JPH03216892A - Semiconductor memory and semiconductor integrated circuits - Google Patents
Semiconductor memory and semiconductor integrated circuitsInfo
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- JPH03216892A JPH03216892A JP2010946A JP1094690A JPH03216892A JP H03216892 A JPH03216892 A JP H03216892A JP 2010946 A JP2010946 A JP 2010946A JP 1094690 A JP1094690 A JP 1094690A JP H03216892 A JPH03216892 A JP H03216892A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、半導体メモリに関し、特に、そのメモリセル
へのデータの書き込み制御に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory, and particularly to control of writing data into memory cells thereof.
[従来の技術コ
従来の半導体メモリに於けるデータの読み出し回路およ
びデータの書き込み回路としては、アイ・エス・エス・
シー・シー, ダイジェストオブテクニカル ペーパー
ズ,第186頁から第187頁,1988年(I S
SCC, Digest ofTecnical Pa
pers,PP.1 8 6 − L 8 7,1 9
8 8)に於いて論じられているものが知られている
。[Conventional technology] As a data read circuit and a data write circuit in a conventional semiconductor memory, I.S.S.
C.C., Digest of Technical Papers, pp. 186-187, 1988 (IS
SCC, Digest of Technical Pa
pers, PP. 1 8 6 - L 8 7, 1 9
The one discussed in 8) is known.
第7図に,この従来の半導体メモリにおける読み出し回
路およびデータの書き込み回路の概略図を示す。FIG. 7 shows a schematic diagram of a read circuit and a data write circuit in this conventional semiconductor memory.
図中、1はデータ線負荷回路、D、/Dはデー夕線対、
WLはワード線、2はメモリセル、101 (Ml),
102 (M2)は書き込み用のトランスファーゲート
、M3、M4は読み呂し用のトランスファーゲート、3
はカラム選択信号/Yiと書き込み制御信号/Wを入力
とする2人力NORゲート、4はアドレスAo−Anに
ょリカラム選択信号/Yiを発生するデコーダ回路、1
oはメモリセルのデータを読み出すための共通読み出し
線、11はメモリセルヘデータを書き込むための共通書
き込み線である6
共通読み出しgio、および、共通書き込み線11へは
、複数カラムのデータ線が読み出し用トランスファーゲ
ート103 (M3).104(M4)および、書き込
み用トランスファーゲート101 (Ml),102
(M2)を介して接続されている。In the figure, 1 is a data line load circuit, D and /D are data line pairs,
WL is a word line, 2 is a memory cell, 101 (Ml),
102 (M2) is a transfer gate for writing, M3 and M4 are transfer gates for reading, 3
1 is a two-man NOR gate that receives a column selection signal /Yi and a write control signal /W; 4 is a decoder circuit that generates an address Ao-An column selection signal /Yi; 1
o is a common read line for reading data from memory cells, and 11 is a common write line for writing data to memory cells. transfer gate 103 (M3). 104 (M4) and write transfer gates 101 (Ml), 102
(M2).
以下,この従来技術に係る半導体メモリの動作について
、説明する。The operation of the semiconductor memory according to this prior art will be explained below.
メモリセルからのデータの読み出し動作は、ワードI!
WLの立上がりによりメモリセル2に保持されたデータ
がデータ線対D./Dに電位差となって現れる。The operation of reading data from a memory cell is performed using word I!
When WL rises, the data held in memory cell 2 is transferred to data line pair D. /D appears as a potential difference.
この場合、読み出しサイクルであるから、書き込み制御
信号/WはH igh、また力ラム選択信号/Yiは選
択されているためLotiである。したがって,書き込
み用トランスファーゲート101(Ml) 、102
(M2)はOFF、読ミ出シ用トランスファーゲート1
03 (M3).104(M4)はONとなり、データ
線対D、/Dに現れた電位差は共通読み出し線1oへ伝
搬され読み出される。In this case, since it is a read cycle, the write control signal /W is High, and the power ram selection signal /Yi is selected, so it is Loti. Therefore, write transfer gates 101 (Ml), 102
(M2) is OFF, transfer gate 1 for readout
03 (M3). 104 (M4) is turned on, and the potential difference appearing on the data line pair D and /D is propagated to the common read line 1o and read out.
