JPH03215928A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH03215928A JPH03215928A JP2011528A JP1152890A JPH03215928A JP H03215928 A JPH03215928 A JP H03215928A JP 2011528 A JP2011528 A JP 2011528A JP 1152890 A JP1152890 A JP 1152890A JP H03215928 A JPH03215928 A JP H03215928A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- projection
- wafer
- hand
- illuminance
- optical system
- Prior art date
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- Pending
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業」二の利用分野）
本発明は半導体製造用の露光装置に関し、特にレチクル
面」二に形成されている回路パターンを投影光学系によ
り投影面であるウエハ而に所定の倍率で投影露光する際
の該投影面内の照度及び照度分布を測定する照度測定手
段を設けた露光装置に関するものである。
面」二に形成されている回路パターンを投影光学系によ
り投影面であるウエハ而に所定の倍率で投影露光する際
の該投影面内の照度及び照度分布を測定する照度測定手
段を設けた露光装置に関するものである。
（従来の技術）
最近の半導体製造技術は電子回路の高集積化に伴い、解
像パターン線幅も例えばｌμｍ以下となり、光学的な露
光装置においても従来に比べてより高解像力化されたも
のが要望されている。
像パターン線幅も例えばｌμｍ以下となり、光学的な露
光装置においても従来に比べてより高解像力化されたも
のが要望されている。
般にレチクル面上の回路パターンを投影光学系を介して
ウエハ面（投影面）」二に投影する際回路パターンの解
像線幅は使用波長や投影光学系のＮ Δ等と共に投影面
上における照度分布の均−性の良否が大きく影響してく
る。
ウエハ面（投影面）」二に投影する際回路パターンの解
像線幅は使用波長や投影光学系のＮ Δ等と共に投影面
上における照度分布の均−性の良否が大きく影響してく
る。
この為従来の多くの露光装置てはウエハを載置ずるＸＹ
ステーシ面上に照度削を配置して投影面上における照度
分布を種々の方法により測定している。
ステーシ面上に照度削を配置して投影面上における照度
分布を種々の方法により測定している。
例えば
（イ）ウエハを載置するＸＹステーシの一部に照度泪な
’Ａ着しておき、必要に応して、ｘＹステーシ上の照度
計を投影面上に移動させて照度分布を測定する方法。
’Ａ着しておき、必要に応して、ｘＹステーシ上の照度
計を投影面上に移動させて照度分布を測定する方法。
（口）ｘＹステーシ面上の一部に測定に際してその都度
照度計を載置し、ＸＹステーシを移動させながら投影面
内の照度分４１を測定する方法。
照度計を載置し、ＸＹステーシを移動させながら投影面
内の照度分４１を測定する方法。
等か用いられている。
（発明か解決しようとする問題点）
投影面における照度分布を測定する方法のうち前記（イ
）の方法はＸＹステーシ面」二に照度計を常備ずる為Ｘ
Ｙステーシが大型化し、ＸＹステーシの駆動力か増加し
てくる。この為移動速度（加速度）を照度計を載置する
前と同様に設定しようとするとｘＹステーシの加振力か
増大し、装置全体の振動か増大し、アライメント精度が
低下すると共に解像力か低下してくる。又露光装置の振
動か収束するまて待つとスループットか低下してくると
いう問題点かあった。
）の方法はＸＹステーシ面」二に照度計を常備ずる為Ｘ
Ｙステーシが大型化し、ＸＹステーシの駆動力か増加し
てくる。この為移動速度（加速度）を照度計を載置する
前と同様に設定しようとするとｘＹステーシの加振力か
増大し、装置全体の振動か増大し、アライメント精度が
低下すると共に解像力か低下してくる。又露光装置の振
動か収束するまて待つとスループットか低下してくると
いう問題点かあった。
又ＸＹステーシ上に載置した照度創を投影領域全体にわ
たり移動させねばならすＸＹステーシの可動ストローク
か増大すると共にｘＹスデーシの加工範囲か増大し高精
度な移動か難しくなってくるという問題点かあった。
たり移動させねばならすＸＹステーシの可動ストローク
か増大すると共にｘＹスデーシの加工範囲か増大し高精
度な移動か難しくなってくるという問題点かあった。
