JPH03214645A - 半導体ウエハの収納・搬送装置 - Google Patents
半導体ウエハの収納・搬送装置Info
- Publication number
- JPH03214645A JPH03214645A JP2010836A JP1083690A JPH03214645A JP H03214645 A JPH03214645 A JP H03214645A JP 2010836 A JP2010836 A JP 2010836A JP 1083690 A JP1083690 A JP 1083690A JP H03214645 A JPH03214645 A JP H03214645A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- semiconductor wafer
- wafer storage
- storage
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は半導体ウェハの収納・搬送装置に関するもの
である。
である。
第4図は従来の牛導体装置搬送装置を示すもので、図に
おいて、■は牛導体装置の処理チャンバー、2は牛導体
装置のロードロツクチャンパー3はロードロツクチャン
パー2にウェハまたはウェハケースを出し入れするため
の扉、4はウェハ、5はウェハケース、6は真空ポンプ
である。
おいて、■は牛導体装置の処理チャンバー、2は牛導体
装置のロードロツクチャンパー3はロードロツクチャン
パー2にウェハまたはウェハケースを出し入れするため
の扉、4はウェハ、5はウェハケース、6は真空ポンプ
である。
次に従来装置の動作について説明する。ウエ八4または
ウェハ4を収納したウェハケース5は、大気中よりロー
ドロツクチャンバ2の扉3を開閉することによりロード
ロンクチャンバ2内にセットされる。この後真空処理装
置の場合、真空ボンプ6によってロードロンクチャンバ
2内の真空リきを行う。ロードロンクチャンバ2内が所
定の真空度に達しk後、ウェハ4は処理チャンバ1に搬
送される。ウェハ処理が完了した後、ウェハ4はロード
ロンクチャンバ26こもどされ、ロードロンクチャンバ
2内を大気圧にもどし、ウェハ4またはウェハケース5
を取り出す。
ウェハ4を収納したウェハケース5は、大気中よりロー
ドロツクチャンバ2の扉3を開閉することによりロード
ロンクチャンバ2内にセットされる。この後真空処理装
置の場合、真空ボンプ6によってロードロンクチャンバ
2内の真空リきを行う。ロードロンクチャンバ2内が所
定の真空度に達しk後、ウェハ4は処理チャンバ1に搬
送される。ウェハ処理が完了した後、ウェハ4はロード
ロンクチャンバ26こもどされ、ロードロンクチャンバ
2内を大気圧にもどし、ウェハ4またはウェハケース5
を取り出す。
従来の半導体ウェハの収納・搬送装置は以上のように構
成されているので、ウェハまたはウェハケースを出し入
れする際、毎回真空引き及び真空の破壊を行なわなけれ
ばならない。この時、真空装置内Oこ蓄積したダストが
舞い上がり、ウェハ表面を汚染する間頌がある。また装
置間のウェハ搬送時に必然的に大気にさらされることに
より、大気中に混入している不純物原子の吸着が生じ、
ウェハ表面を汚染する問題がある。
成されているので、ウェハまたはウェハケースを出し入
れする際、毎回真空引き及び真空の破壊を行なわなけれ
ばならない。この時、真空装置内Oこ蓄積したダストが
舞い上がり、ウェハ表面を汚染する間頌がある。また装
置間のウェハ搬送時に必然的に大気にさらされることに
より、大気中に混入している不純物原子の吸着が生じ、
ウェハ表面を汚染する問題がある。
この発明は、上記のような問題点を解消する茫めになさ
れたもので、ウェハを大気にさらすことなく、容易に半
導体装置間を搬送保管出来るとともに、真空装置内での
発塵によるウェハ表面の汚染を無くすことが出来る半導
体ウェハ収納・搬送装置を得ることを目的とする。
れたもので、ウェハを大気にさらすことなく、容易に半
導体装置間を搬送保管出来るとともに、真空装置内での
発塵によるウェハ表面の汚染を無くすことが出来る半導
体ウェハ収納・搬送装置を得ることを目的とする。
本発明に係る半導体ウェハ収稍・搬送装置は、半導体ウ
ェハ収納・搬送容器をロードロツクチャンバーに脱着司
能な構造とするとともに、半導体ウェハ収納・搬送容器
の半導体ウェハ出し入れ口の蓋をロードロツクチャンバ
ー内において開閉できるような治具を設けたものである
。
ェハ収納・搬送容器をロードロツクチャンバーに脱着司
能な構造とするとともに、半導体ウェハ収納・搬送容器
の半導体ウェハ出し入れ口の蓋をロードロツクチャンバ
ー内において開閉できるような治具を設けたものである
。
この発明(こおけるウェハ収納・搬送装置を使用するこ
とにより、処理装置間のウェハ搬送を真空または不活性
