムビスアセトアセテ
ートアセチルアセトナート、アルミニウムジ−n−ブト
キシドモノエチルアセトアセテート、アルミニウムジ−
ミープロポキシドモノメチルアセトアセテートなどのア
ルミニウムキレート化合物、テトライソブトキシチタン
、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタ
ンなどのチタネート化合物、各種有機カルボン酸のアル
カリ金属およびアルカリ土類金属などを挙げることがで
き、その添加量は硬化物性能および被膜の屈折率に関す
る要件を満たす範囲内で決められるべきである。Furthermore, various curing agents can be used as curing accelerators, and specific typical examples include aluminum acetylacetonate, aluminum ethyl acetoacetate bisacetylacetonate, aluminum bisacetoacetate acetylacetonate, and aluminum di-n -butoxide monoethyl acetoacetate, aluminum di-
Aluminum chelate compounds such as mepropoxide monomethyl acetoacetate, titanate compounds such as tetraisobutoxytitanium, diisopropoxybis(acetylacetonate) titanium, alkali metals and alkaline earth metals of various organic carboxylic acids, etc. The amount added should be determined within a range that satisfies requirements regarding the performance of the cured product and the refractive index of the coating.
これら前記の有機材料、無機系材料および有機ケイ素化
合物は、透明度を損わない範囲で2種以上混合して使用
することも可能である。Two or more of these organic materials, inorganic materials, and organosilicon compounds may be used in combination as long as transparency is not impaired.
一方、それ単独では使用できないが、基材との接着性、
表面硬度向上、染色性を向上させる目的で前記の有機材
料、無機系材料または有機系ケイ素化合物およびこれら
の混合物と透明性を損わない範囲で使用可能な無機化合
物としては、微粒子状シリカが好ましく用いられる。こ
の微粒子状シリカとしては、透明性の点から特にコロイ
ド状に分散したシリカゾルが好ましく用いられる。On the other hand, although it cannot be used alone, it has adhesive properties with the base material,
Fine particulate silica is preferably used as an inorganic compound that can be used with the above-mentioned organic materials, inorganic materials, organosilicon compounds, and mixtures thereof for the purpose of improving surface hardness and dyeing properties as long as transparency is not impaired. used. As the particulate silica, colloidally dispersed silica sol is particularly preferably used from the viewpoint of transparency.
これらの組成物は通常揮発性溶媒に希釈して塗布される
。溶媒として用いられるものは、特に限定されないが、
使用にあたっては組成物の安定性、基材に対するぬれ性
、揮発性などを考慮して決められるべきである。また溶
媒は1種のみならず2種以上の混合物として用いること
も可能である。These compositions are usually applied diluted in volatile solvents. The solvent used is not particularly limited, but
The use should be determined by taking into consideration the stability of the composition, wettability to the substrate, volatility, etc. Moreover, it is also possible to use not only one type of solvent but also a mixture of two or more types.
本発明の液状組成物中には、塗布時におけるフローを向
上させる目的で各種の界面活性剤を使用することも可能
であり、とくにジメチルシロキサンとアルキレンオキシ
ドとのブロックまたはグラフト共重合体、さらにはフッ
素系界面活性剤などが有効である。Various surfactants may be used in the liquid composition of the present invention for the purpose of improving the flow during application, and in particular, block or graft copolymers of dimethylsiloxane and alkylene oxide, and Fluorine surfactants are effective.
さらに耐候性を向上させる目的で組成物中に紫外線吸収
剤、また耐熱劣化向上法として酸化防市剤を添加するこ
とも容易に可能である。Furthermore, it is also possible to easily add an ultraviolet absorber to the composition for the purpose of improving weather resistance, and an oxidation preventive agent as a method for improving heat deterioration resistance.
このようにして塗布された液状組成物を加熱硬化および
/または乾燥することにより、反射防止膜とすることが
できる。加熱方法としては熱風、赤外線などで行なうこ
とが可能である。また加熱温度は適用される基体および
使用される液状組成物によって決定されるべきであるが
、通常は50〜250℃、より好ましくは60〜200
℃が使用される。これより高温になると熱分解などが起
って黄変などの問題を生ずる。By heating and/or drying the liquid composition applied in this manner, an antireflection film can be obtained. As a heating method, hot air, infrared rays, etc. can be used. The heating temperature should be determined depending on the substrate to be applied and the liquid composition used, but is usually 50 to 250°C, more preferably 60 to 200°C.
°C is used. If the temperature is higher than this, thermal decomposition may occur, causing problems such as yellowing.
さらに硬化性官能基、例えば重合体もしくはオリゴマ中
の二重結合などを利用して紫外線、電子線、γ線などの
放射線を用いて硬化させることもできる。Furthermore, it is also possible to use curable functional groups such as double bonds in polymers or oligomers and to cure them using radiation such as ultraviolet rays, electron beams, and gamma rays.