一方、データの書き込み動作時では、書き込み制御信号
/Wおよび、カラム選択信号/Yエが共にlowとなる
ため、書き込み用トランスファーゲート101 (Ml
).102 (M2)および、読み出し用トランスファ
ーゲート103 (M3).104(M4)が全てON
となる。On the other hand, during the data write operation, the write control signal /W and the column selection signal /YE are both low, so the write transfer gate 101 (Ml
). 102 (M2) and a read transfer gate 103 (M3). 104 (M4) are all ON
becomes.
共通書き込み線11に書き込まれたデータは、書き込み
用トランスファーゲート101(Ml)、102 (M
2)を介しデータ線対D、/Dへ伝搬され,i!!択さ
れているワード線WLのメモリセル2へ書き込まれる。The data written to the common write line 11 is transferred to write transfer gates 101 (Ml) and 102 (M
2) to the data line pair D, /D, i! ! is written into the memory cell 2 of the selected word line WL.
また書き込まれたデータは、データ線から読み出し用ト
ランスファーゲート103 (M3)、104 (M4
)を介し共通読み出し110へも伝搬される。Also, the written data is read from the data line through transfer gates 103 (M3) and 104 (M4).
) to the common readout 110.
以上のように、従来の半導体メモリにおいてメモリセル
2の読み出し,および、書き込みが実現されていた。As described above, reading and writing of the memory cell 2 has been realized in the conventional semiconductor memory.
[発明が解決しようとする課題]
従来技術に係る半導体メモリは、前述したように構成さ
れているめ,共通読み出し線を、メモリセルへのデータ
書き込みが発生する度に充放電していた。[Problems to be Solved by the Invention] Since the semiconductor memory according to the prior art is configured as described above, the common read line is charged and discharged every time data is written to a memory cell.
しかし,複数カラムが接続されているため重負荷となっ
ている共通読み出し線を,メモリセルへのデータ書き込
みが発生する度に充放電することは、書き込みに要する
時間の増大を招くという問題があった。However, charging and discharging the common read line, which has a heavy load because multiple columns are connected, every time data is written to a memory cell has the problem of increasing the time required for writing. Ta.
また、メモリセルへのデータ書き込みが終了した場合、
メモリセルへの誤まったデータの書き込みや、書き込み
直後の読み出し時間の遅れを防止するため、データ線を
書き込み時の電位から読み出し時の電位までリカバリし
なければならないが、従来技術では、データ線と共に重
負荷の共通読み出し線の電位もリカバリしなければなら
ず、リカバリに要する時間の増大を招くという問題があ
った。Also, when data writing to the memory cell is completed,
In order to prevent incorrect data from being written to a memory cell or a delay in read time immediately after writing, it is necessary to recover the data line from the write potential to the read potential. At the same time, the potential of the heavily loaded common readout line must also be recovered, which poses a problem of increasing the time required for recovery.
半導体メモリの大容量化は共通読み出し線の負荷の増大
を招くため、近年の半導体メモリの大容量化および高速
アクセス化の要請の下、かかる問題は重大である。Increasing the capacity of semiconductor memories leads to an increase in the load on the common readout line, so this problem has become serious due to the recent demand for larger capacities and faster access of semiconductor memories.
また低消費電力化の要請にも反する。It also goes against the demand for lower power consumption.
そこで、本発明は,半導体メモリにおいて,メモリセル
へのデータの書き込み時間の高速化を目的とし、また,
データ線リカバリ時間の高速化を目的とする。Therefore, an object of the present invention is to speed up the writing time of data to a memory cell in a semiconductor memory, and to
The purpose is to speed up data line recovery time.
[課題を解決するための手段コ
前記目的達成のために、本発明は、メモリセルと、メモ
リセルにデータを書き込む為の書き込み線と、メモリセ
ルのデータを読み出す為の読み出し線と、メモリセルに
接続し、かつ、メモリセルよりのデータ読み出し時に接
続しメモリセルへのデータ書き込み時に遮断する第1の
電子スイッチを介して読み出し線に接続され、かつ、メ
モリセルへのデータ書き込み時に第2の電子スイッチを
介して前記書き込み線に接続されるデータ線と、データ
書き込み時にデータ線と読み出し線を接続する前記第1
の電子スイッチを遮断する手段と,を有することを特徴
とする第1の半導体メモリを提供する。[Means for Solving the Problems] To achieve the above object, the present invention provides a memory cell, a write line for writing data to the memory cell, a read line for reading data from the memory cell, and a memory cell. and a second electronic switch connected to the read line via a first electronic switch that is connected when reading data from the memory cell and shut off when writing data to the memory cell; a data line connected to the write line via an electronic switch; and a first line connecting the data line and the read line when writing data.
and means for shutting off an electronic switch.
