JPH03214423A - 磁気記録媒体の塗布むら欠陥の検査方法 - Google Patents

磁気記録媒体の塗布むら欠陥の検査方法

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JPH03214423A
JPH03214423A JP819390A JP819390A JPH03214423A JP H03214423 A JPH03214423 A JP H03214423A JP 819390 A JP819390 A JP 819390A JP 819390 A JP819390 A JP 819390A JP H03214423 A JPH03214423 A JP H03214423A
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JP
Japan
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magnetic recording
recording medium
medium
wavelength
laser
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Application number
JP819390A
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English (en)
Inventor
Masaru Itaya
大 板谷
Hiroyuki Wakasugi
若杉 弘幸
Hiroshi Shudo
首藤 広
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH03214423A publication Critical patent/JPH03214423A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、高分子フィルム上に7−Fez01を主成分
とする磁性粉を結合剤とともに塗布してなる塗布型の磁
気記録媒体の製造工程における磁気記録媒体の塗布むら
欠陥を検査する方法に関する.(発明の概要) 本発明は、高分子フィルム上に7−Fez03を主成分
とする磁性粉を結合剤とともに塗布してなる塗布型の磁
気記録媒体の製造工程における磁気記録媒体の塗布むら
欠陥を、磁気記録媒体に波長が60on−ないし700
n―のレーザ光をスキャナを用いて走査して照射し、そ
の透過光を検出することによって、磁気記録媒体の広範
囲の領域を感度よく迅速に、信顛性よく検査できる方法
を提供しようとするものである。
〔従来の技術〕
磁気記録媒体として、高分子フィルム上にr −Pez
03を主成分とする磁性粉を塗布・乾燥し、磁性層を形
成して作製される塗布型の磁気記録媒体は広く使用され
ている。この場合、塗布むらにより特に磁性層の薄いと
ころがあると、その部分は磁気記録媒体としての特性を
満足に示さなくなり重大な欠陥となる。
従って、塗布型の磁気記録媒体の製造工程においては、
そのような塗布むら欠陥を早く検知して、製品に含まれ
ないようにしなければならない。この検査のための従来
の方法の一例として第4図に目視による検査法を模式的
に示す。ここで、■は被検査体である磁気記録媒体、4
2は照明のための蛍光体、43は検査者の肉眼である。
走行する(図中の矢印方向に)磁気記録媒体lを透過す
る透過光の目視による検査は、欠陥の検出感度はよいが
、検査者の疲労を伴い、見落としも生し易くまた検査の
高速化には対応し難いという問題がある。第5図は自動
化された類偵の欠陥検査の従来例を模式的に示したもの
であって、磁気記録媒体の磁性層に生じたピンホールや
キズ欠陥を検査する方法である。ここで、1は被検査体
である磁気記録媒体、52はハロゲンランプ、53はC
CDリニアイメージセンサである。
この方法では、走行する(図中の矢印方向に)磁気記録
媒体Iの一方の面側からハロゲンランプ52のような強
力な光源で照明を行い、他の面倒に設けたCCDリニア
イメージセンサ53で透過光及びその位置を検出するも
のである。この方法は、白色光源を用いているためにピ
ンホールのように磁性層がほぼ完全に脱落した欠陥の検
出には感度が高く有効であるが、磁性層がわずか薄くな
った塗布むらを検出する怒度は極めて低い。この方法に
おいて、後述の作用の項で述べる理由で、光源側ないし
センサ側に、波長600nmないし700nmの光フィ
ルタを付加することによって、塗布むらに対する検出感
度を多少改善できるが、この方法では、光の利用率が低
く強力な光源を必要とするので、光源からの発熱の磁気
記録媒体への影響も大きな問題である. 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明は、前述の現状に鑑み提案されるものであり、7
−Fe2O3を磁性層の主成分とする塗布型の磁気記録
媒体の磁性層の、特に所定厚よりも薄くなった塗布むら
欠陥を、発熱の問題もなく、感度よく、迅速に、信鎖性
よく検査できる磁気記録媒体の塗布むら欠陥の検査方法
を提供することを課題とする。
〔課題を解決するための手段] 本発明は、高分子フィルム上にγ−FezO.,を主成
分とする磁性粉を結合剤とともに塗布してなる塗布型の
磁気記録媒体の塗布むら欠陥を検査する方法であって、
塗布むらの中でも特に所定の塗布厚よりも薄くなった塗
布むらを磁気記録媒体の広範囲の領域について、感度よ
く、迅速に、信軌性よく、しかも発熱などの問題もなく
検査するために、磁気記録媒体に波長が600nmない
し700nmのレーザ光をスキャナを用いて走査して照
射し、磁気記録媒体を透過する透過光を検出することに
よって検査する磁気記録媒体の塗布むら欠陥の検査方法
である.ここで、レーザ光の光源として特に限定するも
のではないが、波長633nn+のHe−Neレーザは
良質のレーザビームが得られ、しかも低価格であるので
特に好ましい.また、レーザ光を走査するスキャナとし
ては、ガルバノミラ一式、ポリゴンミラー式、ホログラ
ム式、音響光学式などいずれのものも使用できる, 〔作用〕 高分子フィルム上に7−Fez03を主成分とする磁性
粉を結合剤とともに塗布してなる塗布型の磁気記録媒体
は磁性粉の光透過特性によって、波長が略600nmよ
り短い光を殆ど透過せず、それより波長が長くなるに従
って光を透過し易くなる傾向をもっている.従って、そ
のような磁気記録媒体の塗布むらを検出する光の波長と
しては、少なくとも600ns以上である必要がある。
一方、余り波長が長いと、所定の塗布厚に対する透過光
量が大きくなり過ぎて、薄くなった塗布むらの検出感度
は低くなってしまう。以上の観点から行った実験の結果
として、本発明の目的である塗布むらの検出には、波長
600n−ないし700r++++の光源を用いるのが
よい。また、レーザ光源から得られる光ビームをスキャ
ナを用いて走査することによって、被検査体である磁気
記録媒体の広い領域について塗布むら欠陥を惑度よく迅
速に検査できる。またこの場合、光源による発熱は殆ど
問題にならない。
〔実施例〕
本発明の実施例を図面を参照して以下に説明する。
第1図は本発明の磁気記録媒体の塗布むら欠陥の検査方
法の実施例を示す概要図である。ここで、lは磁気記録
媒体、2は波長633nmのHe−Neレーザ、3はガ
ルハノミラー式スキャナ、4は光ファイバ集光系、5は
光センサである。被検査体である磁気記録媒体1は、幅
広のポリエステルフィルム上にCo被着したy−Fe.
03からなる磁性粉と結合剤として塩ビー酢ビ共重合体
及びポリウレタン樹脂を含む磁性層を形成した塗布型の
磁気記録媒体である。tle−Neレーザ2から得られ
る波長が633nmの光ビームをスキャナ3を用いて、
磁気記録媒体lに一方の面側から磁気記録体1の走行方
向(図中の矢印方向)と略直角方向に走査して照射する
。一方、磁気記録媒体1の他面側に光ファイバ集光系4
が設けてあり、磁気記録媒体を透過した光はファイバ集
光系4で集光され、その他端に配設した光センサ5で検
出される. 第2図は、この実施例の方法による磁気記録媒体の塗布
むら欠陥の検出結果の一例を示す。第2図で透過光強度
が鋭くピークを示しているところが、薄くなった塗布む
ら欠陥の存在を示している。
第3図では比較のために、光源として波長780n一の
半導体レーザを用いた場合の検出結果の一例を曲線Aで
、また波長544n一のHe−Ne レーザを用いた場
合の検出結果の一例を曲線Bで示す。
波長780n一の半導体レーザを用いた場合には、曲線
Aで示されるように、欠陥以外の部分でもかなりの透過
光強度があり、そのために塗布むら欠陥の識別が難し《
なる。一方、波長544nmのHe−Neレーザを用い
た場合には、曲線Bで示されるように塗布むらの有無に
かかわらず殆ど光が透過していない.なお、本実施例で
は透過光の集光のために光ファイバ集光系4を使用した
が、このような集光系を用いずに、直接光走査域を受光
できる光センサを設けても同様の検出が可能である。
〔発明の効果〕
以上で説明したように、y−Fe.0.を主成分とする
磁性粉を用いた塗布型の磁気記録媒体の製造工程におい
て、磁気記録媒体の塗布むら欠陥を波長600nmない
し700ns+のレーザ光を走査して、その透過光を検
出することによって、磁気記録媒体の塗布むら欠陥を広
い領域について、発熱の問題もなく、感度よく、迅速に
、信鎖性よく、自動的に検出できるので、検査における
省大化、高信頼性化、高速化ができ、その効果は著しく
大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の磁気記録媒体の塗布むら欠陥の検査方
法の実施例を示す概要図、第2図は実施例で得られた塗
布むら欠陥の検出結果の一例、第3図は比較のための検
出結果例で、曲線Aは波長780nsの半導体レーザを
用いた場合、曲線Bは波長544n一のHe−Ne レ
ーザを用いた場合を示す。 第4図は従来の目視による磁気記録媒体の塗布むら欠陥
の検査方法を模式的に示した図、第5図は自動化された
従来のビンホール欠陥の検査の方法の一例を模式的に示
した図である。なお、各図面中の共通なものには同じ番
号を付した。 1−・−−−−−一・−・・磁気記録媒体2 −一一一
−−−−−−−− H e − N e (波長633
nm)レーザ3−−−−−−−−−−・一・−ガルバノ
ミラ一式スキャナ4−・・・・−−−−−−−−一光フ
ァイバ集光系5・・・・一・・・−・・一・・一光セン
サ挟査方渚の実施イ々1]と示す梃き図 検出紹果の−{ηlコ 第3図 比較のr:f)の挟出革吉果イ々1」