ガス雰囲気中で行なえる。このためウェハ表面汚染のな
い搬送保管が可能となる。
とにより、処理装置間のウェハ搬送を真空または不活性
ガス雰囲気中で行なえる。このためウェハ表面汚染のな
い搬送保管が可能となる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図は本発明の半導体ウェハ収納・搬送容器を示すもので
、図において、10はウェハ収納・搬送容器、4はウェ
ハ、11はウェハ収納・搬送容器10の蓋、Lはウェハ
4の出し入れ口、14はウェハ収納−搬送容器10をロ
ードロツクチャンパー2に取り付けt際、気密性を保持
させるための0リング、化は蓋11とウエ八収納・搬送
容器本体10との気密性を保持させるための0リングで
ある。
図は本発明の半導体ウェハ収納・搬送容器を示すもので
、図において、10はウェハ収納・搬送容器、4はウェ
ハ、11はウェハ収納・搬送容器10の蓋、Lはウェハ
4の出し入れ口、14はウェハ収納−搬送容器10をロ
ードロツクチャンパー2に取り付けt際、気密性を保持
させるための0リング、化は蓋11とウエ八収納・搬送
容器本体10との気密性を保持させるための0リングで
ある。
第2図イ、口はウェハ収納・搬送容器10の正面図及び
平面図であり、7はウエ八を保持するためのガイドであ
る。
平面図であり、7はウエ八を保持するためのガイドであ
る。
第8図は半導体ウェハ収納・搬送容器10をロードロン
クチャンパー2に装着した状態を表わしたものである。
クチャンパー2に装着した状態を表わしたものである。
図において、1は午導坏装誼の処理チャンバ、2は半導
体装置のロードロンクチャンパー 8はウェハ収納・搬
送容器10の蓋11を開閉させるtめの泊具、6は真空
ポンプ、9はN嘗等の不活性〃ス供給バルプである。
体装置のロードロンクチャンパー 8はウェハ収納・搬
送容器10の蓋11を開閉させるtめの泊具、6は真空
ポンプ、9はN嘗等の不活性〃ス供給バルプである。
次に本発明の動作について説明する。あらかじめウエ八
4が真空状態で収納されているウェハ収納・搬送容器1
0を半導体装置四一ドロンクチャンバ2の所定の場所に
セントする。ウェハ収納・搬送容er10を気密性よく
セットするために容器の一部ヲ四一ドロンクチャンバ2
にはめ込み、例えば容器側のマグネットで固定する。ウ
ェハ収納・搬送容器lOをセットした後、真空ボンブ6
でロードロンクチャンパー2内を所定の真空度まで真空
げきする。この後、治具8を用い、ウェハ収納・搬送容
器10の蓋11をはずす。この状態でウェハ収納・搬送
容器lOからウェハ4を取り出し、処理チャンバ1に搬
送する。処理チャンバ1内での処理が完了した後、ウェ
ハ4は再びウエ八収納・搬送容器lOにもどされ、治具
8によって蓋11が閉められる。
4が真空状態で収納されているウェハ収納・搬送容器1
0を半導体装置四一ドロンクチャンバ2の所定の場所に
セントする。ウェハ収納・搬送容er10を気密性よく
セットするために容器の一部ヲ四一ドロンクチャンバ2
にはめ込み、例えば容器側のマグネットで固定する。ウ
ェハ収納・搬送容器lOをセットした後、真空ボンブ6
でロードロンクチャンパー2内を所定の真空度まで真空
げきする。この後、治具8を用い、ウェハ収納・搬送容
器10の蓋11をはずす。この状態でウェハ収納・搬送
容器lOからウェハ4を取り出し、処理チャンバ1に搬
送する。処理チャンバ1内での処理が完了した後、ウェ
ハ4は再びウエ八収納・搬送容器lOにもどされ、治具
8によって蓋11が閉められる。
この状態でロードロンクチャンパー2の真空を破壊する
。蓋11は圧力差によって吸着され、ウェハ収納・搬送
容器lO内の真空度を保持するが、マグネットなどによ
って固定するようにしてもよい。
。蓋11は圧力差によって吸着され、ウェハ収納・搬送
容器lO内の真空度を保持するが、マグネットなどによ
って固定するようにしてもよい。
本発明によるウェハ収納・搬送容器10は、ウェハ1枚
を収納するものに限らず、同様の構造で複数枚数のウェ
ハを収納するものでもよい。また真空装置以外の場合に
は、チャンバー2でバルブ9の開閉により不活性ガスを
供給し、チャンバー2を不活性ガス算囲気にした後、本
ウエノ\収納・搬送容器10からウェハ4を出し入れす
ればよい。
を収納するものに限らず、同様の構造で複数枚数のウェ
ハを収納するものでもよい。また真空装置以外の場合に
は、チャンバー2でバルブ9の開閉により不活性ガスを
供給し、チャンバー2を不活性ガス算囲気にした後、本
ウエノ\収納・搬送容器10からウェハ4を出し入れす
ればよい。
以上のように本発明は、半導体装置に容易に脱着司能な
ウェハ収納・搬送容器を用い、その内部を真空状態″E
だは不活性ガス雰囲気に保持出来るように構成したため
、真空処理装置内での発塵によるウェハ表面の汚染また