また、本発明は、前記目的達成のために、メモリセルと
、メモリセルにデータを書き込む為の書き込み線と、メ
モリセルのデータを読み出す為の読み出し線と,メモリ
セルに接続し、かつ、メモリセルよりのデータ読み出し
時およびメモリセルへのデータ書き込み時に接続する第
1の電子スイッチとメモリセルへのデータ書き込み時に
遮断する第2の電子スイッチとを介して読み出し線に接
続され、かつ、メモリセルへのデータ書き込み時に接続
する第3の電子スイッチを介して前記書き込み線に接続
されるデータ線と、有することを特徴とする第2の半導
体メモリを提供する。In order to achieve the above object, the present invention also provides a memory cell, a write line for writing data to the memory cell, a read line for reading data from the memory cell, and a memory cell connected to the memory cell. The memory cell is connected to the read line via a first electronic switch that is connected when reading data from the cell and when writing data to the memory cell, and a second electronic switch that is cut off when writing data to the memory cell. and a data line connected to the write line via a third electronic switch connected when writing data to the write line.
また、前記目的達成のために、マトリクス状に配列した
メモリセルよりなるメモリセルアレイと、メモリセルを
選択するアドレスデコーダと、各メモリセルにデータを
書き込む為の共通書き込み線と、各メモリセルのデータ
を読み呂す為の共通読み出し線と、メモリセルよりのデ
ータ読み出し時に選択されたメモリセルのデータ線を前
記共通読み出し線に接続し、メモリセルへのデータ書き
込み時に選択されたメモリセルのデータ線と前記共通読
み出し線とを遮断する手段と、メモリセルヘのデータ書
き込み時に選択されたメモリセルのアータ線を前記共通
書き込み線に接続する手段と、を有することを特徴とす
る第3の半導体メモリを提供する。In order to achieve the above-mentioned purpose, a memory cell array consisting of memory cells arranged in a matrix, an address decoder for selecting memory cells, a common write line for writing data to each memory cell, and a data set for each memory cell are provided. A common read line for reading data from the memory cell and a data line of the memory cell selected when reading data from the memory cell are connected to the common read line, and a data line of the memory cell selected when writing data to the memory cell is connected to the common read line. and means for connecting the arta line of a selected memory cell to the common write line when data is written to the memory cell. do.
なお、1チップCPUやキャッシュメモリLSIや他コ
ントローラIC等の半導体集積回路は、前記第1、2ま
たは3の半導体メモリを内臓することが望ましい。また
,コンピュータ等の情報処理装置は、そのメモリとして
前記第1、2または3の半導体メモリを備えることが望
ましい。Note that it is desirable that a semiconductor integrated circuit such as a one-chip CPU, a cache memory LSI, or another controller IC incorporate the first, second, or third semiconductor memory. Further, it is preferable that an information processing device such as a computer includes the first, second, or third semiconductor memory as its memory.
[作 用]
本発明に係る第1の半導体メモリによれば,第1の電子
スイッチは、メモリセルよりのデータ読み出し時にデー
タ線と読み出し線を接続し、メモリセルへのデータ書き
込み時には遮断する。また、第2の電子スイッチは、メ
モリセルへのデータ書き込み時にデータ線と書き込み線
を接続する。[Function] According to the first semiconductor memory according to the present invention, the first electronic switch connects the data line and the read line when reading data from the memory cell, and disconnects it when writing data to the memory cell. Further, the second electronic switch connects the data line and the write line when writing data to the memory cell.
また,本発明に係る第2の半導体メモリによれば、第1
の電子スイッチはメモリセルよりのデータ読み出し時お
よびメモリセルへのデータ書き込み時に接続し、第2の
電子スイッチはメモリセルへのデータ書き込み時に遮断
する。したがい,データ線と読み出し線は,メモリセル
よりのデータ読み出し時に接続する。また、第3の電子
スイッチは、メモリセルへのデータ書き込み時にデータ
線と書き込み線を接続する。Further, according to the second semiconductor memory according to the present invention, the first
The second electronic switch is connected when reading data from the memory cell and when writing data to the memory cell, and the second electronic switch is turned off when writing data to the memory cell. Therefore, the data line and the read line are connected when reading data from the memory cell. Further, the third electronic switch connects the data line and the write line when writing data to the memory cell.
