JPH03214493A - Sense amplifier circuit and method for forming its source resistance - Google Patents

Sense amplifier circuit and method for forming its source resistance

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JPH03214493A
JPH03214493A JP9010390A JP1039090A JPH03214493A JP H03214493 A JPH03214493 A JP H03214493A JP 9010390 A JP9010390 A JP 9010390A JP 1039090 A JP1039090 A JP 1039090A JP H03214493 A JPH03214493 A JP H03214493A
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JP
Japan
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sense amplifier
amplifier circuit
transistor
common source
transistors
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Application number
JP9010390A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Yamauchi
寛行 山内
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 ( A’ X lの利川分野〕 本発明は、メモリ装置、特に゛1′:導体ダイナミ,ク
R A M装置のセンス増幅回路に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Icheon Field of A'Xl) The present invention relates to a sense amplifier circuit for a memory device, particularly for a conductor dynamic RAM device.

〔従釆の技術〕[Successful technology]

従来のセンス増幅回路を第16図を用いて説明する。第
16図において、(1)はセンス増幅部であって、 ・
対のメモリアレイ部(2)に挟まれるように配置され、
メモリアレイ部(2)の各メモリセル(3)に結合を有
するピント線(4)に接続された複数のNMOS型のフ
リップフ口,ブ型センス増幅回路(5)から構成されて
いる。(6)はセンス増幅回路(5)を構成するNMO
S型トランジスタ対の共通領域に接続された電11供給
線の配線抵抗、(7)は前記電圧供給線に電源線(8)
を接続するためのスイ,千、(9)はセンス増幅回路(
5)に供給する電源線(8)の配線抵1ノ“してあって
、センス増幅回路《5)の共通ソースノードに直接接続
されている配線の抵抗(8)と、外ii1電隙を供給ず
るバ,ドからセンス増幅回路駆動スイッチ(7)の間ま
でのれ(t)′Lを(9)で小している。
A conventional sense amplifier circuit will be explained using FIG. 16. In FIG. 16, (1) is a sense amplification section,
arranged so as to be sandwiched between a pair of memory array sections (2),
It is composed of a plurality of NMOS type flip-flop and bus type sense amplifier circuits (5) connected to a focus line (4) having a coupling to each memory cell (3) of the memory array section (2). (6) is an NMO that constitutes the sense amplifier circuit (5)
The wiring resistance (7) of the voltage supply line connected to the common area of the S-type transistor pair is the power supply line (8) connected to the voltage supply line.
(9) is a sense amplifier circuit (
5) and the wiring resistance (8) directly connected to the common source node of the sense amplifier circuit (5) and the outer ii1 electric gap. The distance (t)'L from the supply waveguide to the sense amplifier circuit drive switch (7) is reduced by (9).

通常、C M O S J”!のダイナミノクRAMの
回路では、NMOSI’l’lのセンス増幅回路だけで
はなく、P M O S l’;’lのセンス増幅回路
もビット線対(4)に接続されて、これらビット線(4
)の増幅動作に寄1ノ.するが、ここでは説明をより明
確にするために敢えて、PMOS型のセンス増幅回路を
省略している。
Normally, in a dynamic RAM circuit of C M O S J"!, not only the sense amplifier circuit of NMOS I'l'l but also the sense amplifier circuit of P M O S I';'l is connected to the bit line pair (4). These bit lines (4
) is affected by the amplification operation. However, in order to make the explanation clearer, the PMOS type sense amplifier circuit is intentionally omitted here.

次に、1・.記横成のセンス増幅回路の・連の動伯を第
17図のタイミングチャートを兼ねた動作波形図を参照
しながら説明する。
Next, 1. The operation of the sense amplifier circuit described above will be explained with reference to the operating waveform diagram shown in FIG. 17 which also serves as a timing chart.

I  t”toにおいて、行アドレスストローブイ,1
5ノか人力されるさ、行アドレスにより選択されたワー
ドlj(10)が1′/.ち1−がる。すると、メモリ
セル(3)に蓄積されていた電夕fとビz}ij(4)
にii積されていた電信との++r配分によりピント線
(4)が八Vだけの電位Xを生じる。
In I t”to, row address strobe, 1
When 5 words are manually input, the word lj (10) selected by the row address is 1'/. Chi1-garu. Then, the electric power f and the electric current f and ij (4) stored in the memory cell (3)
The focus line (4) produces a potential X of only 8 V due to the ++r distribution with the telegraph that was multiplied by ii.

II  t=toにおいて、センス増幅回路(5)の共
通ノース領域に接続された電圧供給線と電源線(8)と
を接続するスイッチ(7)をオンにする。
II At t=to, the switch (7) connecting the voltage supply line connected to the common north region of the sense amplifier circuit (5) and the power supply line (8) is turned on.

すると、ビ7}線対(4)の電{1′I差は片方のビ2
,ト線が低レベル側に増幅されることによって大きくな
る。第17図の破線で小tように、ビット線が高レベル
側に増幅されているのは、第16図においては図小して
いない通常のCMOS型のセンス増幅回路ではP M 
O S rt>のセンス増幅回路も動作するからである
。第16図に示すように、MOS型のセンス増幅回路だ
けを動作させた場合には実線に小すように、ピント線の
,;゛ムレベル側への増幅は行われない。ここでは面中
のためにPMOS型のセンス増幅回路の動作は説明しな
いが、NMOS型とは反対、つまり高レベル側にビット
線を増幅すること以外はNMOS型と同じであるので説
明は省略する。
Then, the difference in voltage {1'I of Bi7} wire pair (4) is equal to one Bi2
, becomes larger as the T line is amplified to the lower level side. The reason why the bit line is amplified to the high level side as indicated by the small dotted line in FIG.
This is because the sense amplifier circuit of O S rt> also operates. As shown in FIG. 16, when only the MOS type sense amplification circuit is operated, amplification toward the mm level side of the focus line is not performed, as shown by the solid line. The operation of the PMOS type sense amplifier circuit will not be explained here for the sake of space, but since it is the same as the NMOS type except that it amplifies the bit line to the high level side, which is the opposite of the NMOS type, the explanation will be omitted. .

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところで、ダイナミノクRAMの高集積化、高密度化に
伴い、チップ面積も増大し、チップ内部の一u源線の配
線長も長《なり、配線抵抗による電圧降ドが増加する傾
向にある。史に、個々のデバイスのイ1.頼性や低消費
電力化のために、電源電圧を降月する傾向にある。
By the way, with the increase in the degree of integration and density of Dynaminoku RAM, the chip area also increases, the wiring length of the 1U source line inside the chip also becomes longer, and the voltage drop due to wiring resistance tends to increase. Historically, each device's 1. There is a trend to lower the power supply voltage for reliability and lower power consumption.

このため、1゛.記従来構成をこのような電源線(8)
の配線J<の長い回路装置に適用した場合、先に述べた
配線抵抗(19)による電圧降ドの影響は川に大きくな
る。特に、最人の電流を供給しな《ではならないセンス
増幅回路(5)の動伯時では、この電j1降トにより人
きく供給電圧が降ドし、センス増幅回路(5)の増幅動
伯近延をl1じる。
For this reason, 1゛. The conventional configuration is like this power line (8)
When applied to a long circuit device with a long wiring J<, the effect of the voltage drop due to the wiring resistance (19) described above becomes even greater. In particular, when the sense amplifier circuit (5) is operating, which must not supply the most current, the supply voltage drops due to this voltage drop, and the amplification operating voltage of the sense amplifier circuit (5) decreases. Look at Chikanobu.

次に、電11供給線の配線抵抗(6)と市fA:I線(
8)の配線抵抗(9)とかセンス増幅回路(5)の増幅
遅延を誘允するプロセスを第18図をt!!(ILなが
ら説明する。
Next, the wiring resistance (6) of the power supply line 11 and the city fA:I line (
8) The process of inducing the amplification delay of the wiring resistance (9) and the sense amplifier circuit (5) is shown in Figure 18. ! (I will explain while IL.

第18図において、t”toでワード線(10)が選択
され、翫γら1゛.がると、そのワード線(10)に接
続されたメモリセル(3)が接続されているビット線(
4)にメモリセノレ(3)にIQき込まれていた−1i
も’tに対応して微小電{t/’, Xが7+’.Uる
In FIG. 18, the word line (10) is selected at t"to, and when the line γ is 1", the bit line to which the memory cell (3) connected to the word line (10) is connected is selected. (
-1i which had IQ written into memory sensor (3) in 4)
Also, corresponding to 't', there is a minute electric current {t/', and X is 7+'. Uru.

已体的には、メモリセル(3)にOVかノFき込まれて
いればΔVLが/l シるし、メモリセルにV,・,■
が8き込まれていれば後述するΔVl+  (=V2−
■,)か生じる。したがって、実際にはF&1数のビッ
ト線(4)には−ΔVLの微小電位差が生じるものもあ
れば、ΔVl1の微小電位差が生じるものもある。
Basically, if OV or F is written into the memory cell (3), ΔVL will be /l, and the memory cell will have V,...,■
If 8 is entered, ΔVl+ (=V2−
■, ) occurs. Therefore, in reality, some of the F&1 bit lines (4) have a minute potential difference of -ΔVL, while others have a minute potential difference of ΔVl1.

第18図には、メモリセル(3)に接続されているビッ
ト線(4)のうち、rr木のビット線(4》の中で(n
−I)木のビット線(4)はΔV++の微小電位差が牛
し、1本のビット線(4)だけがーΔVLの微小電位X
1が生じた場合を小している。
In FIG. 18, among the bit lines (4) connected to the memory cell (3), (n
-I) The wooden bit line (4) has a minute potential difference of ΔV++, and only one bit line (4) has a minuscule potential of -ΔVL
The case where 1 occurs is minimized.

この場合、センス増幅回路(5)を駆動するためにt 
” L l  でスイッチ(7》をオンにすると、第1
6図に小すように、NMOS型のセンス増幅回路(5)
のトランジスタ対の』1通ソースノード波形はその時点
から、前記共通ソースノードのlツ遊容iJに蓄えられ
ていた電4X:rを掃き出しながら0■に向かってトが
っていく。
In this case, in order to drive the sense amplifier circuit (5), t
” When you turn on the switch (7) with L l, the first
As shown in Figure 6, the NMOS type sense amplifier circuit (5)
From that point on, the waveform of the source node of the pair of transistors curves toward 0 while sweeping out the current 4X:r stored in the floating capacitor iJ of the common source node.

t=t2の115点でセンス増幅回路(5)のトランジ
スタがオンになり、共通ソースノードと前記オンになっ
たトランジスタに接続されているビ,1・11l(4)
が複数本、前記トランジスタを介して接続されるので、
前記共通ソースノードの電イ)“Iは容111が大きい
複数本のビット,l(4)の電位、つまりV1,.に 
一瞬、引寄せられることになる。1=12の時点でセン
ス増幅回路(5)のトランジスタがオンになり、動『I
を開始したセンス増幅回路(5)に接続されたビット線
(4)は増幅を開始するが、1=t2の時点てトランジ
スタがオンにならなかったセンス増幅回路(5)に接続
されたビ、,1・線(4)は増幅がなされないことにな
る。
At the 115 point of t=t2, the transistor of the sense amplifier circuit (5) is turned on, and the transistor connected to the common source node and the turned-on transistor is Bi,1.11l (4).
Since a plurality of are connected through the transistors,
The potential of the common source node a) "I" is the potential of multiple bits with large capacitance 111, l(4), that is, V1,.
For a moment, you will be drawn to it. At the time of 1=12, the transistor of the sense amplifier circuit (5) is turned on, and the
The bit line (4) connected to the sense amplifier circuit (5) that started the amplification starts amplification, but the bit line (4) connected to the sense amplifier circuit (5) whose transistor did not turn on at time 1=t2 , 1. Line (4) will not be amplified.

第18図に示すように、t=t+ の時点でセンス増幅
回路(5)が動作を開始できるものは、接続されている
ビット線(4)にΔVllの微小電荀差がl1シたもの
て、(n−1)個のセンス増幅回路(5)が動伯を開始
し、接続されているビット線(4)を図小のように増幅
する。しかし、ただ1個のーΔ■16の微小電(1’/
’. t’+が/l.Uたものは 瞬、,IS1レベル
側に引寄せられた共通ソースノードの電位がNrびV2
にトがるまて、つまりt=t:+上なるまで全く動イ′
1を開始できないことになる。
As shown in FIG. 18, the sense amplifier circuit (5) can start operating at time t=t+ only if the connected bit line (4) has a small voltage difference of ΔVll. , (n-1) sense amplification circuits (5) start amplification and amplify the connected bit lines (4) as shown in the figure. However, only one -Δ■16 microelectronic current (1'/
'. t'+ is /l. In the instant, the potential of the common source node attracted to the IS1 level side becomes Nr and V2.
Until it goes up, that is, t = t:+, there is no movement at all.
1 cannot be started.