また本発明の塗布膜の膜厚は液状組成物の固形分および
コーティング条件によってコントロールされるものであ
る。Further, the thickness of the coating film of the present invention is controlled by the solid content of the liquid composition and coating conditions.
本発明の基材の代表的なものとしては、ガラス、プラス
チック材料が挙げられる。上記のプラスチック材料とし
てはポリメチルメタクリレ−1・およびその共重合体、
ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネートポリマ(CR−39)、ポリエステルとくに
ポリエチレンテレフタレートおよび不飽和ポリエステル
、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩化ビニル、
ポリウレタン、エポキシ樹脂などが好ましく使用される
。さらに被覆材料で被覆された上記のプラスチック、ガ
ラスなどの基材も好ましく使用される。Typical base materials of the present invention include glass and plastic materials. The above plastic materials include polymethyl methacrylate-1 and its copolymer,
Polycarbonate, diethylene glycol bisallyl carbonate polymer (CR-39), polyester especially polyethylene terephthalate and unsaturated polyester, acrylonitrile-styrene copolymer, vinyl chloride,
Polyurethane, epoxy resin, etc. are preferably used. Furthermore, base materials such as the above-mentioned plastics and glass coated with coating materials are also preferably used.
とくに本発明の基材と接する反射防止あるいは反射増加
膜の被覆材料に′よって付着性、硬度、耐薬品性、耐久
性、染色性などの諸物性を向上させることができる。ま
た硬度向上のためにはこれまでプラスチックの表面高硬
度化被膜として知られている各種の材料を適用したもの
を用いることができる(特公昭50−28092号、特
公昭50−28446号、特公昭50−39449号、
特公昭51−24368号、特開昭52−112698
号、特公昭57−2735号)。In particular, various physical properties such as adhesion, hardness, chemical resistance, durability, and dyeability can be improved by coating the anti-reflection or reflection-enhancing film in contact with the substrate of the present invention. In addition, in order to improve the hardness, it is possible to use various materials that have been applied as coatings for hardening the surface of plastics (Japanese Patent Publication No. 50-28092, Japanese Patent Publication No. 50-28446, Japanese Patent Publication No. 50-28446, No. 50-39449,
Japanese Patent Publication No. 51-24368, Japanese Patent Publication No. 52-112698
No., Special Publication No. 57-2735).
以下実施例より本発明の詳細な説明するが、これに限定
されるものではない。The present invention will be described in detail below using Examples, but is not limited thereto.
実施例1
(1)アンダーコーティング組成物の調製(a) ビ
ニルトリエトキシシラン加水分解物の調製
ビニルトリエトキシシラン3720.2gに酢酸279
.1gを添加し、20℃にコントロールしながら0.0
5規定塩酸水溶液1053.9gを撹拌−ドに滴下混合
して、加水分解物を得た。Example 1 (1) Preparation of undercoating composition (a) Preparation of vinyltriethoxysilane hydrolyzate 279 g of acetic acid was added to 3720.2 g of vinyltriethoxysilane.
.. Add 1g and control the temperature at 20℃ to 0.0
1,053.9 g of a 5N aqueous hydrochloric acid solution was added dropwise to the stirrer to obtain a hydrolyzate.
(b) メチルトリメトキシシラン加水分解物の調製
メチルトリメトキシシラン5332.8gに酢酸406
.3gを添加し、20℃にコントロールしながら0.0
1規定塩酸水溶液2107.7gを撹拌下に滴下混合し
て、加水分解物を得た。(b) Preparation of methyltrimethoxysilane hydrolyzate Add 406 g of acetic acid to 5332.8 g of methyltrimethoxysilane.
.. Add 3g and control the temperature at 20℃ to 0.0
2107.7 g of a 1N aqueous hydrochloric acid solution was added dropwise to the mixture while stirring to obtain a hydrolyzate.
(C)塗料の調製
前記(a)、 (b)で調製したそれぞれのシラン加水
分解物を混合し、さらにキシレン1146.67g1酢
酸ブチル286.67g、シリコーン系界面活性剤21
..5g、酢酸ソーダ28.67gを添加し、均一に溶
解させて塗料とした。(C) Preparation of paint The respective silane hydrolysates prepared in (a) and (b) above were mixed, and further 1146.67 g of xylene, 286.67 g of butyl acetate, and 21 g of silicone surfactant were added.
.. .. 5 g and 28.67 g of sodium acetate were added and uniformly dissolved to form a paint.