また、本発明に係る第3の半導体メモリによれば、メモ
リセルよりのデータ読み出し時に選択れたメモリセルの
データ線を前記共通読み出し肩に接続し,メモリセルへ
のデータ書き込み時に元択されたメモリセルのデータ線
と前記共通読みとし線とを遮断する。また、メモリセル
へのデーづ書き込み時に選択されたメモリセルのデータ
線k前記共通書き込み線に接続する。Further, according to the third semiconductor memory according to the present invention, the data line of the memory cell selected when reading data from the memory cell is connected to the common read shoulder, and the data line of the memory cell selected when reading data from the memory cell is connected to the common read shoulder, The data line of the memory cell and the common reading line are cut off. Further, when writing data to a memory cell, the data line k of the selected memory cell is connected to the common write line.
以上のように、第1、2、3の半導体メモリレ4よれば
、データ書き込み時に於いて、データ線と共通読み出し
線間を遮断するので、共通書き込2線の電位変化は負荷
の重い共通読み出し線へはU搬されない。As described above, according to the first, second, and third semiconductor memory layers 4, the data line and the common read line are cut off during data writing, so that the potential change of the two common write lines is caused by the heavy load common read line. It will not be carried by U to the line.
すなわち、負荷の重い共通読み出し線は書きだみ時にデ
ータ線から切り離され電位は変化しない。That is, the common read line, which has a heavy load, is disconnected from the data line during writing, and its potential does not change.
したがって、書き込み時に於いては、充放電する負背の
総容量が減るため書き込み時間が高速化できる。また,
リカバリ時に於いては、共通読み出し線の電位は変化し
ないためリカバリするのはデータ線だけで良く、結果的
にりカバリ時間が高速化できる。Therefore, during writing, the total capacity to be charged and discharged is reduced, so that the writing time can be increased. Also,
During recovery, since the potential of the common read line does not change, only the data line needs to be recovered, resulting in faster recovery time.
また、前記第1、2または3の半導体メモリを内臓した
1チップCPUやキャッシュメモリLSI等の半導体集
f@路や、そのメモリとして前記第1、2または3の半
導体メモリを備えたコンピュータ等の情報処理装置は、
メモリの高速アクセスが可能であり、よって、その高性
能化を図ることができる。In addition, a semiconductor integrated circuit such as a one-chip CPU or a cache memory LSI incorporating the first, second or third semiconductor memory, or a computer or the like having the first, second or third semiconductor memory as its memory. The information processing device is
It is possible to access the memory at high speed, and therefore its performance can be improved.
(以下余白)
[実施例コ
以下、本発明に係る半導体メモリの第1の実施例につい
て説明する。(Left below) [Embodiment 1] A first embodiment of the semiconductor memory according to the present invention will be described below.
第1図に、本第1実施例に係る半導体メモリの読み出し
回路およびデータの書き込み回路の構成を示す。FIG. 1 shows the configuration of a read circuit and a data write circuit of a semiconductor memory according to the first embodiment.
図中、1はデータ線負荷回路、D、/Dはデータ線対、
WLはワード線、2はメモリセル、101 (Ml).
102 (M2)は書き込み用のトランスファーゲート
、103 (M3).104(M4)は読み出し用のト
ランスファーゲート、3はカラム選択信号/Yiと書き
込み制御信号/Wを入力とする2人力N O Rゲート
、VCCは電源電圧を示す。In the figure, 1 is a data line load circuit, D and /D are data line pairs,
WL is a word line, 2 is a memory cell, 101 (Ml).
102 (M2) is a transfer gate for writing, 103 (M3). 104 (M4) is a transfer gate for reading, 3 is a two-man NOR gate inputting a column selection signal /Yi and a write control signal /W, and VCC is a power supply voltage.
