JPH03215330A - ガラス表面処理方法 - Google Patents

ガラス表面処理方法

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JPH03215330A
JPH03215330A JP32538789A JP32538789A JPH03215330A JP H03215330 A JPH03215330 A JP H03215330A JP 32538789 A JP32538789 A JP 32538789A JP 32538789 A JP32538789 A JP 32538789A JP H03215330 A JPH03215330 A JP H03215330A
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Koichiro Yoshikawa
吉川 行一郎
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は重量%でPbOを25〜50%含存する鉛ガラ
スの表面に反射防止層を形成するためのガラス表面処理
方法に関するものである。
[従来の技術コ 従来よりガラス表面に反射防止処理を施す方法の一つに
、ガラスを酸溶液に浸漬して処理する酸処理方法がある
。ガラスを酸処理すると、ガラス中のNa“、K”、P
b”等の陽イオンが酸溶液中の■“と置き換わるイオン
交換反応が起こり、ガラス表面に水和珪酸層が形成され
る。ガラス中から溶出した陽イオンは塩となってガラス
表面に付着し、保護膜を形成して前記イオン交換反応の
進行を妨害するため、通常これら塩類の溶解度の大きい
硝酸溶液を酸溶液として用いている。また水和珪酸層は
不安定であるために、加熱脱水して堅牢な無水珪酸層と
し、経時変化による層の劣化を防止している。
[発明が解決しようとする問題点] 前記酸処理方法は処理コストが安価であり、しかも他の
方法では困難な大型のガラスブロックの反射防止処理が
可能である。
しかしながら放射線遮蔽に用いるようなPbOを重量%
で25〜50%含有する鉛ガラスに反射防止処理を施す
場合、従来の方法ではガラス表面に侵蝕むらが発生し、
不均質干渉色を呈するため良好な反射防止層を得ること
が困難であった。
またガラス表面にガラスの屈折率の平方根に近い値を有
する薄膜を1/4λ(λは波長を表す)の厚さにして形
成すると、波長λにおける反射率が低減することが知ら
れており、それゆえガラス表面に良好な反射防止層を形
成するためには、その厚さが1/4λとなるように処理
条件を設定する必要がある。しかしながら硝酸溶液を耐
酸性の劣る鉛ガラスに使用すると、最適な反射防止層の
厚さ1/4λを得ることのできる処理条件が極端に限定
され、それゆえ工業的規模での処理条件の設定が難しく
なり、歩留まりが著しく悪くなる。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、PbOを重量
%で25〜50%含有する鉛ガラスの表面に、酸処理法
を用いて良好な反射防止層を歩留まりよく形成する方法
を提供することを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段コ 本発明者は上記目的を達成するために種々の研究を行っ
た結果、ガラスと酸との反応を適当な速度で進行させる
と良好な反射防止層を歩留まりよく形成できることを見
い出し、本発明として提案するものである。
即ち、本発明のガラス表面処理方法は、重量%でPbO
を25〜50%含有する鉛ガラスの表面を60℃以上の
弱酸溶液で処理した後、水洗し、加熱脱水することによ
って反射防止層を形成してなることを特徴とする。
また本発明においては弱酸溶液が酢酸溶液であることが
好ましい。
[作用コ 本発明のガラス表面処理方法によれば、酸処理時に60
℃以上の酢酸溶液等の弱酸溶液を用いるために、重量%
でPbOを25〜50%含有する鉛ガラスに対して反応
が緩やかに、且つ均一に進行する。
酸処理による侵蝕むらの発生は、ガラス表面における酸
溶液のごくわずかな濃度差等によって反応速度に差違が
生じ、局部的に膜厚が変化することによるものであると
考えられる。本発明は60℃以上の弱酸溶液を用いるた
めに、硝酸を用いる場合に比べ、反応が緩やかに進行し
、ガラス表面において反応速度の差違を生じる可能性が
極めて小さく、それゆえ侵蝕むらを生じることがない。
またガラス表面においては、ガラスを酸溶液に浸漬する
酸処理時はもとより、酸溶液槽より引き上げた後も、表
面に付着した酸の液滴あるいは洗浄水や空気中の水分に
より反応が進行するために、永和珪酸層の厚さが変化す
る。この反応は酸処理後のガラス表面を洗浄し、加熱脱
水して無水珪酸層を形成するまで続《ため、反射防止層
の厚さが最終的に1/4λとなるように処理条件、とく
に酸処理時間を設定することが重要である。本発明はガ
ラスと酸溶液とが緩やかに反応する結果、工業的規模で
の酸処理時間の設定が容易になる。このことは特に放射
線遮蔽ガラスのような大型の鉛ガラスブロックの処理に