方前記（口）の方法はＸＹステーシの大型化及び可動ス
トロークの増大化は防止されるか、測定の際にその都度
ウエハーチャックを取り列し、照度８１をＸＹステーシ
面上に装着しな番プればならずスループッ１・か低下す
ると共にウエハーチャックの着脱操作の繰り返しにより
ウエハーチャックと投影光学系の投影面との平行度か変
化してきて、解像力か低下してくるという問題点かあっ
た。
トロークの増大化は防止されるか、測定の際にその都度
ウエハーチャックを取り列し、照度８１をＸＹステーシ
面上に装着しな番プればならずスループッ１・か低下す
ると共にウエハーチャックの着脱操作の繰り返しにより
ウエハーチャックと投影光学系の投影面との平行度か変
化してきて、解像力か低下してくるという問題点かあっ
た。
本発明は露光装置内のウエハをＸＹステーシ」一に搬入
ずる為のウエハ搬入ハンドの一部に光検出部を設け、該
光検出部からの出力信号を利用することによりＸＹステ
ージの大型化、長ストローク化を防止しつつ投影面内に
おける照度及び照度分布を迅速にしかも高精度に測定す
ることができ高解像力の投影焼付けが可能な露光装置の
提供を目的とする。
ずる為のウエハ搬入ハンドの一部に光検出部を設け、該
光検出部からの出力信号を利用することによりＸＹステ
ージの大型化、長ストローク化を防止しつつ投影面内に
おける照度及び照度分布を迅速にしかも高精度に測定す
ることができ高解像力の投影焼付けが可能な露光装置の
提供を目的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明の露光装置は照明系からの光束で被照射而」二に
載置した投影物体を照明し、該投影物体を投影光学系に
より、搬送ハンドで投影面上に搬入された被投影物体面
上に所定倍率で投影するようにした露光装置において、
該搬送ハンドの一部に光検出部を配置し、該搬送ハンド
を利用することにより該投影面」一における照度又は／
及び照度分布を測定するようにした照度測定手段を設け
たことを特徴としている。
載置した投影物体を照明し、該投影物体を投影光学系に
より、搬送ハンドで投影面上に搬入された被投影物体面
上に所定倍率で投影するようにした露光装置において、
該搬送ハンドの一部に光検出部を配置し、該搬送ハンド
を利用することにより該投影面」一における照度又は／
及び照度分布を測定するようにした照度測定手段を設け
たことを特徴としている。
この他本発明では前記光検出部を複数の素子を１次元方
向に配置した１次元センサーにより構成し、前記搬送ハ
ンドを前記投影光学系の光軸と直交する平面内を移動さ
せたごとを特徴としている。
向に配置した１次元センサーにより構成し、前記搬送ハ
ンドを前記投影光学系の光軸と直交する平面内を移動さ
せたごとを特徴としている。
（実施例）
第１図は本発明の第１実施例の要部概略図、第２図は第
１図の一部分の拡大説明図である。
１図の一部分の拡大説明図である。
第１、第２図において１は照明系てある。照明系１は超
高圧水銀灯又はエキシマレーザから成る光源１０１と、
該光源１０１からの光束をハーフミラー１０３とミラー
１０４，１０５を介して被照射面上に配置した投影物体
てあるレチクル５面上を均−照射する照明光学系１０２
を有している。
高圧水銀灯又はエキシマレーザから成る光源１０１と、
該光源１０１からの光束をハーフミラー１０３とミラー
１０４，１０５を介して被照射面上に配置した投影物体
てあるレチクル５面上を均−照射する照明光学系１０２
を有している。
又本実施例ては光源１０１からの光束の一部をハーフミ
ラー１０３て反射し，集光レンズ１０６により光源１０
１の放射強度を測定する為の受光素子１０７に導光して
いる。
ラー１０３て反射し，集光レンズ１０６により光源１０
１の放射強度を測定する為の受光素子１０７に導光して
いる。
レチクル５面上には被投影物体てあるウェハ９に投影転
写する為の回路パターンか石英板上に数倍に拡大されて
形成されている。
写する為の回路パターンか石英板上に数倍に拡大されて
形成されている。
８は投影レンズ系てあり、レチクル５面上の回路パター
ンをウエハ９面上に所定の倍率て投影している。８ａは
投影レンズ系８の光軸、８ｂは投影レンズ系８の投影有
効画面である。
ンをウエハ９面上に所定の倍率て投影している。８ａは
投影レンズ系８の光軸、８ｂは投影レンズ系８の投影有
効画面である。
２はウエハ搬送ハンドであり、ウエハ９を搬送する際に
ウエハ９を保持ずるウエハ保持部９ｌとウエハ保持部９
１を支持するウエハ搬送アーム９２を有している。
ウエハ９を保持ずるウエハ保持部９ｌとウエハ保持部９
１を支持するウエハ搬送アーム９２を有している。
９３はウエハハンド駆動用送りネジであり、ウエハ搬送
ハンド２の移動を規制している。