また、105(M5)は書き込み制御信号/WがLow
の時103 (M3).104 (M4)のゲート電圧
をHighレベルへ上げるプルアンプMOS、106
(M6)は書き込み制御信号/WがHjghの時カラム
選択信号/Yiの信号を103(M3).104 (M
4)のゲートへ伝えるトランスファーゲート、4はアド
レスAo−Anによりカラム選択信号/Yiを発生する
デコーダ回路、10はメモリセルのデータを読み出すた
めの共通読み出し線、11はメモリセルヘデータを書き
込むための共通書き込み線である。共通読み出し線1o
および、共通書き込み線上1へは、図外の異なる複数の
カラムのメモリセルのデータ線が読み出し用トランスフ
ァーゲート103 (M3)、104 (M4)および
、書き込み用トランスファーゲート101 (Ml).
102 (M2)を介して接続されている。In addition, in 105 (M5), the write control signal /W is Low.
Time 103 (M3). 104 Pull amplifier MOS that raises the gate voltage of (M4) to High level, 106
(M6) sets the column selection signal /Yi to 103 (M3) when the write control signal /W is Hjgh. 104 (M
4) is a decoder circuit that generates a column selection signal /Yi based on the address Ao-An; 10 is a common read line for reading data from memory cells; 11 is for writing data into memory cells; This is the common writing line. Common readout line 1o
On the common write line 1, data lines of memory cells in a plurality of different columns (not shown) are connected to read transfer gates 103 (M3), 104 (M4) and write transfer gates 101 (Ml) .
102 (M2).
以下、その動作について説明する。The operation will be explained below.
メモリセルからのデータの読み出し動作は、まずワート
線WLの立上がりによるメモリセル2に保持されたデー
タがデータ線対D、/Dに電位差となって現れる。In the operation of reading data from a memory cell, first, the data held in the memory cell 2 due to the rise of the word line WL appears as a potential difference on the data line pair D, /D.
この場合、読み出しサイクルであるから書き込み制御信
号/WはH igh、また力ラム選択信号/Yiは選択
されているためLowである。In this case, the write control signal /W is High because it is a read cycle, and the input ram selection signal /Yi is Low because it is selected.
したがって2人力NORゲート3の出力はLowとなり
、書き込み用トランスファーゲート101(Ml).1
02 (M2)はOFFとなる。Therefore, the output of the two-man power NOR gate 3 becomes Low, and the write transfer gate 101 (Ml). 1
02 (M2) is turned OFF.
また.トランスファーゲートM6はONとなるため,カ
ラム選択信号/Y.はトランスファーゲートM6を介し
て103 (M3).104 (M4)のゲートへ伝搬
され、読み出し用トランスファーゲート103 (M3
).104 (M4)はONとなる。こうしてデータ線
対D、/Dに現れた電位差は共通読み出し線10へ伝搬
され読み出される。Also. Since transfer gate M6 is turned on, column selection signal /Y. 103 (M3). via transfer gate M6. 104 (M4), and is propagated to the readout transfer gate 103 (M3
). 104 (M4) is turned ON. The potential difference thus appearing on the data line pair D, /D is propagated to the common read line 10 and read out.
一方、データの書き込み動作時では、書き込み制御信号
/Wおよび、カラム選択信号/Yエは共にLOIllで
ある。それにより2人力N O Rゲート3の出力はH
ighとなり,書き込み用トランスファーゲート10
1 (Ml) 、102 (M2)はONする。また、
書き込み制御信号/Wによりトランスファーゲート10
6 (M6)はOFF、プルアノプMOS 105(
M5)はONとなり、ゲート電圧がプルアップされた読
み出し用トランスファーゲート103 (M3) .
104 (M4)はOFFとなる。したがって、共通書
き込み線11へ書き込まれたデータは、書き込み用トラ
ンスファーゲート101 (Ml) 、102 (M2
)を介しデータ線対D、/Dへ伝搬され、メモリセル2
へ書き込まれる。On the other hand, during a data write operation, both the write control signal /W and the column selection signal /YE are LOIll. As a result, the output of the two-man powered NOR gate 3 becomes H.
transfer gate 10 for writing.
1 (Ml) and 102 (M2) are turned on. Also,
Transfer gate 10 by write control signal /W
6 (M6) is OFF, Pluanop MOS 105 (
M5) is turned ON, and the read transfer gate 103 (M3) whose gate voltage is pulled up.
104 (M4) is turned OFF. Therefore, the data written to the common write line 11 is transferred to the write transfer gates 101 (Ml), 102 (M2
) to the data line pair D, /D, and the memory cell 2
written to.