ここで、(n−l)個のセンス増幅回路(5)が動作を
開始する共通ソースノード電(+’lV+  と、1個
のセンス増幅回路が動作を開始する共通ソースノードv
2 との差は微小電位差ΔVl+である。
Here, the common source node voltage (+'lV+) where (n-l) sense amplifier circuits (5) start operating, and the common source node v where one sense amplifier circuit starts operating
2 is a minute potential difference ΔVl+.

この現象がセンス増幅回路(5)の増幅J!J!雌の原
因である。この遅延時間t=ta と1 = 1 :+
の間隔てを−l工及的に短くすることがダイナミックR
AMのセンス増幅回路の設,:1には必四である。
This phenomenon is the amplification J! of the sense amplifier circuit (5). J! Female cause. This delay time t=ta and 1 = 1 :+
The dynamic R can be shortened by -l engineering.
This is essential for the construction of an AM sense amplifier circuit.

1−述した遅妊時間τは先に述べた配線抵抗(6)(9
)に人き《依イrすることは知られている乏ころで、今
後チップ面積の増大により配線抵抗(G)(9)が大き
くなれば、この問題は・層深刻となるものである。
1- The delay time τ mentioned above is determined by the wiring resistance (6) (9) mentioned earlier.
It is known that the wiring resistance (G) (9) becomes larger due to the increase in chip area in the future, and this problem will become even more serious.

以1゛の問題点は今後ダイナミ・ノクRAMのl1゜7
1集積化、高密度化により、史にチップの人面積化によ
りセンス増幅回路に供給する電源電流が大きくなり、ま
た、配線抵抗も太き《なる傾向にあるで益々深刻化する
と考えられる。
The problem with 1.
Due to single integration and high density, the power supply current supplied to the sense amplifier circuit has increased due to the increase in chip size, and the wiring resistance has also tended to become thicker, making this problem even more serious.

木発明は、1ユ記のような問題点に鑑みてなされたもの
で、ビット線の増幅遅延を少なくすることができるセン
ス増幅回路を提供することを11的とするものである。
The invention was made in view of the problems mentioned in item 1, and its eleventh object is to provide a sense amplifier circuit that can reduce the amplification delay of the bit line.

〔課題を解決するためのr段〕 一記11的を達成するために本発明の第1の構成ハ、メ
モリセルに結合を有する複数のビット線の各々に、接続
されたフリ,ブフロ,ブ型のセンス増幅回路において、
そのセンス増幅回路のトランジスタ対の各々を、複数の
並列接続されたトランジスタで構成し、これら・16列
接続された複数のトランジスタは各々異なる電流駆動能
力を有するトランジスタにより横成されていることを特
徴とするものである。
[R Stage for Solving the Problems] In order to achieve the 11th objective, the first configuration of the present invention is to provide a first configuration of the present invention, in which each of the plurality of bit lines connected to the memory cell is In the type sense amplifier circuit,
Each of the transistor pairs of the sense amplifier circuit is composed of a plurality of transistors connected in parallel, and each of the plurality of transistors connected in 16 columns is formed by a transistor having a different current driving ability. That is.

木発明の第2の構成は、センス増幅回路のトランジスタ
対の各々を、複数の並列接続されたMOS型トランジス
タで構成し、その並列接続されたM O S M:I 
トランジスタの各々は異なるソース扛C b”Lをイ1
するM O S +I;I }ランジスタで構成されて
いることを1,′I徴とするものである。
In the second structure of the invention, each of the transistor pairs of the sense amplifier circuit is composed of a plurality of parallel-connected MOS type transistors, and the parallel-connected MOSM:I
Each of the transistors has a different source voltage Cb"L.
1,'I is composed of transistors.

本発明の第3の構成は、センス増幅回路のトランジスタ
χ・1の共通ソース領域に接続された電11供給線に付
加容:11を接続することを特徴とするものである。
A third configuration of the present invention is characterized in that an additional capacitor 11 is connected to the power supply line 11 connected to the common source region of the transistor χ·1 of the sense amplifier circuit.

木発明の第4の構成は、各センス増幅回路のトランジス
タ対のしきい値電圧は、前記共通ソース領域に接続され
た電圧供給線に電源線を接続するスインチが設けられた
場所から遠い側の前記しきい値電圧.を近い側のものよ
り小さくしてあるることを特徴とするものである。
In a fourth configuration of the invention, the threshold voltage of the transistor pair of each sense amplifier circuit is set at the threshold voltage of the transistor pair on the side far from the location where the switch connecting the power supply line to the voltage supply line connected to the common source region is provided. The threshold voltage. It is characterized by being smaller than the one on the closer side.

本発明の第5の構成は、各センス増幅回路のトランジス
タ対の電流駆動能力は、前記共通ソース領域に接続され
た電圧供給線に、電源線を接続するスインチが設けられ
た場所から遠い側の前記電ゲt駆動能力を近い側のもの
より大きくしてあることを特徴とするものである。
In a fifth configuration of the present invention, the current driving capability of the transistor pair of each sense amplifier circuit is determined by the voltage supply line connected to the common source region on the side far from the location where the switch connecting the power supply line is provided. This device is characterized in that the driving capacity of the electric gate is made larger than that of the one on the nearby side.

本発明の第6の構成は、メモリセルに結合を有する複数
のビット線対の各々に、ソース領域を共通にして接続さ
れた複数のセンス増幅回路のトランジスタ対を構成する
トランジスタの各々を、酸化膜で゛I1導体基板と゛完
全に分離された活性化領域に形成し、前記トランジスタ
の基板電位を各々、前記活性化領域の接地場所で異なる
ように設定してあることを特徴とするものである。
A sixth configuration of the present invention is to oxidize each of the transistors constituting the transistor pairs of the plurality of sense amplifier circuits connected to each of the plurality of bit line pairs having a connection to the memory cell with a common source region. The transistor is formed in an activation region completely separated from the I1 conductive substrate by a film, and the substrate potential of each of the transistors is set to be different at a grounding point of the activation region. .

本発明の第7の構成は、メモリセルに結合を有する複数
のビット線対の各々に、ソース領域を共通にして接続さ
れた複数のセンス増幅回路のトランジスタ対を構成する
トランジスタ各々を、酸化膜で丁導体基板と完全に分離
された活性化領域に形成し、前記トランジスタの基板電
位を決定する前記話t’+化領域のJ.(板電位の供給
部と前記共通ソース領域の電f台の供給部とを共用させ
ていることを特徴とするものである。
In a seventh configuration of the present invention, each of the transistors constituting the transistor pairs of the plurality of sense amplifier circuits connected with a common source region to each of the plurality of bit line pairs having a connection to the memory cell is formed using an oxide film. J. is formed in an activation region completely separated from the conductor substrate, and determines the substrate potential of the transistor. (It is characterized in that the plate potential supply section and the supply section for the electric potential of the common source region are shared.

木発明の第8の構成は、メモリセルに結合を何する複数
のビ7}線対の各々にソース領域を共通にして接続され
た複数のセンス増幅回路をCMOSIIl′1の7リッ
プフロソプで構成し、NjFのMOSトランジスタ対の
前記共通ソース領域に接続された電圧供給線に電源線を
接続するスイン千を、前記ソース領域を共通にして列方
向に41んた複数のセンス増幅回路群の1一端あるいは
ド端に設け、/J 、P 型のMOSトランジスタ対の
前記共通ソ−ス領域に接続された電II供給線に電源線
を接続するスイ,チは前記N型のMOS}ランジスタ対
用のスイッチとは反対の端に設けることを特徴とするも
のである。
In the eighth structure of the invention, a plurality of sense amplifier circuits, each of which has a common source region connected to each of a plurality of V7 line pairs that couple to a memory cell, are composed of CMOS II 7-lip float transistors. , one end of a plurality of sense amplifier circuits connected in the column direction with the source regions in common. Alternatively, the switch which connects the power line to the power line II supply line connected to the common source region of the J and P type MOS transistor pairs is connected to the N type MOS transistor pair. It is characterized by being provided at the end opposite to the switch.

本発明の第3の構成は、メモリセルに結合を有する複数
のビット線対の各々にソース領域を共通にして接続され
た複数のセンス増幅回路を構成するMOS型トランジス
タのしきい値電汁を、同・゛11導体メモリチップI−
に形成される前記センス増幅回路以外の回路を構成する
MOS型トランジスタのしきい値電圧より小さく設定す
ることを特徴とするものである。
A third configuration of the present invention is to reduce the threshold voltage of MOS transistors constituting a plurality of sense amplifier circuits whose source regions are connected in common to each of a plurality of bit line pairs having coupling to a memory cell. , 11-conductor memory chip I-
It is characterized in that the threshold voltage is set lower than the threshold voltage of MOS type transistors forming circuits other than the sense amplifier circuit formed in the circuit.

本発明のソース抵抗形成方法は、メモリセルに結合を有
する複数のビット線の各々に接続されたフリソブフロッ
プ型のセンス増幅回路における並列接続されたMOSヤ
1トランジスタのソース6ず」域を゛11導体基板の活
性化領域1−で隣接する2つのゲート電極の間に設け、
その領域にL I) I)低潰度ll人を行い、次に、
前記2つのゲー1・電極にlfいに小なる程度に側壁酸
化膜を付?’tさせ、次1一稈のソース・ドレイン高c
J瓜rl入のマスクとすることを特徴とするセンス増幅
回路のソース抵抗の形成ノ」l人である。
The method for forming a source resistor of the present invention is to connect the sources 6 and 6 of the MOS transistors connected in parallel in a Frison flop type sense amplifier circuit connected to each of a plurality of bit lines having connections to a memory cell to a 11 conductor. provided between two adjacent gate electrodes in the active region 1- of the substrate,
Perform a low-intensity injection on that area, then:
Add a sidewall oxide film to the above two gate electrodes to a very small extent? 't, then 1 culm source/drain height c
This is a method for forming a source resistor of a sense amplifier circuit, which is characterized by using a mask containing a J.

〔作   用〕[For production]

本発明の第1の構成によると、初期の増幅時においては
、・1r列接続されたトランジスタ対の内、電流駆動能
方の小さいノ」のトランンスタ対を用いるために、共通
ソースノードとビット線との結合が弱くなり、前記共通
ソースノードが人き《、ビット線、ブリチャージ電位に
引寄せられることはな<、1゜.述した増幅遅廷τは小
さくなる。′ii廷時間τ経過した後、全てのビット線
に接続されたセンス増幅回路が初期増幅を開始した時点
で、史に、推列接続されたトランジスタ対の内、電流駆
動能方の人きいノ』のトランジスタ対も駆動させること
ができるので、1一述した増幅J!Ll廷τは小さくで
き、全体のビット線増幅もI,L (できる。
According to the first configuration of the present invention, at the time of initial amplification, the common source node and the bit line are The coupling between the common source node and the bit line becomes weaker, and the common source node is no longer attracted to the precharge potential of the bit line. The amplified delay τ described above becomes smaller. 'ii After a period of time τ has elapsed, when the sense amplifier circuits connected to all the bit lines start initial amplification, the current drive capability of the transistor pairs connected in series is determined. ” can also be driven, so the amplification J! mentioned above can also be driven. Ll and τ can be made small, and the overall bit line amplification can also be made as low as I,L.

本発明の第2の構成によると、初期増幅においては、複
数のセンス増幅回路の内、他より早期に動伯を開始した
ものは、そのトランジスタ対自体がイIするソース11
(抗により電圧降トをl1じ、その+11.期に動f1
を開始したトランノスタ対の電流駆動能力を抑える力向
に働く。このため、共通ソースノードの電位が複数のビ
ット線の電位に大きく引寄せられることもなく、最も遅
れて動作を開始するセンス増幅回路が大きく取り残され
て、大きな増幅遅廷を誂発することを防11.できる。
According to the second configuration of the present invention, in the initial amplification, one of the plurality of sense amplifier circuits that starts to move earlier than the others has its transistor pair itself
(The voltage drop is increased by l1 due to the resistor, and the voltage drop is increased by f1 in the +11. period.)
This acts as a force that suppresses the current driving ability of the transnostar pair that has started. This prevents the potential of the common source node from being greatly attracted to the potential of multiple bit lines, and prevents the sense amplifier circuit that starts operating the latest from being left behind and causing a large amplification delay. 11. can.

本発明の第3の構成によると、容}4値を最適化してや
れば、ビット線電位に引寄せられる程度も小さ《でき、
増幅遅起は小さくなるので、ソースノ一ドを共通にした
全てのセンス増幅回路が動伯を開始できるソースノード
電位に達するまでの遅雌時間を抑えることができる。
According to the third configuration of the present invention, by optimizing the capacitance value, the degree of attraction to the bit line potential can be reduced.
Since the amplification delay is reduced, the delay time required for all sense amplifier circuits using a common source node to reach a source node potential at which they can start amplification can be suppressed.