対して有効である。即ちこのような大型の鉛ガラスブロ
ックの場合、酸溶液槽から引き上げて表面に無水珪酸層
を形成するまでの一連の作業にかなりの時間を要するが
、反応が緩やかな速度で進行するため、反射防止履の厚
さの変化が小さく、それゆえ酸処理時間の設定が容易に
なるのである。
なお、ガラスと酸溶液の反応速度が緩やかであることが
好ましいのは上述の通りであり、このことがら極く薄い
硝酸溶液で処理する方法も考えられるが、このような希
硝酸溶液を用いて工業的規模で反射防止処理を行う場合
、その濃度等の制御が極めて困難である。それゆえ本発
明は弱酸溶液を使用するのであるが、常温の弱酸溶液を
PbOを25〜50重量%含有する鉛ガラスに用いると
処理に極めて長い時間を要し、作業効率を著しく低下さ
せるため、弱酸溶液をBθ℃以上にして酸処理時間の設
定が困難にならない程度に反応速度を上げる。
また本発明が弱酸溶液として酢酸溶液が好ましいとして
いるのは、安価で、且つ入手が容易であるとともに、金
属腐蝕作用が極めて小さく、酸溶液槽や処理するガラス
の移送用金具(共に主としてステンレス製である)を腐
蝕させないため、金サビ等の液中浮遊物を発生させる危
険性がないことによる。このような理由から酢酸溶液を
用いるが、これ以外にもクエン酸溶液、シュウ酸溶液、
硝酸アンモニウム溶液等を使用することが可能である。
[実施例] 以下本発明のガラス表面処理方法を実施例に基づき説明
する。
重量%でSiO。45.5%、Ba0 2%、Pb0 
35%、Na.0 3%、K20l3%、CeO21.
5%のガラスになるように調合した原料バッチを石英ル
ツボに投入し、約1200℃で4時間溶融した後、金型
に流し込んで板状に成形した。次いで徐冷した板状成形
品を30X30X10+amの大きさに切り出し、その
両面を光学研磨して試料を得た。このようにして得られ
た試料を、放射性物質を取り扱う施設内部で通常用いら
れるナトリウム光(589.3nm )近傍における反
射率を低減させるために以下のような反射防止処理を施
した。まず得られた試料を80℃、1/10規定度の酢
酸溶液あるいはBO℃、1/lO規定度の硝酸溶液に浸
漬して酸処理を施した。次にこの酸処理した試料を酸溶
液と同温度の水道水で十分にすすいだ後、表面に付いて
いる水滴をふきとった。
その後乾燥機を用いて110℃で24時間加熱した。
図面は、上記のようにして反射防止処理を施した試料一
面の550nmにおける全反射率と酸処理時間との関係
を示したものである。なお処理前の全反射率は5.5%
であり、この全反射率の値が2%以下になる浸漬時間を
最適酸処理時間とした。
図面から酢酸溶液で処理した試料(a)の最適酸処理時
間は約10〜15時間であり、硝酸溶液で処理した試料
(b)のそれが0.75〜1時間であるのに対して時間
的な幅が広いことが明らかである。
また酢酸溶液に15時間浸漬した試料(a)と硝酸溶液
に1時間浸漬した試料(b)の表面状態を比較したとこ
ろ、硝酸溶液に浸漬した試料(b)の表面吠態は浸蝕む
らによる不均質な干渉色が認められたのに対して、酢酸
溶液に浸漬した試料(a)には浸蝕むらは全く認められ
ず、表面は一様に濃紫色を呈した。ナトリウム光の17
4の厚さに成膜した場合、反射光は黄緑色が最も干渉し
て消光し、外観はその補色として紫色を呈することから
、酢酸溶液に浸漬した試料(a)は反射防止層の厚さが
ナトリウム光の174の厚さ相当であることがわかる。
これらの事実は本発明のガラス表面処理方法が、PbO
を25〜50%含有する鉛ガラスに対して、低い全反射
率を得る酸処理時間の幅が広いために処理条件の設定が
容易であり、また表面状態のよい反射防止層を形成する
のに適していることを示している。
なお、図面中の全反射率は波長550nmにおける値を
示したものであり、l50φmm積分球付分光光度計を
用いて硫酸バリウムの白色拡散板を基準として測定した
[効果] 以上のように本発明のガラス表面処理方法によれば、P
bOを重量%で25〜50%含有する鉛ガラスに対して
、反応が緩やかで均一に進み、処理条件の設定が容易で
あるために、ガラス表面に良好な反射防止層を歩留まり
よく形成することができる。
【図面の簡単な説明】
図面は、試料一面の550nmにおける全反射率と酸処
理時間との関係を示したグラフであり、図中の(a)は
酢酸溶液による処理、(b)は硝酸溶液による処理であ
る。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)重量%でPbOを25〜50%含有する鉛ガラス
    の表面を、60℃以上の弱酸溶液で処理した後、水洗し
    、加熱脱水することによって反射防止層を形成してなる
    ことを特徴とするガラス表面処理方法。
  2. (2)弱酸溶液が酢酸溶液であることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載のガラス表面処理方法。
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