(2)アンダーコートの塗布およびキュア前項(1)で
調製したアンダーコート組成物を片面の全面を剥離性被
膜で被覆したポリメチルメタクリレート注型板に浸漬コ
ート法(引き上げ速度20cm/分)で塗布し、60℃
の熱風乾燥機で30分間キュアし、透明基体とした。(2) Application and curing of undercoat The undercoat composition prepared in the previous section (1) is applied to a polymethyl methacrylate casting plate whose entire surface on one side is coated with a releasable film using a dip coating method (pulling speed 20 cm/min). 60℃
It was cured for 30 minutes in a hot air dryer to obtain a transparent substrate.
(3)第1層コーティング組成物の調製ビーカー中にn
−プロピルアルコール1.781. 。(3) Preparation of the first layer coating composition In a beaker,
-Propyl alcohol 1.781. .
72g1エチルアルコール1760.69g、酢酸75
.15gを添加撹拌する。さらにシリコーン系界面活性
剤1.1gを添加し、この混合溶液中に室温にて撹拌し
ながらメタノール分散コロイド状シリカ(平均粒子径1
2±1mμ、固形分30%) I−64,67g、さら
にテトラ−n−ブチルチタネート212.93gを添加
して、コーティング組成物とした。72g 1 ethyl alcohol 1760.69g, acetic acid 75g
.. Add 15 g and stir. Further, 1.1 g of silicone surfactant was added, and methanol-dispersed colloidal silica (average particle size 1.
2±1 mμ, solid content 30%) 67 g of I-64 and 212.93 g of tetra-n-butyl titanate were added to prepare a coating composition.
(4)第2層コーティング組成物の調製(a) シラ
ン加水分解物の調製
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン550g
に0.01規定塩酸水溶液125.85gを10℃にコ
ントロールしながら撹拌下で滴下混合した。滴下終了後
室温でさらに1時間撹拌を行ないシラン加水分解物を得
た。(4) Preparation of second layer coating composition (a) Preparation of silane hydrolyzate 550 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane
125.85 g of a 0.01N hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise and mixed with stirring while controlling the temperature at 10°C. After the dropwise addition was completed, stirring was continued for an additional hour at room temperature to obtain a silane hydrolyzate.
(b) コーティング組成物の調整
前記シラン加水分解物669.08g中に撹拌しながら
メチルアルコール9685.65g、エチレングリコー
ル3179.79g、水126゜98g、シリコーン系
界面活性剤15.42g。(b) Preparation of coating composition 9685.65 g of methyl alcohol, 3179.79 g of ethylene glycol, 126.98 g of water, and 15.42 g of silicone surfactant were added to 669.08 g of the silane hydrolyzate with stirring.
(3)で使用したと同じメタノール分散コロイド状シリ
カ1.285 gとアルミニウムアセチルアセトナ−)
38.55gを添加し充分撹拌を行なってコーティング
組成物とした。1.285 g of the same methanol-dispersed colloidal silica used in (3) and aluminum acetylacetoner)
38.55 g was added and sufficiently stirred to prepare a coating composition.
(5)塗布、キュア
まず前項(3)で調製した第1層コーティング組成物を
用いて、前項(2)の基体に浸漬コート法(引き上げ速
度10cm、’分)で塗布し、90℃で90分間加熱し
た。ついで第1層の上に前記第2層コーティング組成物
を以下のようにして塗布した。(5) Coating and curing First, the first layer coating composition prepared in the previous item (3) was applied to the substrate in the previous item (2) by a dip coating method (pulling speed 10 cm, minutes), and the coating composition was coated at 90°C for 90 minutes. Heated for minutes. The second layer coating composition was then applied on top of the first layer as follows.
すなわち、下部に流出口を設けた槽内に第2層コーティ
ング゛組成物を入れ、この中に第1層コーティング波膜
が設けられた基材を浸漬したのち、液面の下降速度を4
cm/分の一定速度で液面を下降せしめて、第2層コー
ティング組成物を塗布した。その後、90℃で4時間加
熱硬化させた。その後、剥離性被膜を除去したところ、
得られた基体は全光線透過率が94.9%で片面のみが
良好な反射防1ト効果を有し、反射光色は赤紫色の均一
なもので全面にムラかなかった。That is, the second layer coating composition is placed in a tank with an outlet at the bottom, and the base material provided with the first layer coating wave film is immersed in the tank.
The second layer coating composition was applied by lowering the liquid level at a constant rate of cm/min. Thereafter, it was heated and cured at 90° C. for 4 hours. After that, when the peelable coating was removed,
The obtained substrate had a total light transmittance of 94.9%, only one side had a good antireflection effect, and the color of the reflected light was a uniform reddish-purple color with no unevenness over the entire surface.
実施例2
第2層コーテイング膜を設けず、かつ第1層コーテイン
グ膜のコーティング方法を以下に変更する以外は、すべ
て実施例1と同様に行った。Example 2 Everything was carried out in the same manner as in Example 1 except that the second layer coating film was not provided and the coating method of the first layer coating film was changed as follows.