本発明の第4の構成によると、共通ソースノードに接続
された電圧供給線の配線抵抗による電圧降トの影響をし
きい値電圧の差で吸収できるので、センスアンプドライ
バーの近くに配置されたセンス増幅回路の増幅動作に比
較して、遠い側に配1?7されたセンス増幅回路の増幅
が極端に人きく遅れることを防ぐことができる。
According to the fourth configuration of the present invention, the effect of voltage drop due to the wiring resistance of the voltage supply line connected to the common source node can be absorbed by the difference in threshold voltage. Compared to the amplification operation of the sense amplifier circuit, it is possible to prevent the amplification of the sense amplifier circuit arranged on the far side from being extremely delayed.

木発明の第5の構成によると、共通ソースノードに接続
された電圧供給線の配線抵抗による電II降ドの影響で
、増幅動伯か遅れ勝ちなセンスアンプドライバーか遠い
側に配置されたセンス増幅回路の電流駆動能力を1−げ
、逆に近い側のセンス増幅回路の電流駆動能力をドげる
ことで前述した最も速い増幅動f’+のセンス増幅回路
と最も遅い増幅動作のセンス増幅回路の増幅時間の差を
小さくすることができ、その現象による増幅が速いビッ
ト線が遅いビット線へ′jえる1渉ノイズの影讐や前述
した従束例の問題点なとは抑制することができる。
According to the fifth configuration of the invention, due to the influence of voltage drop due to the wiring resistance of the voltage supply line connected to the common source node, the amplifier driver or the sense amplifier driver, which is lagging behind, or the sense amplifier driver located on the far side. By increasing the current drive capability of the amplifier circuit by 1- and decreasing the current drive capability of the sense amplifier circuit on the nearer side, we can create the sense amplifier circuit with the fastest amplification operation f'+ and the sense amplification circuit with the slowest amplification operation. It is possible to reduce the difference in the amplification time of the circuit, and to suppress the effect of interference noise caused by the phenomenon in which the bit line with faster amplification is transferred to the bit line with slower amplification, as well as the problem of the above-mentioned dependent example. I can do it.

本発明の第6の構成によると、センス増幅回路のトラン
ジスタ対それぞれが他のトランジスタ対と基板を共通に
しないようにすることによって形成でき、基板電位をI
’lll+に配置場所に依4rLて設定することが1工
能であり、1.述したウェルを用いる方法よりも,;h
集積化がIIJ能である。
According to the sixth configuration of the present invention, each transistor pair of the sense amplifier circuit can be formed by not sharing a substrate with other transistor pairs, and the substrate potential can be changed to I.
It is one skill to set 4rL to 'llll+ depending on the placement location, and 1. than the well-based method described above;
Integration is IIJ's ability.

本発明の第、7の構成によると、トランジスタ対h1に
ソ一なる基板電位を設定したいときに別途、基板電位供
給11を形成する領域を設ける必殼もなく、レイアウト
曲積も小さくて済む。また、トランジスタ対のソース電
極部と基板電極部が共通になっているため、前述した電
11供給線の配線抵抗による電11降ドが牛したとして
もその1%で、センスアンプドライバーから遠い領域に
配置されたトランジスタ対のノ1t板−ソース電極間電
位差が大きくなり、増幅J!!!fdの少ない高速のセ
ンス増幅回路が実現できる。
According to the seventh configuration of the present invention, when it is desired to set a substrate potential of 1 to the transistor pair h1, there is no need to separately provide a region for forming the substrate potential supply 11, and the layout curvature can be reduced. In addition, since the source electrode and substrate electrode of the transistor pair are common, even if the voltage drop due to the wiring resistance of the voltage supply line mentioned above is only 1%, it is in the area far from the sense amplifier driver. The potential difference between the plate and the source electrode of the pair of transistors arranged at becomes large, and the amplification J! ! ! A high-speed sense amplifier circuit with less fd can be realized.

本発明の第8の構成によると、電圧供給線の配線抵抗に
よる電1[降ドのために、スイッチから遠い側に配置さ
れているN型のセンス増幅回路のゲートーソース間電1
1.が小さくならないようにしてやれば、N型のセンス
増幅回路の増幅遅延分をP型のセンス増幅回路で補って
やることができる。
According to the eighth configuration of the present invention, due to the voltage drop due to wiring resistance of the voltage supply line, the gate-source voltage 1 of the N-type sense amplifier circuit disposed on the side far from the switch.
1. If it is made so that the value does not become small, the amplification delay of the N-type sense amplifier circuit can be compensated for by the P-type sense amplifier circuit.

木発明の第9の構成によると、センス増幅部のトランジ
スタ対のしきい値電圧を周辺回路やメモリセル部で使わ
れ′Cいるトランジスタのしきい値電圧よりも小さ《設
定することができる。
According to the ninth configuration of the invention, the threshold voltage of the transistor pair of the sense amplifier section can be set to be lower than the threshold voltage of the transistors used in the peripheral circuit and the memory cell section.

本発明のソース抵抗の形成方法によると、レイアウト面
積も小さく抑えることができ、電流駆動能方の人きなト
ランジスタ対との+Mi列接続が1I能になる。
According to the method for forming a source resistor of the present invention, the layout area can be kept small, and the +Mi column connection with a transistor pair having a small current drive capacity can be made 1I.

〔実 施 例〕〔Example〕

第1図〜第15図に本発明の実施例に係るセンス増幅回
路の回路図さ動作波形図を小す。なお、これらの図に小
す各実施例の回路において、第16図及び第17図に小
した従来例の回路と基本的には構成並びに動伯が共通す
る部分には共通の符吋を付してIr1Nを避けるために
その詳細な説明を省略する。
1 to 15 are circuit diagrams and operational waveform diagrams of a sense amplifier circuit according to an embodiment of the present invention. In addition, in the circuits of the respective embodiments shown in these figures, the parts that basically have the same configuration and moving numbers as the circuits of the conventional examples shown in FIGS. 16 and 17 are given common numbers. In order to avoid Ir1N, detailed explanation thereof will be omitted.

第」つJi例一 第1図は本発明の第1実施例に係るセンス増幅回路を,
J<シており、第1図(A)は“t.価回路を、第1図
(B)はその貝体的なレイアウトを小している。
Example 1 FIG. 1 shows a sense amplifier circuit according to a first embodiment of the present invention.
1 (A) shows a "t. value" circuit, and FIG. 1 (B) shows a small shell-like layout.

これらの図において、(I1)は電流駆動能方の大きい
トランジスタ対、(+21はトランジスタ対(11)と
比較して電流駆動能方の小さいトランジスタ対である。
In these figures, (I1) is a transistor pair with a large current drivability, and (+21) is a transistor pair with a small current drivability compared to transistor pair (11).

この実施例においCは、両7(m(+2)の電流駆動能
方の差をMOS型トラ/ジスタのゲート長を変えて実現
した。(13)は大能力トランジスタ対(11)の共通
ソースノードに接続された電圧供給線、(+4)は電流
駆動能方の小さい方のトランジスタ対(12)の共通ソ
ースノードに接続された電圧供給線である。
In this example, C is realized by changing the gate length of the MOS transistor/transistor to compensate for the difference in current drive capability of both 7(m(+2)).(13) is the common source of the large capacity transistor pair (11) The voltage supply line (+4) connected to the node is a voltage supply line connected to the common source node of the transistor pair (12) with the smaller current drive capability.

(15)はトランンスタ対のゲート電極と、ビット線(
4)とを接続するコンタクト、(IG)(+7)4;t
ソレぞれ前記共通ソースノードと電圧供給線(+3Hl
4)を接続するコンタクト、(+8)はトランジスタ対
のドレイン電極と前記ビ.7ト線(4)とを接続するコ
ンタクトである。
(15) is the gate electrode of the transistor pair and the bit line (
4), (IG)(+7)4;t
The common source node and the voltage supply line (+3Hl)
4), and (+8) is the contact connecting the drain electrode of the transistor pair and the above-mentioned V. This is a contact that connects to the 7-t wire (4).

1一記構成によれば、まず初期増幅においては、市流駆
動能方の小さい方のトランジスタ対(+2)Lか駆動さ
れないようにすると、従来例で述べたように、共通ソー
スノードが複数のピント線(4)と電流駆動能方の小さ
い方のトランジスタ対(12)を介して強く結合するこ
とはないので、共通ソースノードが大きくビット線電位
に引寄せられることもなく、従来例き比較して増幅遅延
時間τは小さ《できる。
According to the above configuration, first, in the initial amplification, if the transistor pair (+2)L with the smaller current drive capacity is not driven, as described in the conventional example, the common source node is connected to multiple transistors. Since there is no strong coupling between the focus line (4) and the transistor pair (12) with the smaller current drive capacity, the common source node is not attracted to the bit line potential to a large extent, and compared with the conventional example. The amplification delay time τ can be made small.

また、トランジスタ対(12)の電流駆動能力が小さい
ことによる増幅遅鉦は初期増幅を行い、全てのビット線
(4)が他に取り残されずに増幅を開始した特点で、電
流駆動能方の大きい方のトランジスタ対(II)も駆動
を開始させることで解決できる。
In addition, the amplification delay due to the small current drive ability of the transistor pair (12) performs initial amplification, and all bit lines (4) start amplification without being left behind, and the current drive ability is large. This problem can be solved by starting driving the other transistor pair (II) as well.

史に、この実施例においては、初期増幅において、ゲー
ト長の人きなMOS}ランジスタを用いるので、感度劣
化のL因であるしきい値電圧のプロセスばらつきを抑制
する効果も期待できる。
Historically, in this embodiment, since a MOS transistor with a small gate length is used in the initial amplification, it can be expected to have the effect of suppressing process variation in threshold voltage, which is the L cause of sensitivity deterioration.

■λ允丘叶 第2図及び第3図は本発明の第2実施例に係るセンス増
幅回路を示している。なお、これらの図に/J《す回路
において、前記第1実施例の回路と共通する部分には共
通の符号・を付して屯複を避けるためにその訂細な説明
を省略する。
■λ允子图2 and 3 show a sense amplifier circuit according to a second embodiment of the present invention. In the circuits shown in these figures, parts common to those of the circuit of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed explanation thereof will be omitted to avoid duplication.

第2図(A)は等価回路を、第2図(B)はその具体的
なレイアウトを小している。これらの図において、(2
1)はMOSI−ランンスタ対(12)のソース抵抗で
ある。このソース抵抗は第2図(B)のレイアウト図に
小すように、トランンスタ対(I2)のゲ一ト電極に挟
まれた活性化領域に形成する。その際、ゲート電極の間
隔によってソース抵抗(21)は自由に設定することが
できる。
FIG. 2(A) shows an equivalent circuit, and FIG. 2(B) shows its detailed layout. In these figures, (2
1) is the source resistance of the MOSI-run star pair (12). This source resistance is formed in the activation region sandwiched between the gate electrodes of the transistor pair (I2), as shown in the layout diagram of FIG. 2(B). At this time, the source resistance (21) can be freely set depending on the interval between the gate electrodes.

第3図(A)は第2図(B)の盟81ク拡人図、第3図
(B)は第3図(A)における切断線■一■に沿う断而
図である。これらの図において、特に、大きなソース抵
抗(2l)が必認である場合には、第3図(B)に小す
ように、ソース領域である前記ゲート電極で挟まれた活
性化領域に低膿度L I) l) il人(22)が行
われても、ソース・ドレイン高/ロ度lト人(23)は
行われないように、前記ゲート電極に側壁酸化膜(24
)を付着させることで前記高虜度注入(23)がソース
領域ではマスクされ、比較的大きなソース抵抗《21》
を得ることができる。
Figure 3 (A) is an enlarged view of the group 81 in Figure 2 (B), and Figure 3 (B) is a cutaway view taken along cutting line ■1■ in Figure 3 (A). In these figures, especially when a large source resistance (2l) is required, a low resistance is applied to the active region sandwiched between the gate electrodes, which is the source region, as shown in FIG. 3(B). A sidewall oxide film (24) is formed on the gate electrode so that the source/drain height/rotation (23) is not performed even if the filtration (22) is performed.
), the high-intensity implantation (23) is masked in the source region, resulting in a relatively large source resistance (21).
can be obtained.

この実施例のような構成にすれば、まず初期増幅におい
ては、複数のビット線(4)に各々接続された複数のセ
ンス増幅回路(5)のうち、他より早期に動f1を開始
したもの、つまり前記共通ソースノードとビット線(4
)の間にトランジスタ対(12)を介して電流を流した
ものは、そのトランジスタ対自体が有するソース抵抗(
21)により電11降ドをl1シ、その+,!期に動f
’+を開始したトランノスタ対(!2)の電流駆動能力
を抑える方向に働《。このため、第1実施例において説
明したように、前記共i1rlソースノードの電位が複
数のビット線(4)の電イ一’tに人き《引寄せられる
こともな《、最も遅れて動f’+を開始するセンス増幅
回路(5)が人きく取り残されて、大きな増幅j!I!
延を誘発することを防11できる。
If the configuration of this embodiment is adopted, first, in the initial amplification, one of the plurality of sense amplifier circuits (5) connected to the plurality of bit lines (4), which starts the operation f1 earlier than the others. , that is, the common source node and the bit line (4
) through the transistor pair (12), the source resistance (
21) makes the electricity 11 fall l1 shi, its +,! In the period f
It acts in the direction of suppressing the current driving ability of the transnostar pair (!2) that started '+. For this reason, as explained in the first embodiment, the potential of the i1rl source node is not attracted to the potential of the plurality of bit lines (4), and is moved most slowly. The sense amplification circuit (5) that starts f'+ is left behind, resulting in a large amplification j! I!
You can prevent 11 points from inducing a spread.