ハンド２の移動を規制している。
９４はウエハハンド駆動用モータでありウエハ搬送ハン
ド２をウエハハンド駆動用送りネジ９３に沿って駆動さ
せている。
ド２をウエハハンド駆動用送りネジ９３に沿って駆動さ
せている。
ウエハハンド駆動用モータ９４の一部にはウエハハンド
駆動エンコーダ（不図示）が設けられており、ウエハ搬
送ハンド２の移動量を検出している。また、ウエハハン
ド２は、投影レンズ系８の光軸方向（Ｚ方向）に移動可
能である。３は照度測定手段である。照度検出手段３は
ウエハ搬送アーム９２の一部に装着されている光検出部
３１、ブリアンブ３２、照度分布演算部３３そして照度
計３４を有している。光検出部３ｌは複数の素子を１次
元方向に（Ｘ方向）に配置した１次元センサーより成っ
ている。４ｌはＸ方向の移動を行うＸステージ、４２は
Ｙ方向の移動を行うＹステーシてある。
駆動エンコーダ（不図示）が設けられており、ウエハ搬
送ハンド２の移動量を検出している。また、ウエハハン
ド２は、投影レンズ系８の光軸方向（Ｚ方向）に移動可
能である。３は照度測定手段である。照度検出手段３は
ウエハ搬送アーム９２の一部に装着されている光検出部
３１、ブリアンブ３２、照度分布演算部３３そして照度
計３４を有している。光検出部３ｌは複数の素子を１次
元方向に（Ｘ方向）に配置した１次元センサーより成っ
ている。４ｌはＸ方向の移動を行うＸステージ、４２は
Ｙ方向の移動を行うＹステーシてある。
Ｘステーシ４１はＹステーシ４２により支持されている
。
。
４３はステーシ定盤てあり、Ｘステージ４ｌとＹステー
ジ４２を支持している。
ジ４２を支持している。
６はＤＣサーボモータであり、Ｙステージ４２に支持さ
れ、Ｘステーシ４ｌをＸ方向に駆動させている。
れ、Ｘステーシ４ｌをＸ方向に駆動させている。
４４はベース定盤てありウェハ搬送ハンド２やウエハハ
ンド駆動用モータ９４そしてＸステージ、Ｙステーシ等
の各要素を載置している。
ンド駆動用モータ９４そしてＸステージ、Ｙステーシ等
の各要素を載置している。
７は鏡筒定盤であり照明系ｌや投影レンズ系８を支持し
ている。
ている。
本実施例においてレチクル５面−１−の回路パターンを
投影レンズ系８によりウェハ９面」二に投影露光する場
合にはウエハ供給ハンド（不図示）によりウエ八カセッ
ト（不図示）からウェハ９をウエハ搬送ハンド２のウエ
ハ保持部９ｌに供給する。そして真空吸着され保持され
る。ウエハ９を載置したウエハ搬送ハンド２はウエハハ
ンド駆動用モータ９４でウエハハンド駆動用送りネジ９
３に沿ってｙ軸方向に駆動されこれによりウェハ９はＸ
Ｙステージ上に載置される。そしてｘＹステージの駆動
によりレヂクル５とウエハ９との位置合わせが行われる
。その後照明系ｌからの露光光により照明されたレヂク
ル５面上の回路パターンを投影レンズ系８によりウエハ
９面上に投影露光している。
投影レンズ系８によりウェハ９面」二に投影露光する場
合にはウエハ供給ハンド（不図示）によりウエ八カセッ
ト（不図示）からウェハ９をウエハ搬送ハンド２のウエ
ハ保持部９ｌに供給する。そして真空吸着され保持され
る。ウエハ９を載置したウエハ搬送ハンド２はウエハハ
ンド駆動用モータ９４でウエハハンド駆動用送りネジ９
３に沿ってｙ軸方向に駆動されこれによりウェハ９はＸ
Ｙステージ上に載置される。そしてｘＹステージの駆動
によりレヂクル５とウエハ９との位置合わせが行われる
。その後照明系ｌからの露光光により照明されたレヂク
ル５面上の回路パターンを投影レンズ系８によりウエハ
９面上に投影露光している。
レチクル５とウエハ９との位置合わせから投影露光まで
の工程を複数回繰り返すことにょりウエハ９全面にレチ
クル５面上の回路パターンを投影露光している。
の工程を複数回繰り返すことにょりウエハ９全面にレチ
クル５面上の回路パターンを投影露光している。
そしてウエハ９全面の投影露光が終了したらウエハ搬送
ハンド２によりｘＹステージからウェハ９を回収し、該
ウエハを装置外に搬出してぃる。
ハンド２によりｘＹステージからウェハ９を回収し、該
ウエハを装置外に搬出してぃる。
次に投影レンズ系８による投影面（レチクルパターンの
像面に相当）内における照度又は／及び照度分布を測定
する場合にはレチクルハンド（不図示）によりレチクル
５をレチクルステージより搬出する。
像面に相当）内における照度又は／及び照度分布を測定
する場合にはレチクルハンド（不図示）によりレチクル
５をレチクルステージより搬出する。
そしてウエハ搬送ハンドに２にウエハを保持していない
状態でウエハハンド駆動用モータ９４により、ウエハ搬
送ハンド２を所定量ｙ軸方向に駆動用送りネジ９２に沿
って駆動させる。またＺ方向に関する位置を調整する。
状態でウエハハンド駆動用モータ９４により、ウエハ搬