(1)第1層コーティング組成物の塗布、キュア実施例
1の第2層コーティング組成物と同様の方法を用いて、
塗布、キュアした。なお、下降速度はlOc+n/分の
一定速度に変更して、液面を下降させて塗布した。その
後、剥離性被膜を除去したところ、得られた基体は全光
線透過率が89゜2%で片面のみが良好な反射増加効果
を有するものであった。(1) Applying the first layer coating composition, using the same method as the second layer coating composition of Cure Example 1,
Applied and cured. The descending speed was changed to a constant speed of lOc+n/min, and the liquid level was lowered for coating. Thereafter, the peelable coating was removed, and the obtained substrate had a total light transmittance of 89.2% and only one side had a good reflection increasing effect.
実施例3
(1) コーティング用基材の調製
テトラブロムビスフェノールAのエチレンオキサイド2
モル付加体に1モルのアクリル酸をエステル化により縮
合させた水酸基含有化合物1モルに対し、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートを0゜9モル付加させた多官能アク
リレートモノマーを含むモノマー70重指部とスチレン
30重に部をイソプロピルパーオキサイドを重合開始剤
としてキャスト重合した基材を低温プラズマ処理を行い
、表面処理されたコーティング用基材を得た。得られた
樹脂の屈折率は1.61であった。Example 3 (1) Preparation of substrate for coating Tetrabromobisphenol A ethylene oxide 2
A monomer containing a polyfunctional acrylate monomer with 0.9 mol of hexamethylene diisocyanate added to 1 mol of a hydroxyl group-containing compound obtained by condensing 1 mol of acrylic acid to a molar adduct by esterification, and 30 styrene polymers. A base material obtained by cast polymerization using isopropyl peroxide as a polymerization initiator was subjected to low-temperature plasma treatment to obtain a surface-treated base material for coating. The refractive index of the obtained resin was 1.61.
(2)塗布、キュアおよび評価
実施例1において、基材を前記(1)項で得られた基材
に変更し、かつ、第1層を設けない以外は、同様にして
基体を得た。(2) Coating, Curing, and Evaluation A substrate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the substrate was changed to the substrate obtained in section (1) above, and the first layer was not provided.
得られた基体は全光線透過率が92.5%で片面のみが
良好な反射防止効果を有し、反射光色は淡いマゼンタ色
を有する均一なものであった。The obtained substrate had a total light transmittance of 92.5%, only one side had a good antireflection effect, and the color of reflected light was uniform with a pale magenta color.
[発明の効果]
本発明の製造方法によって得られた反射防止あるいは反
射増加膜は反射光色のむらがなく、均一な反射光色を有
し、極めて商品価値の高いものである。また従来の蒸着
法プロセスなどと比較して、生産性が著しく向上し、さ
らには大面積を有する物品への適用も容易に可能なもの
である。[Effects of the Invention] The anti-reflection or reflection-increasing film obtained by the production method of the present invention has an even and uniform reflected light color, and has extremely high commercial value. Furthermore, compared to conventional vapor deposition processes, productivity is significantly improved, and furthermore, it can be easily applied to articles having a large area.
Claims (1)
該液状組成物の中に基材を浸漬したのち、該流出口より
液状組成物を取り除き、液状組成物の液面を一定速度ま
たは連続的に速度変化させて下降せしめることにより、
基材に液状組成物を塗布した後、加熱硬化および/また
は乾燥することを特徴とする硬化被膜の製造方法。(1) Put the liquid composition into a tank with an outlet at the bottom,
After the substrate is immersed in the liquid composition, the liquid composition is removed from the outlet and the liquid level of the liquid composition is lowered at a constant speed or by continuously changing the speed,
A method for producing a cured film, which comprises applying a liquid composition to a substrate and then heating and curing and/or drying the composition.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2262697A JPH03213801A (en) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | Production of hardened film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2262697A JPH03213801A (en) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | Production of hardened film |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59078678A Division JPS60242401A (en) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | Preparation of reflection preventing film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03213801A true JPH03213801A (en) | 1991-09-19 |
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ID=17379342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2262697A Pending JPH03213801A (en) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | Production of hardened film |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03213801A (en) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS553019A (en) * | 1978-06-20 | 1980-01-10 | Ricoh Co Ltd | Pattern selection scanning device |
| JPS5950401A (en) * | 1982-09-16 | 1984-03-23 | Toray Ind Inc | Display device |
-
1990
- 1990-09-28 JP JP2262697A patent/JPH03213801A/en active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS553019A (en) * | 1978-06-20 | 1980-01-10 | Ricoh Co Ltd | Pattern selection scanning device |
| JPS5950401A (en) * | 1982-09-16 | 1984-03-23 | Toray Ind Inc | Display device |
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