また、前記ソース抵抗(21)の形成方法として、第2
図(El)及び第3図(A)(B)に小した方法を用い
るき、レイアウト面積も小さく抑えることができ、,L
流駆動能方の人きなトランジスタ対( l l ) ト
(8 5列接続が1丁能になる。
Further, as a method for forming the source resistor (21), a second
When using the method shown in Figure (El) and Figures 3 (A) and (B), the layout area can also be kept small, and L
A large transistor pair (l l) with current drive capability (85 rows of connections becomes one transistor pair).

第4図は第1、第2実施例に小したセンス増幅回路(5
)の駆動時におけるタイミングチャートを兼ねた動0波
形図である。
FIG. 4 shows a small sense amplifier circuit (5
) is a dynamic zero waveform diagram that also serves as a timing chart when driving.

第1、第2実施例で説明した掻列接続されたトランジス
タ対(II)(12)のうちの電流駆動能方の小さい方
のトランジスタ対(12)またはソース抵抗(2l)が
接続されている方のトランジスタ対を1=1。で第Iの
センスアンプ活性化信シノで駆動して初期増幅を行い、
t”t+ で電流駆動能方の大きなトランジスタ対(I
1)またはソース抵抗(21)が接続されていない方の
トランジスタ対を第2のセンスアンプ活性化信号で駆動
する。
Of the cascade-connected transistor pairs (II) (12) described in the first and second embodiments, the transistor pair (12) or the source resistor (2l) with the smaller current drive capability is connected. 1=1 for the other transistor pair. is driven by the I-th sense amplifier activation signal to perform initial amplification.
At t”t+, a pair of transistors (I
1) or the transistor pair to which the source resistor (21) is not connected is driven by the second sense amplifier activation signal.

このような駆動方iノ、によれば、第11第2実施例の
センス増幅回路(5》において、前述のように高速なビ
ット線増幅を実現できる。
According to such a driving method, high-speed bit line amplification can be achieved as described above in the sense amplifier circuit (5) of the eleventh second embodiment.

第IJ直例一 第5図は本発明の第3実施例に係るセンス増幅H路の回
路図である。この図において、(25)はMOSトラン
ジスタで形成した容κである。この容+,}(25)を
センス増幅回路(5)(5゜)の共通ソースノードに接
続された電圧供給線に接続したものである。ここで、付
加容1+t(25)の容1誹値は複数のビット線(4)
の1ツ遊容f+j(2G)に比べて無視できない程1艷
の値、つまり数1・〜数+’l′pF程度の値である。
FIG. 5 is a circuit diagram of a sense amplification H path according to a third embodiment of the present invention. In this figure, (25) is a capacitor κ formed by a MOS transistor. This capacitor +,} (25) is connected to a voltage supply line connected to the common source node of the sense amplifier circuit (5) (5°). Here, the additive value of additive capacitance 1+t(25) is multiple bit lines (4)
It is a value of 1 ship that cannot be ignored compared to the 1 power capacity f + j (2G), that is, a value of approximately the number 1 to number + 'l' pF.

第6図はMOS}ランジスタで形成した容1,tを接続
したセンス増幅回路の共通ソースノードの動作波形図で
ある。
FIG. 6 is an operational waveform diagram of a common source node of a sense amplifier circuit in which capacitors 1 and t formed by MOS transistors are connected.

この実施例の構成によれば、第6図に小すように、容:
1F値を最適化してやれば、時間L = t r にお
いてピント線電位に引゛市せられる4′一度も小さくで
き、先に述べてきたような増幅遅延は小さくなる。例え
ば、容;旧直が大きい方の容:IIC+ を前記電圧供
給線に接続しておいた場合には、時間t=toと1+ 
の間は電圧供給線の容litが大きいので、容1.t値
が小さい方の容1sE C 2を接続した場合に比べて
電イ☆の降ド速度が遅くなっているが, 1=1の時点
でビット線(4)の電位に引寄せられる晴が少なくなる
ので、ソースノードを共通にした全てのセンス増幅回路
(5H5’)が動作を開始できるソースノード電位V=
V2に達するまでの遅延時間は容1ij C + の場
合がτ1、容f+t C :!の場合がτ2となり、そ
の差Δτは遅廷を抑えることができる。
According to the configuration of this embodiment, as shown in FIG. 6, the capacity:
By optimizing the 1F value, the 4' induced by the focus line potential at time L=tr can be made smaller, and the amplification delay as described above becomes smaller. For example, if the capacitor IIC+, which has a larger old directivity, is connected to the voltage supply line, then the time t=to and 1+
Since the capacity of the voltage supply line is large between 1 and 1. The falling speed of the electric current is slower than when the capacitor 1sE C 2 with the smaller t value is connected, but when 1=1, the electric potential attracted to the potential of the bit line (4) is Therefore, the source node potential V= at which all the sense amplifier circuits (5H5') with a common source node can start operating.
The delay time to reach V2 is τ1 in the case of 1ij C + , and the delay time until reaching V2 is τ1, and the delay time is τ1 in the case of 1ij C + , and the delay time until V2 is reached is τ1, and the delay time is τ1 in the case of 1ij C + . In the case of , τ2 becomes τ2, and the difference Δτ can suppress the delay.

次に、前述した電圧供給線に接続する付加容11kの構
成について述へる。
Next, the configuration of the additional capacitor 11k connected to the voltage supply line mentioned above will be described.

第7図(A)は共通ソースノードの一U位とゲート,U
極(29 H30 )の制御電ローの電位とのタイミン
グチャート、第7図(B)は共通ソースノード電荀とゲ
ー1・電極電位との差と、容fIt(25)の容κ値と
の関係を小すグラフである。
Figure 7 (A) shows the common source node at U and the gate, U.
The timing chart of the control voltage low potential of the pole (29 H30) and the difference between the common source node voltage and the gate electrode potential and the capacitance κ value of the capacitor fIt(25) are shown in FIG. 7(B). This is a graph that reduces the relationship.

第5図の破線で囲まれた部分が、前記NMO S’?!
 、P M Q S型のトランジスタ対の共通ソースノ
ードに接続された電圧供給線(27)(2B)にそれぞ
れ接続される付加容κである。図示例ではNMO S型
トランジスタのソースとドレイン電極を共通に前記電1
ト供給線(27 )(28 )にそれぞれ接続し、それ
ぞれのゲート電極(29H30)の電位を第7図(A)
に/1<すように、初期増幅の開始時t=tll〜1=
1と、その以後t : L + 以降で変化させ、【。
The part surrounded by the broken line in FIG. 5 is the NMOS'? !
, P M Q are additional capacitors κ connected to the voltage supply lines (27) (2B) connected to the common source node of the S type transistor pair, respectively. In the illustrated example, the source and drain electrodes of the NMOS S-type transistor are connected to the electrode 1 in common.
The potential of each gate electrode (29H30) is shown in Fig. 7 (A).
At the start of the initial amplification, t=tll~1= so that /1<
1, and then change it after t: L +, [.

〈1<1+ では第7図(B)に小すように、MOS}
ランジスタ容fat(25)が最人の容jjt値C w
axをもつようにt)tl ではMOS}ランジスタを
カッI・オフさせ、最小の容iI1値C sinをもつ
ようにする。
(If 1<1+, MOS as shown in Figure 7 (B))
The transistor capacity fat (25) is the maximum capacity jjt value C w
At t)tl, the MOS} transistor is turned off so as to have the minimum capacitance iI1 value Csin.

・方、第8図(A)は第5図で示した破線で囲まれた部
分、つまり電圧供給線(27H28)に接続する付加容
l,1.の横成を,1《す回路図、第8図(B)は電1
1供給線の電位をtJ<すタイミングチャート、第8図
(C)は電)1供給線電位と電6;【電位との差と、容
:I1,(25)の容iIi値との関係を小ナグラフで
ある。
- On the other hand, FIG. 8(A) shows the portion surrounded by the broken line shown in FIG. 5, that is, the additional capacitors l, 1. Figure 8 (B) is a circuit diagram showing the horizontal construction of 1.
A timing chart in which the potential of the 1 supply line is set to tJ<, Fig. 8 (C) shows the relationship between the difference between the 1 supply line potential and the 6; is a small graph.

第5図で,1<シた構成とは異なり、前記NMO S”
P! s P M O S型のトランジスタ対のソース
とドレイン電極を共通にして、それぞれ接地線(電源線
)(8)と内部vt.。線(3!)に接続し、それぞれ
のゲート電極を前記電I1供給線(27 )(28 )
にそれぞれ接続する。
In FIG. 5, unlike the configuration in which 1<
P! The source and drain electrodes of the s P M O S type transistor pair are made common, and the ground line (power line) (8) and internal vt. . line (3!) and connect the respective gate electrodes to the voltage I1 supply line (27) (28).
Connect to each.

この構成によれば、+]i+記センス増幅回路の駆動ス
イッチ(7H7’)をオンにすることで、前記電11供
給線(27)(28)の電位が第8図(B)に,1<す
ように、・ノjはI.G5Vから0.0■に向かって、
もう 一方は1.G5Vから3.3Vに向かって変化す
る。これによって、第8図(C)に,1《すように、前
記NMOS型容1漬}(25)、PMOS型容!,I:
(25゜)は自然に最人の容i+1− 1nl Cm 
a xから最小の容1.1値Cain ヘ’&化するも
のである。
According to this configuration, by turning on the drive switch (7H7') of the sense amplifier circuit +]i+, the potentials of the power supply lines (27) and (28) change to 1 as shown in FIG. 8(B). <So, ・ノj is I. From G5V to 0.0■,
The other one is 1. It changes from G5V to 3.3V. As a result, as shown in FIG. 8(C), 1 {as shown in FIG. ,I:
(25°) is naturally the maximum human size i+1- 1nl Cm
This is to convert a x to the minimum value Cain.

以1,、第5図及び第8図に示したM O S ’.リ
の付加容:璽1により前述した初期増幅の段階で共通ソ
ースノードの電位が複数のビット線(4)の電位に大き
く引寄せられることもな《、それによる遅延は抑えられ
る。また、付加的に設けられた共通ソースノードの容1
11も初期増幅後は前述したように、小さくなるような
構成になっているので、その共通ソースノードの付加容
:I1による遅延の影響は小さく抑えることがIII能
である。
1, M O S '. shown in FIGS. 5 and 8. Additional feature: With feature 1, the potential of the common source node is not greatly attracted to the potential of the plurality of bit lines (4) at the stage of the initial amplification described above, and the delay caused by this is suppressed. In addition, the capacity 1 of the additionally provided common source node
11 is also configured to become smaller after the initial amplification, as described above, so it is possible to suppress the influence of the delay due to the additional capacity I1 of the common source node to a small level.

第』つJ直例一 第9図は本発明の第4実施例に係るセンス増幅回路を小
す構成図である。なお、第9図はセンス増幅回路のトラ
ンジスタレベルの回路図については第16図に4<され
た従来例や、第5図に/I《された実施例に小すものと
同・であるので省略し、半導体メモリチップ1−におけ
るメモリアレイ部(2)とセンス増幅部(1) 、セン
スアンプドライバー(32)の相11’. 位置関係に
ついてのみ小す。
FIG. 9 is a block diagram of a sense amplifier circuit according to a fourth embodiment of the present invention. Note that the circuit diagram of the transistor level of the sense amplifier circuit in FIG. 9 is the same as the conventional example shown in FIG. 16 and the embodiment shown in FIG. 5. The phase 11' of the memory array section (2), sense amplifier section (1), and sense amplifier driver (32) in the semiconductor memory chip 1- is omitted. Only the positional relationship is small.

第9図において、yth,はセンス増幅回路としてのセ
ンスアンプアレイl内のセンスアンプトランジスタ対の
しきい値電圧、vth2はセンス増幅回路としてのセン
スアンブアレイ2内のセンスアンブトランジスタ対のし
きい値電圧、Vth:+はセンス増幅回路としてのセン
スアンブアレイ3内のセンスアンプトランジスタ対のし
きい値電川、Vth4はセンス増幅回路としてのセンス
アンプアレイ4内のセンスアンプトランジスタ対のしき
い値1h l1テアッテ、l Vth41 > l V
th:+  l > l vth2  +>lVthl
  1である。
In FIG. 9, yth, is the threshold voltage of the sense amplifier transistor pair in the sense amplifier array l as a sense amplifier circuit, and vth2 is the threshold voltage of the sense amplifier transistor pair in the sense amplifier array 2 as a sense amplifier circuit. Voltage, Vth: + is the threshold voltage of the sense amplifier transistor pair in the sense amplifier array 3 as a sense amplifier circuit, Vth4 is the threshold voltage 1h of the sense amplifier transistor pair in the sense amplifier array 4 as a sense amplifier circuit l1 Teatte, l Vth41 > l V
th:+l>lvth2+>lVthl
It is 1.