は大気中をウェハ搬送又は保管することにより汚染の問
題が解決出来る。
ウェハ収納・搬送容器を用い、その内部を真空状態″E
だは不活性ガス雰囲気に保持出来るように構成したため
、真空処理装置内での発塵によるウェハ表面の汚染また
は大気中をウェハ搬送又は保管することにより汚染の問
題が解決出来る。
第1図はこの発明の一実施例の半導体ウエ/1の収納・
搬送容器を示す斜視図・第2図久、bはその正面図及び
平面図、第8図はこの発明の一実額例を示す路線斜視図
、第4図は従来の半導体ウェハ収納・搬送装置を示す路
線斜視図である。 図中・lは牛導体処理チャンバー 2はロードロツクチ
ャンパー 4は半導体ウェハ、6は真空ボンブ、7はガ
イド、8は蓋開閉用の治具、9はバルプ、lOは半導体
ウェハの収納・搬送容器、l1は蓋・ルは半導体ウェハ
の出し入れ口、13、l5はOリングである。 なお図中同一符号は同一または相当部分を示す。
搬送容器を示す斜視図・第2図久、bはその正面図及び
平面図、第8図はこの発明の一実額例を示す路線斜視図
、第4図は従来の半導体ウェハ収納・搬送装置を示す路
線斜視図である。 図中・lは牛導体処理チャンバー 2はロードロツクチ
ャンパー 4は半導体ウェハ、6は真空ボンブ、7はガ
イド、8は蓋開閉用の治具、9はバルプ、lOは半導体
ウェハの収納・搬送容器、l1は蓋・ルは半導体ウェハ
の出し入れ口、13、l5はOリングである。 なお図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 半導体処理チャンバーと隣接し、内部が真空または不活
性ガス雰囲気になされるロードロックチャンバーに半導
体ウェハの出し入れ口が連通するように気密に着脱する
半導体ウェハの収納・搬送容器において、上記半導体ウ
ェハ出し入れ口を気密に塞ぐ蓋を備え、この蓋を上記ロ
ードロツクチャンバー内において開閉する治具を上記ロ
ードロックチャンバーに設けたことを特徴とする半導体
ウェハの収納・搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010836A JPH03214645A (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 半導体ウエハの収納・搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010836A JPH03214645A (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 半導体ウエハの収納・搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03214645A true JPH03214645A (ja) | 1991-09-19 |
Family
ID=11761438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010836A Pending JPH03214645A (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | 半導体ウエハの収納・搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03214645A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06104331A (ja) * | 1992-08-04 | 1994-04-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 加圧密封式可搬性コンテナ |
| JPH06104333A (ja) * | 1992-08-04 | 1994-04-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 加圧インタフェース装置 |
-
1990
- 1990-01-18 JP JP2010836A patent/JPH03214645A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06104331A (ja) * | 1992-08-04 | 1994-04-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 加圧密封式可搬性コンテナ |
| JPH06104333A (ja) * | 1992-08-04 | 1994-04-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 加圧インタフェース装置 |
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