以上、本第1実施例によれば、読み出し用トランスファ
ーゲート103 (M3).104 (M4)をOFF
する制御を、書き込み制御信号/Wで強制的に行なうこ
とができ、データ書き込み時に於いて、データ線対D、
/Dへ書き込まれたデータが共通読み出し線10へ伝搬
されることがない。As described above, according to the first embodiment, read transfer gate 103 (M3). 104 (M4) OFF
can be forcibly controlled by the write control signal /W, and when writing data, the data line pair D,
The data written to /D is not propagated to the common read line 10.
したがい、データ線を介してメモリセルヘ書き込まれた
データは、負荷容量の重い共通読み出し線へは伝搬され
ない6すなわち共通読み出し線の電位はデータ書き込み
によって変化することがないので、書き込み時に於いて
は、充放電する負荷の総容量が減り書き込み時間が高速
化できる効果がある。また、データ線等を書き込み直後
の電位から読み出し可能な電位まで復帰させるリカバリ
時においては,共通読み出し線の電位はデータ読み出し
時の電位から変化していないため、リカバリするのはデ
ータ線だけで良く,結果的にリカバノ時間が高速化でき
る効果がある。Therefore, the data written to the memory cell via the data line is not propagated to the common read line, which has a heavy load capacitance6.In other words, the potential of the common read line does not change due to data writing, so the charging This has the effect of reducing the total capacity of the load to be discharged and speeding up the writing time. In addition, during recovery to restore the data line, etc. from the potential immediately after writing to the potential that can be read, the potential of the common read line has not changed from the potential when reading data, so only the data line needs to be recovered. As a result, recovery time can be speeded up.
次に、本実施例に係る半導体メモリの第2の実施例にっ
て説明する。Next, a second example of the semiconductor memory according to this example will be explained.
第2図に本第1実施例に係る半導体メモリの読み出し回
路およびデータの書き込み回路の構成を示す。FIG. 2 shows the configuration of a read circuit and a data write circuit of a semiconductor memory according to the first embodiment.
図中、第1実施例で示した(第1図参照)半導体メモリ
と同一部分には,同一の符号を付して示し、説明を省略
する。In the figure, the same parts as the semiconductor memory shown in the first embodiment (see FIG. 1) are denoted by the same reference numerals, and the explanation thereof will be omitted.
103 (M3).104 (M4)はカラム選択信号
/Yiによって制御される第1の読み出し用トランスフ
ァーゲート、107 (M7).108(M8)は書き
込み制御信号/Wの反転信号によって制御される第2の
読み出し用トランスファーゲート、5は書き込み制御信
号/Wを反転出力するインバータ回路である。103 (M3). 104 (M4) is a first read transfer gate controlled by the column selection signal /Yi, 107 (M7). 108 (M8) is a second read transfer gate controlled by an inverted signal of the write control signal /W, and 5 is an inverter circuit that inverts and outputs the write control signal /W.
以下,その動作について説明する。The operation will be explained below.
メモリセルからのデータの読み出し動作は,まずワード
線WLの立上がりによりメモリセル2に保持されたデー
タがデータ線対D./Dに電位差となって現れる。In the operation of reading data from a memory cell, data held in memory cell 2 is first transferred to data line pair D. /D appears as a potential difference.
この場合、読み出しサイクルであるから書き込み制御信
号/WはH igh、また,カラム選択信号/Yiは選
択されているためLowである。したがって2人力NO
Rゲート3の出力はLotgとなり、書き込み用トラン
スファーゲー}−101 (Ml)、102(M2)は
OFFとなる。In this case, the write control signal /W is High because it is a read cycle, and the column selection signal /Yi is Low because it is selected. Therefore, 2-person power is NO
The output of the R gate 3 becomes Lotg, and the write transfer gates }-101 (Ml) and 102 (M2) are turned OFF.