複数のビット線(4)にそれぞれ接続されたセンス増幅
回路(5H5’)は、ほぼ1000個〜2000個、ソ
ースノードを共通にして接続され、センスアンプドライ
バー(32)により同時に活性化される。
Approximately 1000 to 2000 sense amplifier circuits (5H5') each connected to a plurality of bit lines (4) are connected with a common source node, and are simultaneously activated by a sense amplifier driver (32).

本発明の第4実施例はその複数のセンス増幅回路(5)
(5’)を構成するMOS型トランジスタ対のしきい値
電圧をセンスアンプドライバー《32》に近い領域に配
置されたものはと高く設定し、遠い領域に配置されたも
のほど低く設定するものである。
The fourth embodiment of the present invention has a plurality of sense amplifier circuits (5).
The threshold voltage of the MOS type transistor pair constituting (5') is set to be high for those placed in the area close to the sense amplifier driver <<32>>, and set to be low for those placed in the far area. be.

この実施例の構成によれば、前記共通ソースノ− l’
に接続された電11:供給線の配線抵抗(6)による電
圧降ドの影讐、つまり前記トランジスタ対のゲートーソ
ースノード間電圧の減少の影響をしきい値電圧の差で吸
収できるので、センスアンプドライバー(32)の近《
に配置されたセンス増幅回路の増幅動作に比較して、遠
い側に配置されたセンス増幅回路の増幅が極端に大きく
遅れることを防ぐことができる。また、しきい値電圧の
設定はイオン注入1奮1.を;レ1御することで容易に
設定できる。
According to the configuration of this embodiment, the common source node l'
Since the effect of voltage drop due to the wiring resistance (6) of the supply line connected to the power supply line 11, that is, the effect of a decrease in the voltage between the gate and source nodes of the transistor pair, can be absorbed by the difference in threshold voltage. Near the sense amplifier driver (32)
It is possible to prevent the amplification of the sense amplifier circuit placed on the far side from being extremely delayed compared to the amplification operation of the sense amplifier circuit placed on the far side. In addition, the threshold voltage setting is 1. It can be easily set by controlling .

第ffi例一 第10図は本発明の第5実施例に係るセンス増幅回路を
示す構成図である。なお、第10図は第9図と同様、セ
ンス増幅回路のトランジスタレベルの回路図については
第16図に示された従来例や、第5図に示された実施例
に示すものと同−・であるので省略し、゛11導体メモ
リチップ−1ユにおけるメモリアレイ部(2)とセンス
増幅部(I》、センスアンプドライバー(32)の相l
l:位置関係についてのみホす。
ffi Example 1 FIG. 10 is a block diagram showing a sense amplifier circuit according to a fifth embodiment of the present invention. Note that FIG. 10 is similar to FIG. 9, and the transistor level circuit diagram of the sense amplifier circuit is the same as that shown in the conventional example shown in FIG. 16 and the embodiment shown in FIG. Therefore, the phase I of the memory array section (2), sense amplifier section (I), and sense amplifier driver (32) in the 11-conductor memory chip-1 will be omitted.
l: Only about positional relationships.

第lO図において、L+ はセンスアンプアレイl内の
センスアンプトランジスタ対のゲート長、L2はセンス
アンブアレイ2内のセンスアンプトランジスタ対のゲー
ト長、L:Iはセンスアンブアレイ3内のセンスアンプ
トランジスタ対のゲート長、L4はセンスアンプアレイ
4内のセンスアンプトランノスタ対のゲートIQであっ
て、L4>L:+ > L2 > L+ である。
In FIG. 1O, L+ is the gate length of the sense amplifier transistor pair in sense amplifier array l, L2 is the gate length of the sense amplifier transistor pair in sense amplifier array 2, and L:I is the sense amplifier transistor in sense amplifier array 3. The gate length of the pair, L4, is the gate IQ of the sense amplifier transnoster pair in the sense amplifier array 4, and L4>L:+>L2>L+.

この実施例は、その複数のセンス増幅回路(5)(5゜
)を構成するMOS型トランジスタ対のゲート長をセン
スアンプドライバー(32)に近い領域に配置されたも
のほど1<ク設定し、遠い領域に配置されたものはと短
く設定することで、遠いものはと電流駆動能力を大きく
、近いものほど電流駆動能力を小さくできる。
In this embodiment, the gate lengths of the MOS transistor pairs constituting the plurality of sense amplifier circuits (5) (5°) are set to 1<> for those arranged nearer to the sense amplifier driver (32), By setting shorter distances for those located in farthest areas, the current driving ability can be increased for those located far away, and the current driving ability can be decreased for those located close to each other.

この実施例の構成によれば、前記」(通ソースノードに
接続された電圧供給線の配線抵抗(6)による電圧降ド
の影響、つまりトランジスタ対のゲートーソースノード
間の減少の影讐て、増幅動伯がhれ勝らなセノスアンプ
ドライバー(32)が遠い側に配置されたセンス増幅回
路の電流駆動能力を1げ、逆に近い側のセンス増幅回路
の16〆イC駆動能力をトげるこ上て前述した最も速い
増幅動伯のセンス増幅回路と最も遅い増幅動r+のセン
ス増幅回路の増幅時間の差を小さくすることができる。
According to the configuration of this embodiment, the effect of the voltage drop due to the wiring resistance (6) of the voltage supply line connected to the source node, that is, the effect of the decrease in the distance between the gate and source nodes of the transistor pair, is , the Senos amplifier driver (32) with an excellent amplification frequency increases the current drive capacity of the sense amplifier circuit placed on the far side by 1, and conversely increases the current drive capacity of the sense amplifier circuit on the near side by 16C. In addition, it is possible to reduce the difference in amplification time between the sense amplifier circuit with the fastest amplification speed and the sense amplifier circuit with the slowest amplification speed r+.

したがって、その現象による増幅が速いビット線か遅い
ビット線へ′jえる1渉ノイズの影響や前述した従来例
の問題点なとは抑制することができる。
Therefore, it is possible to suppress the influence of interference noise caused by this phenomenon that is applied to the bit line where the amplification is fast or the bit line where the amplification is slow, and the problems of the conventional example described above.

第3ffii外 第ll図は本発明の第6実施例に係るセンス増幅回路を
小す構成図である。なお、第11図は第9図及び第10
図と同様、センス増幅回路のトランジスタレベルの回路
図については第16図に小された従来例や、第5図に小
された実施例に小すものと同一であるので省略し、丁導
体メモリチ,ブ1−におけるメモリアレイ部(2)とセ
ンス増幅部(1)、センスアンプドライバー(32)の
相I+’. 4r’t置関係についてのみ,1<す。
FIG. 3 is a block diagram of a sense amplifier circuit according to a sixth embodiment of the present invention. Note that Figure 11 is similar to Figures 9 and 10.
Similarly to the figure, the transistor level circuit diagram of the sense amplifier circuit is omitted because it is the same as the conventional example shown in Fig. 16 and the small embodiment shown in Fig. 5. , phase I+' of the memory array section (2), sense amplifier section (1), and sense amplifier driver (32) in block 1-. Only for the 4r't positional relationship, 1<.

第11図において、VBB+ はセンスアンブアレイl
内の基板電も゜f.s VBB2はセンスアンプアレイ
2内のノ1ξ板電1:t、V RB :lはセノスアン
プアレイ3内の基板電位、VBB4はセンスアンブアレ
イ4内のj+l電(i’rてあっ”c、I VBB4 
 1 > l VBD:l  l >l VBsz  
l > l Vae+  lである。
In FIG. 11, VBB+ is the sense amplifier array l
The board voltage inside ゜f. s VBB2 is the board voltage 1:t in the sense amplifier array 2, V RB :l is the substrate potential in the senos amplifier array 3, and VBB4 is the j+l voltage (i'rtea'c) in the sense amplifier array 4. ,IVBB4
1 > l VBD: l l > l VBsz
l > l Vae+ l.

この実施例は、その複数のセンス増幅H路(5)(5゛
)を構成するMOS型トランジスタ対を形成する/.1
lv:化領域の基板電位をセンスアンプドライバ−(3
2)に近い領域に配置されたものほど基板一ソース間電
位差の絶対値が太き《なるように設定し、遠い領域に配
置されたものはと前述絶対値が小さくなるように設定す
る。
In this embodiment, MOS type transistor pairs forming the plurality of sense amplification H paths (5) (5') are formed. 1
lv: The substrate potential of the switching region is set by the sense amplifier driver (3
2) It is set so that the absolute value of the potential difference between the substrate and the source becomes thicker as the area is closer to 2), and the absolute value of the potential difference between the substrate and the source becomes smaller as the area is further away.

この実施例の構成によれば、第4実施例において明らか
にしたように、センスアンプドライバー(32)に近い
領域に配置されたものほど前記トランジスタ対のしきい
値電圧が大きく、遠い領域に配置されたものはと前記し
きい値電I1が小さくなるので、第4実施例と同様の降
ドか期待できる。
According to the configuration of this embodiment, as clarified in the fourth embodiment, the threshold voltage of the transistor pair is higher when the transistor pair is disposed closer to the sense amplifier driver (32), and In this case, the threshold voltage I1 becomes smaller, so it can be expected that the same drop as in the fourth embodiment will occur.

この実施例のように、センスアンブアレイ部ごとに基板
電{1゜lを別々に説定するためには、それぞれ別々の
ウェル内に前記センス増幅回路を構成するこきで実現で
きるか、次に別の方法でそのことを実現した発明につい
て述べる。
In order to separately estimate the substrate voltage {1゜l for each sense amplifier array part as in this embodiment, it is possible to realize this by configuring the sense amplifier circuits in separate wells. An invention that achieves this in a different way will be described.

第12図は第6実施例のセンス増幅回路の形成時におけ
る゜楳部を小しており、第12図(A)は拡大断面図、
第12図(B)は同゛1′面図である。
FIG. 12 shows a reduced size of the wedge portion when forming the sense amplifier circuit of the sixth embodiment, and FIG. 12(A) is an enlarged cross-sectional view.
FIG. 12(B) is a 1' side view of the same.

これらの図をI !!({ L,なから第6実施例のセ
ンス増幅回路の形成方法の・例について述べると、゛1
1導体基板1・.に選択的に反応シ1イオンエッチング
によりw方的にノ^板1゛.にトレンチを形成し、次に
そのトレンチ内を基板の深い部分で特に強く酸化し、そ
の酸化膜が隣接した1・レンチ内の酸化部と接触する稈
度に酸化することで、そのトレンチに挾まれた領域が前
記゛1′:導体基板から完全に前記酸化膜(33)によ
り分離されるプロセス技術を用いてセンス増幅回路のト
ランジスタ対それぞれが他のトランジスタ対と基板を共
通にしないようにすることによって形成でき、基板電荀
を自111に配置場所に依イfして設定すること力(I
If能であり、1−述したウェルを用いる方法よりも,
+’+i集積化が1工能である。
I love these pictures! ! ({ L, To describe an example of the method of forming the sense amplifier circuit of the sixth embodiment, {1
1 conductor substrate 1.. The plate 1 is selectively etched by ion etching. A trench is formed in the trench, and then the inside of the trench is oxidized particularly strongly in the deep part of the substrate, and the oxide film is oxidized to the extent that it comes into contact with the oxidized part in the adjacent trench. Using a process technique in which the oxide film (33) completely separates the region from the conductive substrate by the oxide film (33), each pair of transistors of the sense amplifier circuit is prevented from sharing a substrate with another pair of transistors. It can be formed by
1- than the well-based method described above.
+'+i integration is one manpower.

次に、前述した完全分離技術を用いたセンス増幅回路の
形成方法の他の例について述べる。
Next, another example of a method for forming a sense amplifier circuit using the above-mentioned complete isolation technique will be described.

第12図において、(34)(F5)は前記センス増幅
回路の共通ソースノードに接続された電11供給線であ
る。(34H35)と別番−3にしているのは、前述し
たようにセンス増幅回路の配置場所でUいγした電圧供
給線を用いていることを小している。
In FIG. 12, (34) (F5) is a power supply line 11 connected to the common source node of the sense amplifier circuit. (34H35) and the different number -3 are used to reduce the fact that the sense amplifier circuit is arranged using a voltage supply line with a high voltage as described above.

(36)は前記共通ソースノードと前記電11供給線と
のコンタクトである。(37)はこの実施例のポイント
である前記共通ソースノードを前記電圧供給線(34H
35)と接続し、史に、丁導体基板とは酸化膜(33)
により完全に分離された領域(38)の基板電位の供給
IIとを接続するコンタクトである。このPj/ 分は
前述したコンタクト部であると同時に、同領域(37)
に領域(38)と同じ導電Q+lのイオン71人を行う
ためのマスク1)旧1部にもなる。
(36) is a contact between the common source node and the power supply line 11. (37) connects the common source node to the voltage supply line (34H), which is the key point of this embodiment.
35), and in history, the conductor substrate is an oxide film (33)
This contact connects the region (38) completely separated by the substrate potential supply II. This Pj/min is the contact part mentioned above, and at the same time, the same area (37)
The mask 1) also serves as the former 1 part for carrying out 71 ions of the same conductivity Q+l as the area (38).