送ハンド２を所定量ｙ軸方向に駆動用送りネジ９２に沿
って駆動させる。またＺ方向に関する位置を調整する。
このときウエハ搬送アーム９２の一部に設けた１次元セ
ンサーにより成る光検出部３１が投影レンズ系８の投影
有効画面８ｂ内に位置するようにｙ及びＺ方向へのアー
ム９２の移動が制御される。
ンサーにより成る光検出部３１が投影レンズ系８の投影
有効画面８ｂ内に位置するようにｙ及びＺ方向へのアー
ム９２の移動が制御される。
次いで光源１０１を点燈し、照明系ｌからの光束で投影
レンズ系８の投影有効画面８ｂ内を照明する。そして光
検出部３ｌが投影有効画面８ｂ内のｙ軸方向を走査する
ようにウエハ搬送ハンド２をｙ軸方向に移動させること
により投影画面内の照度を順次測定している。
レンズ系８の投影有効画面８ｂ内を照明する。そして光
検出部３ｌが投影有効画面８ｂ内のｙ軸方向を走査する
ようにウエハ搬送ハンド２をｙ軸方向に移動させること
により投影画面内の照度を順次測定している。
このとき光検出部３１で光電変換された信号をプレアン
プ３２を介し照度分布演算部３３に順次伝送する。そし
て照度分布演算部３３て照度計３４からの信号を参照し
て投影光学系８による投影面内の照度分布を測定してい
る。
プ３２を介し照度分布演算部３３に順次伝送する。そし
て照度分布演算部３３て照度計３４からの信号を参照し
て投影光学系８による投影面内の照度分布を測定してい
る。
尚本実施例において光検出部３１を複数の素子を２次元
的に配列した２次元センサーより構成しても良い。この
とき２次元センサーの有効受光面か投影光学系の有効投
影面上より大きい場合はウエハ搬送ハンド２により２次
元センサーを有効投影面上に移動させれば、その後はウ
ェハ搬送ハンド２は固定のままて照度分布を測定するこ
とかてきる。
的に配列した２次元センサーより構成しても良い。この
とき２次元センサーの有効受光面か投影光学系の有効投
影面上より大きい場合はウエハ搬送ハンド２により２次
元センサーを有効投影面上に移動させれば、その後はウ
ェハ搬送ハンド２は固定のままて照度分布を測定するこ
とかてきる。
又小さい場合はウエハ搬送ハンド２を移動させて各領域
における照度を測定し，照度分布演算部３３により各測
定位置における照度と照度計３４からの信号とを参照し
て投影面内の照度分布を求めるようにしている。
における照度を測定し，照度分布演算部３３により各測
定位置における照度と照度計３４からの信号とを参照し
て投影面内の照度分布を求めるようにしている。
尚、本実施例において投影レンズの代わりに凹面鏡と凸
面鏡を有するミラー系を用いても本発明ｌ１ は適用ずることかてきる。
面鏡を有するミラー系を用いても本発明ｌ１ は適用ずることかてきる。
（発明の効果）
本発明によれば前述の如くウエハ搬送ハンドの一部に照
度測定手段の一部てある光検出部を設け、該ウエハ搬送
ハンドを利用することによりＸＹステーシの大型化及び
長ストローク化を防止し、投影光学系による有効投影面
−トにおける任意のψ域の照度及び照度分布を迅速にし
かも高精度に測定することかてき、高精度な投影焼付け
か可能な露光装置を達成することがてきる。
度測定手段の一部てある光検出部を設け、該ウエハ搬送
ハンドを利用することによりＸＹステーシの大型化及び
長ストローク化を防止し、投影光学系による有効投影面
−トにおける任意のψ域の照度及び照度分布を迅速にし
かも高精度に測定することかてき、高精度な投影焼付け
か可能な露光装置を達成することがてきる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の第１実施例の要部概略図、第２図は第
１図の一部分の拡大説明図ある。 図中１は照明系，２はウエハ搬送ハンド、３は照度測定
手段，５はレチクル、６はＤＣサーボモータ、７は鏡筒
定盤、８は投影レンズ系、９はウエハ、１０１は光源、
１０７は受光素子１０２は照明光学系、３ｌは光検出部
、３２はプレアンプ、３３は照度分布演算部、３４は照
度計、４ｌはＸステーシ，４２はＹステーシ、４３はス
テ−１２ ジ定盤、４４はベース定盤、９ｌはウエハ保持部、９２
はウエハ搬送アーム、９３はウエハハンド駆動用ネジ、
９４はウエハハンド駆動用モータてある。
１図の一部分の拡大説明図ある。 図中１は照明系，２はウエハ搬送ハンド、３は照度測定
手段，５はレチクル、６はＤＣサーボモータ、７は鏡筒
定盤、８は投影レンズ系、９はウエハ、１０１は光源、
１０７は受光素子１０２は照明光学系、３ｌは光検出部
、３２はプレアンプ、３３は照度分布演算部、３４は照
度計、４ｌはＸステーシ，４２はＹステーシ、４３はス
テ−１２ ジ定盤、４４はベース定盤、９ｌはウエハ保持部、９２
はウエハ搬送アーム、９３はウエハハンド駆動用ネジ、