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 高分子フィルム上にγ−Fe_2O_3を主成分とする
    磁性粉を結合剤とともに塗布してなる磁気記録媒体の塗
    布むら欠陥を検査する方法において、前記磁気記録媒体
    に波長が600nmないし700nmのレーザ光をスキ
    ャナを用いて走査して照射し、前記磁気記録媒体を透過
    する透過光を検出することによって検査することを特徴
    とする磁気記録媒体の塗布むら欠陥の検査方法。
JP819390A 1990-01-19 1990-01-19 磁気記録媒体の塗布むら欠陥の検査方法 Pending JPH03214423A (ja)

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JP819390A Pending JPH03214423A (ja) 1990-01-19 1990-01-19 磁気記録媒体の塗布むら欠陥の検査方法

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JP (1) JPH03214423A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6548821B1 (en) 1999-06-21 2003-04-15 Komag, Inc. Method and apparatus for inspecting substrates
US6566674B1 (en) 1999-06-21 2003-05-20 Komag, Inc. Method and apparatus for inspecting substrates

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6548821B1 (en) 1999-06-21 2003-04-15 Komag, Inc. Method and apparatus for inspecting substrates
US6566674B1 (en) 1999-06-21 2003-05-20 Komag, Inc. Method and apparatus for inspecting substrates

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