この実施例の構成によれば、前記形成ノ」法の例のよう
に、トランジスタ対毎にWなるノ^板電41′Iを設定
したいときに別途、基板電位供給11を形成する領域を
設ける必要もな《、レイアウト面積も小さくて済む。
According to the configuration of this embodiment, as in the example of the above-mentioned formation method, when it is desired to set the plate electrode 41'I of W for each transistor pair, a separate area for forming the substrate potential supply 11 is provided. There is no need for it, and the layout area is small.

また史に、大きな効宋として、前記トランジスタ対のソ
ース電極部と基板電極部が共通になっているため、前出
した電11供給線の配線抵抗(6)による電圧降ドが生
じたとしてもその影響で、センスアンプドライバー(3
2)から遠い領域に配置されたトランジスタ対の基板一
ソース電極間電位差が人き《なる。つまり、基板バイア
ス効果の影響でしきい値電圧が人きくなるという問題点
は避けることができる。したがって、増幅j!tMの少
ない高曲のセンス増幅回路が実現できる。
Also, as a big advantage in history, since the source electrode part and the substrate electrode part of the transistor pair are common, even if a voltage drop occurs due to the wiring resistance (6) of the power supply line 11 mentioned above, As a result, the sense amplifier driver (3
2) The potential difference between the substrate and source electrodes of a transistor pair placed in a region far from the region becomes large. In other words, it is possible to avoid the problem that the threshold voltage becomes undesirable due to the influence of the substrate bias effect. Therefore, amplify j! It is possible to realize a high-frequency sense amplifier circuit with less tM.

第111J直例一 第13図は木発明の第7実施例に係るセンス増幅回路を
小す回路図である。なお、第13図は第16図に小され
た従来例や第5図に示された実施例と基本的には同じで
あるので、同・部には同・各号・を付して詳細な説明は
省略する。
111J Example 1 FIG. 13 is a small circuit diagram of a sense amplifier circuit according to a seventh embodiment of the invention. In addition, since FIG. 13 is basically the same as the smaller conventional example shown in FIG. 16 and the embodiment shown in FIG. Further explanation will be omitted.

この実施例のポイントは、第9図〜第11図に小したよ
うに、センスアンプドライバー(32)ヲ?SJ数のセ
ンス増幅回路からなるセンス増幅部(1)の1端あるい
はド端というように、 方のみに配置するのでなくて、
N型のセンス増幅回路(5)を話V1化するセンスアン
プドライブスイッチ(7)はド端に、P型のセンス増幅
回路(5゛)を活性化するセンスア/ブドライブスイI
チ(7′)は1一端にそれぞれ配置するというこ上であ
る。
The key point of this embodiment is the sense amplifier driver (32) as shown in FIGS. 9 to 11. Rather than placing it only at one end or the other end of the sense amplifier section (1) consisting of SJ number of sense amplifier circuits,
The sense amplifier drive switch (7) that activates the N-type sense amplifier circuit (5) to V1 is connected to the sense amplifier drive switch (7) that activates the P-type sense amplifier circuit (5).
The holes (7') are arranged at one end of each.

この実施例の構成によれば、前述したように電圧供給線
の配線抵抗(6)による電11降ドのために例えばN 
71,りのセンスアンプドライブスイッチ(7)から速
い側に配置されているN Ifllのセンス増幅回路の
ゲートーソース間電圧が小さ《ならないようにしてやれ
ば、NJ’i’!のセンス増幅回路の増幅遅延分をP型
のセンス増幅回路で補ってやることができる。
According to the configuration of this embodiment, for example, N
If the gate-source voltage of the sense amplifier circuit of N Ifll, which is located on the fast side from the sense amplifier drive switch (7) of 71, becomes small, NJ'i'! The amplification delay of the sense amplifier circuit can be compensated for by the P-type sense amplifier circuit.

このような構成にし、N型のセンス増幅回路の市流駆動
能力とP型のセンス増幅回路の電流駆動能力とを等しく
してやれば、前記1一端に配置されたセンス増幅回路も
、ド端に配置されたセンス増幅回路も同じ速さでビット
線を増幅できるので、1000〜2000個の同時に活
性化されるセンス増幅回路のセンス増幅■,¥間のばら
つきも小さくなり、前$したように速く増幅されている
ビット線から遅れて増幅されているビット線への1渉/
イズの影響を小さく抑えることか1■能である。
If such a configuration is adopted and the current drive capability of the N-type sense amplifier circuit and the current drive capability of the P-type sense amplifier circuit are made equal, the sense amplifier circuit placed at one end of the first section will also be placed at the other end. The sense amplification circuits that have been activated can also amplify the bit line at the same speed, so the variation between the sense amplification of 1000 to 2000 sense amplification circuits that are activated at the same time will be small, and the amplification will be as fast as the previous one. 1 crosstalk from the bit line being amplified to the bit line being amplified with a delay
The only thing that can be done is to keep the impact of noise to a minimum.

第上ユj1外 第14図は木発明の第8実施例に係るセンス増幅回路を
小す構成図である。第14図に小すものはメモリチ,ブ
をセンス増幅部(1)とメモリセル部(2)とローデコ
ーダ一部(39)と、その他の周辺回路(40)の半導
体メモリチップ1−の配置関係を小したもので、トラン
ジスタレベルの回路図はセンス増幅部(1)に関しては
、第16図に示された従来例や第5図に示された実施例
と基本的に同・であるので詳細な説明は省略する。
FIG. 14 is a block diagram of a sense amplifier circuit according to an eighth embodiment of the invention. What is shown in Fig. 14 is a memory chip including a sense amplifier section (1), a memory cell section (2), a part of a row decoder (39), and other peripheral circuits (40). The transistor level circuit diagram is basically the same as the conventional example shown in FIG. 16 and the embodiment shown in FIG. Detailed explanation will be omitted.

本発明のポイントは第14図に示すように、センス増幅
部(1)のトランジスタ対(5)または(5′)のしき
い値電圧V tSAをローデコーダ一部(39)やその
他の周辺回路(40)やメモリセル部(2)で使われて
いるトランジスタのしきい値電II VtPH , V
tMよりも小さく設定することである。
The key point of the present invention is that, as shown in FIG. (40) and the threshold voltage II of the transistor used in the memory cell section (2) VtPH, V
It is to be set smaller than tM.

第15図はこの実施例におけるビyト線(4)の動作波
形図である。この図に示すように、センス増幅回路の電
源電圧の降11化により益々センス増幅回路のトランジ
スタの動作がしきい値電++vthを(!!(視てきな
い領域で′41われるようになってきた。
FIG. 15 is an operational waveform diagram of the bit line (4) in this embodiment. As shown in this figure, as the power supply voltage of the sense amplifier circuit decreases, the operation of the transistors in the sense amplifier circuit becomes more and more affected by the threshold voltage ++vth (!!) in the invisible region. .

なお、第15図において、センス増幅回路の電流駆動力
は、 W ISA父11n  COX(VBL−S −vth) 
2L (Ill,、 VBL−S :ビソト線電荀一共通ソース電位vth:
センス増幅回路のしきい値電圧W:センス増幅回路のチ
ャネル幅 L:センス増幅回路のチャネル長 μ,l :センス増幅回路の移動1床 Cox :センス増幅回路のゲート酸化膜容IIII 
SA :センス増幅回路の駆動電流である。
In addition, in FIG. 15, the current driving power of the sense amplifier circuit is W ISA father 11n COX (VBL-S -vth)
2L (Ill,, VBL-S: Common source potential vth:
Threshold voltage W of the sense amplifier circuit: Channel width L of the sense amplifier circuit: Channel length μ, l of the sense amplifier circuit: Movement 1 floor Cox of the sense amplifier circuit: Gate oxide film volume III of the sense amplifier circuit
SA: Drive current of the sense amplifier circuit.

また、l Vth:4+ < l Vth,  lであ
り、yth,,は周辺回路(40)より低いしきい値電
j1、Vth+ は周辺回路(40)と同・のしきい値
電l1である。
Further, l Vth:4+ < l Vth, l, yth,, is a threshold voltage j1 lower than that of the peripheral circuit (40), and Vth+ is a threshold voltage l1 that is the same as that of the peripheral circuit (40).

IBMビットl) R A Mや64Mビットl) R
 A Mでは、前記電源電11も3.3Vとなり、l/
2 Vn・センスh式を用いると、センス増幅回路は初
1り1動作において、ゲートーソース間電圧〜I.G5
Vとなり、しきい値電圧を0.7 Vや0.8Vに設定
すると、センス増幅回路の動作時の電流駆動能力がしき
い値U月の影響を大きく・受けることがわかる。前記電
流駆動能力を人きくするためには、しきい値電圧を0.
0v付近まで小さくすることが好ましい。
IBM bit l) R A M or 64M bit l) R
At AM, the power supply voltage 11 also becomes 3.3V, and l/
When using the 2 Vn/sense h formula, the sense amplifier circuit changes the gate-source voltage to I. G5
It can be seen that when the threshold voltage is set to 0.7 V or 0.8 V, the current drive capability of the sense amplifier circuit during operation is greatly influenced by the threshold value U. In order to improve the current drive ability, the threshold voltage should be set to 0.
It is preferable to reduce the voltage to around 0V.

・ノハセル部のトランジスタはメモリセルの保持特性に
影響するので、しきい値電圧を小さくすることは不可能
で、周辺回路もスタンバイ電流の低減のためにしきい値
電圧を大きくドげるごとは好ましくない。
・Since the transistor in the Noha cell part affects the retention characteristics of the memory cell, it is impossible to lower the threshold voltage, and it is preferable to significantly lower the threshold voltage of the peripheral circuits in order to reduce the standby current. do not have.

しかし、センス増幅回路を構成するトランジスタ対(5
)(5゜)はソース電位を自由に変動させるこ乏が1■
能であるので、しきい値電I1−を〜0.OV付近に設
定してもソース電位を制御することで、トランジスタ2
J(5)(5’)をカントオフすることは1丁能である
。1・述したことから、センス増幅回路部のトランジス
タ対(5)(5’)のしきい値電圧V tSAのみ、他
の周辺回路のしきい値電II: V tP}lやメモJ
セルのしきい4ni電圧VtMより小さくすることがu
J能で、その効果は大きい。
However, the transistor pair (5
) (5°), the source potential can be freely varied by 1■
Therefore, the threshold voltage I1- can be set to ~0. By controlling the source potential even if it is set near OV, transistor 2
Canting off J(5)(5') is one function. 1. From the above, it can be seen that only the threshold voltage V tSA of the transistor pair (5) (5') in the sense amplifier circuit section, and the threshold voltage V tSA of the other peripheral circuits II: V tP}l and Memo J
u can be made smaller than the cell threshold 4ni voltage VtM
In J-Noh, the effect is great.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以1−説明したように、本発明の第1の構成によれば、
初期の増幅時においては、並列接続されたトランジスタ
対の内、電流駆動能方の小さい方のトランジスタ対を用
いるために、八通ソースノードとビット線との結合が弱
《なり、前記共通ソースノードが人き《、ビット線、プ
リチャージ電位に引寄せられることはな<、1.述した
増幅haでは小さ《なる。遅延時間τ経過した後、全て
のビット線に接続されたセンス増幅回路が初期増幅を開
始した時点で、史に、並列接続されたトランジスタ対の
内、電流駆動能方の大きい方のトランジスタ対も駆動さ
せることができるので、1・,述した増幅遅延τは小さ
くでき、全体のビット線増幅も早くできる。
1 - As explained above, according to the first configuration of the present invention,
During initial amplification, since the transistor pair with the smaller current drive capability is used among the transistor pairs connected in parallel, the coupling between the eight source node and the bit line becomes weak, and the common source node 1. The bit line is not attracted to the precharge potential. With the amplification ha mentioned above, it becomes small. After the delay time τ has elapsed, when the sense amplifier circuits connected to all the bit lines start initial amplification, the transistor pair with the larger current drive capacity among the parallel-connected transistor pairs also Since the bit line can be driven, the amplification delay τ mentioned in 1. can be made small, and the overall bit line amplification can be made faster.

本発明の第2の構成によれば、初期増幅においては、複
数のセンス増幅回路の内、他よりltl朋に動作を開始
したものは、そのトランジスタ対自体が有するソース抵
抗により電11降ドを牛し、その甲期に動作を開始した
トランジスタ対の電流駆動能力を抑える方向に働く。こ
のため、共通ソースノードの電位が複数のビノ}線の電
位に大きく引寄せられ・ることもな《、最も遅れて動作
を開始するセンス増幅回路が大きく取り残されて、大き
な増幅MMを誘発することを防+1−できる。
According to the second configuration of the present invention, in the initial amplification, one of the plurality of sense amplifier circuits that starts operating more slowly than the others reduces the voltage drop due to the source resistance of the transistor pair itself. It acts in the direction of suppressing the current driving ability of the transistor pair that started operating in the first period. Therefore, the potential of the common source node is not greatly attracted to the potential of multiple Bino wires, and the sense amplifier circuit that starts operating the latest is left behind, inducing a large amplification MM. You can prevent +1-.