９４はウエハハンド駆動用モータてある。
Claims (3)
- （１）照明系からの光束で被照射面上に載置した投影物
体を照明し、該投影物体を投影光学系により、搬送ハン
ドで投影面上に搬入された被投影物体面上に所定倍率で
投影するようにした露光装置において、該搬送ハンドの
一部に光検出部を配置し、該搬送ハンドを利用すること
により該投影面上における照度又は／及び照度分布を測
定するようにした照度測定手段を設けたことを特徴とす
る露光装置。 - （２）前記光検出部を複数の素子を１次元方向に配置し
た１次元センサーより構成し、前記搬送ハンドを前記投
影光学系の光軸と直交する平面内を移動させたことを特
徴とする請求項１記載の露光装置。 - （３）前記光検出部を前記投影光学系による有効投影面
と略同等の面積を有する２次元センサーより構成したこ
とを特徴とする請求項１記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011528A JPH03215928A (ja) | 1990-01-20 | 1990-01-20 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011528A JPH03215928A (ja) | 1990-01-20 | 1990-01-20 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03215928A true JPH03215928A (ja) | 1991-09-20 |
Family
ID=11780469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011528A Pending JPH03215928A (ja) | 1990-01-20 | 1990-01-20 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03215928A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8826595B2 (en) | 2010-11-08 | 2014-09-09 | Yachiyo Industry Co., Ltd. | Window regulator in which a means for fixing and supporting a drive motor, a means for fixing and supporting a guide rail, a means for holding an orbit of an elongate push-pull member in an idle path, and a means for mounting on an object are integrally formed |
| JP2018110271A (ja) * | 2009-05-15 | 2018-07-12 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、デバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
-
1990
- 1990-01-20 JP JP2011528A patent/JPH03215928A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018110271A (ja) * | 2009-05-15 | 2018-07-12 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、デバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
| US8826595B2 (en) | 2010-11-08 | 2014-09-09 | Yachiyo Industry Co., Ltd. | Window regulator in which a means for fixing and supporting a drive motor, a means for fixing and supporting a guide rail, a means for holding an orbit of an elongate push-pull member in an idle path, and a means for mounting on an object are integrally formed |
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