本発明の第3の構成によれば、容IIt値を最適化して
やれば、ビット線電位に引寄せられる程度も小さくでき
、増幅遅廷は小さくなるので、ソースノードを共通にし
た全てのセンス増幅回路が動作を開始できるソースノー
ド電位に達するまでの遅廷時間を抑えることができる。
According to the third configuration of the present invention, by optimizing the capacitance IIt value, the degree of attraction to the bit line potential can be reduced, and the amplification delay can be reduced, so that all sense amplifiers with a common source node The delay time required for the circuit to reach the source node potential at which it can start operating can be suppressed.

本発明の第4の構成によれば、共通ソースノードに接続
された電圧供給線の配線抵抗による電圧降ドの影響をし
きい値電圧の差で吸収できるので、センスアンプドライ
バーの近くに配置されたセンス増幅回路の増幅動伯に比
較して、遠い側に配置されたセンス増幅回路の増幅が極
端に大きく遅れることを防ぐことができる。
According to the fourth configuration of the present invention, the effect of voltage drop due to the wiring resistance of the voltage supply line connected to the common source node can be absorbed by the difference in threshold voltage. It is possible to prevent the amplification of the sense amplifier circuit disposed on the far side from being extremely delayed compared to the amplification delay of the sense amplifier circuit located on the far side.

本発明の第5の構成によれば、共通ソース/一ドに接続
された電圧供給線の配線抵抗による電圧降ドの影響で、
増幅動作が遅れ勝ちなセンスアンプドライバーが遠い側
に配置されたセンス増幅回路の電流駆動能力を1.げ、
逆に近い側のセンス増幅回路の電流駆動能力を1・げる
ことで前述した最も速い増幅動伯のセンス増幅回路と最
も遅い増幅動f1のセンス増幅回路の増幅時間の差を小
さくするこ七ができ、その現象による増幅が速いビット
線が遅いビット線へ′Jえる1渉ノイズの影響や前述し
た従未例の問題点などは抑制することができる。
According to the fifth configuration of the present invention, due to the influence of voltage drop due to wiring resistance of the voltage supply line connected to the common source/single node,
The current drive capacity of the sense amplifier circuit, in which the sense amplifier driver whose amplification operation tends to be delayed, is placed on the far side is 1. Ge,
On the other hand, by increasing the current drive capability of the sense amplifier circuit on the near side by 1, the difference in amplification time between the sense amplifier circuit with the fastest amplification frequency f1 and the sense amplifier circuit with the slowest amplification frequency f1 described above can be reduced. This makes it possible to suppress the effects of interference noise caused by the phenomenon in which a bit line with faster amplification crosses a bit line with slower amplification, and the problems described above in the prior art.

本発明の第6の構成によれば、センス増幅回路のトラン
ジスタ対それぞれが他のトランジスタ対.!: J.(
板を共通にしないようにすることによって形成でき、基
板電位を自1:1に配置場所に依存して設定することが
Ill能であり、1述したウェルを用いるノ』法よりも
品集積化か1エ能である。
According to the sixth configuration of the present invention, each transistor pair of the sense amplifier circuit is connected to another transistor pair. ! : J. (
It can be formed by not using a common plate, and it is possible to set the substrate potential at a ratio of 1:1 depending on the placement location. or 1 ability.

木発明の第7の構成によれば、トランジスタ対iI自こ
異なる基板電位を設定したいときに別途、基板電位供給
11を形成する領域を1没ける必゜楳もなく、レイアウ
ト面積も小さ《て済む。また、トランジスタ対のソース
電極部とノ,(板電極部が共通になっているため、前述
した電圧供給線の配線抵抗による電11降ドが生じたと
してもその影響で、センスアンプドライバーから遠い領
域に配置されたトランジスタ対の基板一ソース電極間電
位差が大きくなり、増幅遅姓の少ない高速のセンス増幅
H路が実現できる。
According to the seventh structure of the invention, when it is desired to set different substrate potentials for the transistor pair i, there is no need to separately remove a region for forming the substrate potential supply 11, and the layout area is small. It's over. In addition, since the source electrode and plate electrode of the transistor pair are common, even if the voltage drop due to the wiring resistance of the voltage supply line mentioned above occurs, it is far away from the sense amplifier driver. The potential difference between the substrate and source electrodes of the transistor pairs arranged in the region becomes large, and a high-speed sense amplification H path with little amplification delay can be realized.

本発明の第8の構成によれば、電圧供給線の配線抵抗に
よる電11,降ドのために、スイッチから遠い側に配置
されているN’?lのセンス増幅回路のゲートーソース
間電圧が小さくならないようにしてやれば、N’Fのセ
ンス増幅回路の増幅遅姓分をPIfllのセンス増幅回
路で捕ってやることができる。
According to the eighth configuration of the present invention, N'? is placed on the side far from the switch because of the voltage drop due to the wiring resistance of the voltage supply line. If the gate-source voltage of the sense amplifier circuit PI is prevented from becoming small, the amplification delay of the sense amplifier circuit N'F can be captured by the sense amplifier circuit PIfl.

本発明の第9の構成によれば、センス増幅部のトランジ
スタ対のしきい値電圧を周辺回路やメモリセル部で使わ
れているトランジスタのしきい値U月よりも小さく設定
することができる。
According to the ninth configuration of the present invention, the threshold voltage of the transistor pair of the sense amplifier section can be set lower than the threshold voltage of the transistors used in the peripheral circuit and the memory cell section.

本発明のソース抵抗の形成方法によれば、レイアウト面
積も小さく抑えることができ、電流駆動能方の人きなト
ランジスタ対との・IC列接続が1f能になる。
According to the method for forming a source resistor of the present invention, the layout area can be kept small, and the IC column connection with a transistor pair with a small current drive capacity can be made 1f.

以1一装するに、木発明に係るセンス増幅回路によると
きは、ソース電極を共通して接続されている1000個
〜2000個のセンス増幅回路のトランジスタ対の増幅
動f1において、最も速い増幅動作を行うトランジスタ
対と最も遅廷して増幅動作を11うトランジスタ対との
時間差を小さくできるので、メモリとしての高速読み出
しがIII能であると同11,ヘに、速い増幅動作が行
われているトランジスタ対から遅い増幅動作が行われ゜
Cいるトランジスタ対への1渉ノイズの影響も小さくす
ることが++l能であり、その実用的効果は大きい。
1 In summary, when using the sense amplifier circuit according to the invention, the fastest amplification operation is achieved in the amplification operation f1 of the transistor pairs of 1000 to 2000 sense amplifier circuits whose source electrodes are commonly connected. The time difference between the pair of transistors that performs the amplification operation and the pair of transistors that perform the amplification operation at the latest time can be reduced, so that high-speed readout as a memory is possible. It is possible to reduce the influence of interference noise on the transistor pair in which a slow amplification operation is performed from the transistor pair, and this has a great practical effect.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1実施例に係るセンス増幅回路を小
し、第1図(A)は等価回路図、第1図(B)はその貝
体的なレイアウト図、第2図及び第3図は木発明の第2
実施例に係るセンス増幅回路を小し、第2図(^)は等
価回路図、第2図(B)はその貝体的なレイアウト図、
第3図(^)は第2図(B)の゜及部拡大図、第3図(
B)は第3図(A)におけるυノ断線III−IIIに
沿う断而図、第4図は第1、第2実施例に小したセンス
増幅回路の駆動時におけるタイミングチャートを兼ねた
動作波形図、第5図は木発明の第3実施例に係るセンス
増幅回路の回路図、第6図はMOS}ランジスタで形成
した容litを接続したセンス増幅回路の共通ソースノ
ードの動作波形図、第7図(A)は共通ソースノードの
電荀とゲート電極の制御電圧の電位とのタイミングチャ
ート、第7図(B)は共通ソースノード電位とゲート電
極電位との差と、容噛の容晴値との関係を,1<すグラ
フ、第8図(A)は第5図で示した破線で囲まれた部分
の構成を示す回路図、第8図(B)は電圧供給線の電位
を示すタイミングチャート、第8図(C)は電1!供給
線電位と電源電位との差と、容+,}(25)の容:l
(値との関係を小ナグラフ、第9図は本発明の第4実施
例に係るセンス増幅回路を小す構成図、第lθ図は本発
明の第5実施例に係るセンス増幅回路を4<す横成図、
第11図は本発明の第6実施例に係るセンス増幅回路を
小す構成図、第12図は第6実施例のセンス増幅回路の
形成時における要部を小し、第12図(A)は拡大断面
図、第12図(B)は同・14而図、第13図は本発明
の第7実施例に係るセンス増幅回路を小す回路図、第1
4図は本発明の第8実施例に係るセンス増幅回路を小す
横成図、第15図は同実施例におけるビット線の動作波
形図である。従来のセンス増幅回路を第16図は従束例
のセンス増幅回路を小す回路図、第17図は同回路のタ
イミングチャートを兼ねた動作波形図、第18図をビッ
ト線、ワード線、トランジスタ対の共通ソースノードの
タイミングチャートを』kねた動伯彼形図である。 (3)・・・メモリセル、(4)・・・ビット線、(5
)(5’)・・・センス増幅回路、(7)(7’)・・
・電11供給線に電6;(線を接続するスイッチ、(I
1)(+2)・・・・11列接続されたトランジスタ対
、(13HI4)・・・電j1供給線、(16)(17
)・・・共通ソース領域、(21)・・・ソース抵抗、
(25)・・・付加容:l1。 第3図(A) ■ m 第3図(B) i/lイオン注入 (J : 7lg人フIll隻 第4図 第6図 Fto t1 tz 一634− K ≧ 1 禮 第8図(B) 第8図(C) (電l!供給!II127.28の電もシ)の絶対値 (電IQ市(1冫) 第9図 第10図 〆 メモリセルアレイ 第11図 第13図 9 第15図
FIG. 1 shows a small scale sense amplifier circuit according to the first embodiment of the present invention, FIG. 1(A) is an equivalent circuit diagram, FIG. 1(B) is a shell layout diagram thereof, FIG. Figure 3 is the second wooden invention.
The sense amplifier circuit according to the embodiment is made smaller, and FIG. 2 (^) is an equivalent circuit diagram, and FIG. 2 (B) is a shell-shaped layout diagram thereof.
Figure 3 (^) is an enlarged view of Figure 2 (B), Figure 3 (
B) is a diagram along the υ cut line III-III in FIG. 3(A), and FIG. 4 is an operating waveform that also serves as a timing chart when driving the sense amplifier circuit, which is smaller than the first and second embodiments. 5 is a circuit diagram of a sense amplifier circuit according to a third embodiment of the invention, FIG. 6 is an operation waveform diagram of a common source node of a sense amplifier circuit connected to a capacitor formed by a MOS transistor, and FIG. Figure 7 (A) is a timing chart of the voltage of the common source node and the potential of the control voltage of the gate electrode, and Figure 7 (B) is the difference between the common source node potential and the gate electrode potential, and the timing chart of the voltage of the control voltage of the gate electrode. Figure 8 (A) is a circuit diagram showing the structure of the part surrounded by the broken line shown in Figure 5. Figure 8 (B) shows the relationship between the voltage supply line potential and The timing chart shown in FIG. 8 (C) is 1! Difference between supply line potential and power supply potential and capacity +,} (25) capacity: l
(The relationship with the value is shown in a small graph. Figure 9 is a block diagram of a sense amplifier circuit according to the fourth embodiment of the present invention. Figure 1θ is a diagram of the sense amplifier circuit according to a fifth embodiment of the present invention. A horizontal drawing,
FIG. 11 is a block diagram of a sense amplifier circuit according to a sixth embodiment of the present invention, and FIG. 12 is a diagram of the structure of a sense amplifier circuit according to a sixth embodiment, and FIG. 12(B) is an enlarged sectional view, FIG. 13 is a small circuit diagram of the sense amplifier circuit according to the seventh embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 4 is a schematic diagram of a sense amplifier circuit according to an eighth embodiment of the present invention, and FIG. 15 is a diagram of operating waveforms of the bit line in the same embodiment. Figure 16 shows a conventional sense amplifier circuit. Figure 16 is a circuit diagram of a smaller version of the sense amplifier circuit as a follow-up example. Figure 17 is an operating waveform diagram that also serves as a timing chart for the same circuit. Figure 18 shows bit lines, word lines, and transistors. This is a diagram showing a timing chart of a pair of common source nodes. (3)...Memory cell, (4)...Bit line, (5
)(5')...Sense amplifier circuit, (7)(7')...
・Power 6 to power 11 supply line; (switch to connect line, (I)
1) (+2)...Transistor pairs connected in 11 columns, (13HI4)...Power j1 supply line, (16) (17
)... common source region, (21)... source resistance,
(25)...Additional capacity: l1. Figure 3 (A) ■ m Figure 3 (B) I/L ion implantation (J: 7lg people Figure 4 Figure 6 Figure 8 (C) Absolute value of (Electricity l! supply! II127.28 electric power) (Electric IQ city (1 冫) Figure 9 Figure 10〆Memory cell array Figure 11 Figure 13 Figure 9 Figure 15

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 メモリセルに結合を有する複数のビット線の各々に
接続されたフリップフロップやのセンス増幅回路におい
て、そのセンス増幅回路のトランジスタ対の各々を複数
の並列接続されたトランジスタで構成し、その並列接続
された複数のトランジスタは各々異なる電流駆動能力を
有するトランジスタから構成されていることを特徴とす
るセンス増幅回路。 2 複数の並列接続されたトランジスタは、各々ゲート
長の異なるMOS型トランジスタから構成されている請
求項1記載のセンス増幅回路。 3 異なるゲート長を有するMOS型トランジスタの並
列接続で構成されたセンス増幅回路のトランジスタ対を
各々、同じゲート長を有するMOS型トランジスタ対毎
に独立に共通ソース領域を設け、ゲート長が大きい方の
トランジスタ対の共通ソース領域に小さい方の共通ソー
ス領域より先に電圧供給源を接続してある請求項2記載
のセンス増幅回路。 4 メモリセルに結合を有する複数のビット線の各々に
接続されたフリップフロップ型のセンス増幅回路におい
て、そのセンス増幅回路のトランジスタ対の各々を、複
数の並列接続されたMOS型トランジスタで構成し、そ
の並列接続されたMOS型トランジスタの各々は異なる
ソース抵抗を有するMOS型トランジスタで構成されて
いることを特徴とするセンス増幅回路。 5 メモリセルに結合を有する複数のビット線の各々に
接続されたフリップフロップ型のセンス増幅回路におけ
る並列接続されたMOS型トランジスタのソース領域を
半導体基板の活性化領域上で隣接する2つのゲート電極
の間に設け、その領域にLDD低濃度注入を行い、次に
、前記2つのゲート電極に互いに重なる程度に側壁酸化
膜を付着させ、次工程のソース・ドレイン高濃度注入の
マスクとすることを特徴とするセンス増幅回路のソース
抵抗の形成方法。 6 異なるソース抵抗を有するMOS型トランジスタの
並列接続で構成されたセンス増幅回路のトランジスタ対
を各々、同じソース抵抗を有するMOS型トランジスタ
対如に独立に共通ソース領域を設け、ソース抵抗が大き
い方のトランジスタ対の共通ソース領域に、小さい方の
トランジスタ対の共通ソース領域より先に電圧供給線を
接続してある請求項5記載のセンス増幅回路のソース抵
抗の形成方法。 7 メモリセルに結合を有する複数のビット線の各々に
接続されたフリップフロップ型のセンス増幅回路におい
て、そのセンス増幅回路のトランジスタ対の共通ソース
領域に接続された電圧供給線に付加容量を接続すること
を特徴とするセンス増幅回路。 8 MOS型トランジスタのソース電極とドレイン電極
を共通に接続し、その共通接続部をセンス増幅回路のト
ランジスタ対の共通ソース領域に接続された電圧供給線
に接続し、前記MOS型トランジスタのゲート電極の電
位は前記センス増幅回路の初期動作のときには前記MO
S型トランジスタがオンになる程度の電位として、その
後前記ゲート電極の電位を前記MOS型トランジスタが
カットオフする電位に変化させるものである請求項7記
載のセンス増幅回路。 9 NMOS型トランジスタのソース電極とドレイン電
極を共通に第1電源に接続し、前記NMOS型トランジ
スタのゲート電極を、センス増幅回路のNMOS型のト
ランジスタ対の共通ソース領域に接続された電圧供給線
に接続し、同様にPMOS型トランジスタのソース電極
とドレイン電極を共通に第2電線に接続し、前記PMO
S型トランジスタのゲート電極を、センス増幅回路のP
MOS型トランジスタ対の共通ソース領域に接続された
電圧供給線に接続してある請求項8記載のセンス増幅回
路。 10 メモリセルに結合を有する複数のビット線の各々
にソース領域を共通にして接続された複数のセンス増幅
回路において、各センス増幅回路のトランジスタ対のし
きい値電圧は、前記共通ソース領域に接続された電圧供
給線に電源線を接続するスイッチが設けられた場所から
遠い側の前記しきい値電圧を近い側のものより小さくし
てあるることを特徴とするセンス増幅回路。 11 メモリセルに結合を有する複数のビット線対の各
々にソース領域を共通にして接続された複数のセンス増
幅回路において、各センス増幅回路のトランジスタ対の
電流駆動能力は、前記共通ソース領域に接続された電圧
供給線に、電源線を接続するスイッチが設けられた場所
から遠い側の前記電流駆動能力を近い側のものより大き
くしてあることを特徴とするセンス増幅回路。 12 メモリセルに結合を有する複数のビット線対の各
々に、ソース領域を共通にして接続された複数のセンス
増幅回路のトランジスタ対を構成するトランジスタの各
々を、酸化膜で半導体基板と完全に分離された活性化領
域に形成し、前記トランジスタの基板電位を、各々前記
活性化領域の配置場所で異なるように設定してあること
を特徴とするセンス増幅回路。 13 メモリセルに結合を有する複数のビット線対の各
々に、ソース領域を共通にして接続された複数のセンス
増幅回路のトランジスタ対を構成するトランジスタ各々
を、酸化膜で半導体基板と完全に分離された活性化領域
に形成し、前記トランジスタの基板電位を決定する前記
活性化領域の基板電位の供給部と前記共通ソース領域の
電位の供給部とを共用させていることを特徴とするセン
ス増幅回路。 14 メモリセルに結合を有する複数のビット線対の各
々にソース領域を共通にして接続された複数のセンス増
幅回路をCMOS型のフリップフロップで構成し、N型
のMOSトランジスタ対の前記共通ソース領域に接続さ
れた電圧供給線に電源線を接続するスイッチを、前記ソ
ース領域を共通にして列方向に並んだ複数のセンス増幅
回路群の上端あるいは下端に設け、一方、P型のMOS
トランジスタ対の前記共通ソース領域に接続された電圧
供給線に電源線を接続するスイッチは前記N型のMOS
トランジスタ対用のスイッチとは反対の端に設けること
を特徴とするセンス増幅回路。 15 メモリセルに結合を有する複数のビット線対の各
々にソース領域を共通にして接続された複数のセンス増
幅回路を構成するMOS型トランジスタのしきい値電圧
を、同一半導体メモリチップ上に形成される前記センス
増幅回路以外の回路を構成するMOS型トランジスタの
しきい値電圧より小さく設定することを特徴とするセン
ス増幅回路。
[Claims] 1. In a sense amplifier circuit such as a flip-flop or the like connected to each of a plurality of bit lines having coupling to a memory cell, each transistor pair of the sense amplifier circuit is formed by a plurality of parallel-connected transistors. 1. A sense amplifier circuit comprising: a plurality of transistors connected in parallel, each comprising transistors having different current driving capabilities. 2. The sense amplifier circuit according to claim 1, wherein the plurality of parallel-connected transistors are each composed of MOS type transistors having different gate lengths. 3. For each pair of transistors in a sense amplifier circuit configured by parallel connection of MOS transistors having different gate lengths, a common source region is provided independently for each pair of MOS transistors having the same gate length, and the transistor pair with the larger gate length is 3. A sense amplifier circuit according to claim 2, wherein a voltage supply source is connected to the common source regions of the transistor pair before the smaller common source region. 4. In a flip-flop type sense amplifier circuit connected to each of a plurality of bit lines having a connection to a memory cell, each transistor pair of the sense amplifier circuit is configured with a plurality of parallel-connected MOS type transistors, A sense amplifier circuit characterized in that each of the MOS transistors connected in parallel is composed of MOS transistors having different source resistances. 5. Connect the source regions of the parallel-connected MOS transistors in the flip-flop sense amplifier circuit connected to each of the plurality of bit lines coupled to the memory cell to two adjacent gate electrodes on the active region of the semiconductor substrate. A sidewall oxide film is deposited on the two gate electrodes to the extent that they overlap with each other, and is used as a mask for the high concentration source/drain implantation in the next step. A method for forming the source resistor of a sense amplifier circuit. 6. Each pair of transistors in a sense amplifier circuit configured by parallel connection of MOS transistors having different source resistances is provided with a common source region independently like a pair of MOS transistors having the same source resistance, and the one with the larger source resistance is 6. The method of forming a source resistor of a sense amplifier circuit according to claim 5, wherein a voltage supply line is connected to the common source region of the transistor pair before the common source region of the smaller transistor pair. 7. In a flip-flop type sense amplifier circuit connected to each of a plurality of bit lines having a connection to a memory cell, an additional capacitor is connected to a voltage supply line connected to a common source region of a transistor pair of the sense amplifier circuit. A sense amplification circuit characterized by: 8 Connect the source electrode and drain electrode of the MOS transistor in common, connect the common connection part to the voltage supply line connected to the common source region of the transistor pair of the sense amplifier circuit, and connect the gate electrode of the MOS transistor During the initial operation of the sense amplifier circuit, the potential is
8. The sense amplifier circuit according to claim 7, wherein the potential of the gate electrode is set to such a potential that the S-type transistor is turned on, and then the potential of the gate electrode is changed to a potential that causes the MOS-type transistor to be cut off. 9 The source electrode and drain electrode of the NMOS transistor are commonly connected to a first power supply, and the gate electrode of the NMOS transistor is connected to a voltage supply line connected to a common source region of the NMOS transistor pair of the sense amplifier circuit. Similarly, the source electrode and drain electrode of the PMOS transistor are commonly connected to the second electric wire, and the PMOS transistor
Connect the gate electrode of the S-type transistor to the P terminal of the sense amplifier circuit.
9. The sense amplifier circuit according to claim 8, wherein the sense amplifier circuit is connected to a voltage supply line connected to a common source region of the MOS type transistor pair. 10 In a plurality of sense amplifier circuits having a common source region connected to each of a plurality of bit lines having a connection to a memory cell, the threshold voltage of the transistor pair of each sense amplifier circuit is connected to the common source region. The sense amplifier circuit is characterized in that the threshold voltage on the side far from the place where the switch connecting the power supply line to the voltage supply line is provided is smaller than that on the side close to the place where the switch is provided. 11 In a plurality of sense amplifier circuits connected to each of a plurality of bit line pairs having a connection to a memory cell with a common source region, the current driving capability of the transistor pair of each sense amplifier circuit is The sense amplifier circuit is characterized in that the current drive capacity of the voltage supply line on the side far from the place where the switch for connecting the power supply line is provided is greater than that on the side closer to the voltage supply line. 12 Each of the transistors constituting the transistor pairs of the plurality of sense amplifier circuits connected to each of the plurality of bit line pairs having a connection to the memory cell with a common source region is completely separated from the semiconductor substrate by an oxide film. 1. A sense amplifier circuit, characterized in that the sense amplifier circuit is formed in a plurality of activated regions, and the substrate potential of each of the transistors is set to be different depending on the location of the activation region. 13 Each of the transistors constituting a transistor pair of a plurality of sense amplifier circuits connected with a common source region to each of a plurality of bit line pairs having a connection to a memory cell is completely separated from the semiconductor substrate by an oxide film. A sense amplifier circuit is formed in an activated region of the transistor, and a supply section for supplying a substrate potential of the activation region that determines a substrate potential of the transistor and a supply section for supplying a potential of the common source region are shared. . 14 A plurality of sense amplifier circuits connected to each of a plurality of bit line pairs having a connection to a memory cell with a common source region are configured with CMOS type flip-flops, and the common source region of the N-type MOS transistor pair A switch for connecting a power supply line to a voltage supply line connected to a switch is provided at the upper end or lower end of a plurality of sense amplifier circuit groups arranged in a column direction with the source region in common, while a P-type MOS
The switch connecting the power supply line to the voltage supply line connected to the common source region of the transistor pair is the N-type MOS.
A sense amplifier circuit characterized in that it is provided at an end opposite to a switch for a transistor pair. 15 The threshold voltage of MOS type transistors forming a plurality of sense amplifier circuits connected to each of a plurality of bit line pairs having a connection to a memory cell with a common source region, which are formed on the same semiconductor memory chip. A sense amplifier circuit characterized in that the threshold voltage is set to be lower than the threshold voltage of a MOS transistor constituting a circuit other than the sense amplifier circuit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005293759A (en) * 2004-04-02 2005-10-20 Hitachi Ltd Semiconductor memory device

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US7843751B2 (en) 2004-04-02 2010-11-30 Hitachi, Ltd Semiconductor memory device comprising sense amplifier having P-type sense amplifier and N-type sense amplifiers with different threshold voltages
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