また、第1の読み出し用トランスファーゲート103
(M3) 、104 (M4)は、カラム選択信号/Y
iがLowの為ONとなり、第2の読み出し用トランス
ファーゲート107 (M7)108 (M8)は,書
き込み制御信号/Wの反転信号がLowの為ONとなる
6
したがって、データ線対D、/Dに現れた電位差は、第
1の読み出し用トランスファーゲート101 (Ml)
.102 (M2)および、第2の読み出し用トランス
ファーゲート107(M7)、108(M8)を介して
、共通読み出し線10へ伝搬され読み出される。In addition, the first readout transfer gate 103
(M3), 104 (M4) is the column selection signal /Y
i is low, so it is turned on, and the second read transfer gates 107 (M7) 108 (M8) are turned on because the inverted signal of the write control signal /W is low.6 Therefore, the data line pair D, /D The potential difference appearing in the first readout transfer gate 101 (Ml)
.. 102 (M2) and second readout transfer gates 107 (M7) and 108 (M8), the signal is propagated to the common readout line 10 and read out.
一方、データの書き込み動作時は、書き込み制御信号/
Wおよび、カラム選択信号/Yiは共にLowである。On the other hand, during data write operation, the write control signal/
Both W and column selection signal /Yi are Low.
それにより、2人力NORゲート3の出力はH igh
、書き込み制御信号/Wの反転信号はHighとなる。As a result, the output of the two-man powered NOR gate 3 becomes High.
, the inverted signal of the write control signal /W becomes High.
したがって、書き込み用トランスファーゲート101
(Ml).102 (M2)はON,第1の読み出し用
トランスファーゲート103 (M3)、104 (M
4)もON、第2の読み呂し用トランス’77−ゲート
107 (M7) 、108 (M8)はOFFとなり
、共通書き込み線11へ書き込まれたデータは、書き込
み用トランスファーゲート101 (Ml).102
(M2)を介しデータ線対D、/Dへ伝搬され、メモ
リセル2へ書き込まれる。Therefore, write transfer gate 101
(Ml). 102 (M2) is ON, first read transfer gate 103 (M3), 104 (M
4) is also turned on, the second read transfer transformer '77-gates 107 (M7) and 108 (M8) are turned off, and the data written to the common write line 11 is transferred to the write transfer gate 101 (Ml). 102
(M2) to the data line pair D, /D, and is written into the memory cell 2.
すなわち、書き込み時に於いて、第1の読み出し用トラ
ンスファーゲート103 (M3)104 (M4)と
直列に設けられた第2の読み出し用トランスファーゲー
トを強制的にOFFにでき、データ線対D、/Dへ書き
込まれたデータが共通読み出し線1oへ伝搬されること
がない。That is, during writing, the second read transfer gate provided in series with the first read transfer gate 103 (M3) 104 (M4) can be forcibly turned off, and the data line pair D, /D Data written to the common read line 1o is not propagated to the common read line 1o.
以上、本第2の実施例によれば、第1の読み出し用トラ
ンスファーゲート103 (M3)104 (M4)と
、第2の読み出し用トランスファーゲート107 (M
7) 、108 (M8)を直列に接続している為、前
記第1の実施例に比べ、読み出し遅延時間が大きいが、
第1実施例に比べ簡易な制御で、前記第1の実施例と同
様に、データ線を介してメモリセルヘ書き込まれたデー
タの、負荷容量の重い共通読み出し線への伝搬を排除で
きる。As described above, according to the second embodiment, the first read transfer gate 103 (M3) 104 (M4) and the second read transfer gate 107 (M
7) , 108 (M8) are connected in series, the read delay time is longer than in the first embodiment.
With simpler control than in the first embodiment, it is possible to eliminate the propagation of data written into memory cells via the data line to the common read line, which has a heavy load capacitance, as in the first embodiment.
すなわち、共通読み出し線の電位はデータ書き込みによ
って変化することがないので、書き込み時に於いては、
充放電する負荷の総容量が減り書き込み時間が高速化で
きる効果がある。また、データ線等を書き込み直後の電
位から読み出し可能な電位まで復帰させるリカバリ時に
おいては、共通読み出し線の電位はデータ読み出し時の
電位から変化していないため、リカバリするのはデータ
線だけで良く、結果的にリカバリ時間が高速化できる効
果がある。In other words, the potential of the common read line does not change due to data writing, so during writing,
This has the effect of reducing the total capacity of the load to be charged and discharged and speeding up the writing time. In addition, during recovery to restore the data line, etc. from the potential immediately after writing to a potential that can be read, the potential of the common read line has not changed from the potential when reading data, so only the data line needs to be recovered. This has the effect of speeding up recovery time.
ここで、以上の実施例に係る読み出し回路およびデータ
の書き込み回路を用いた半導体メモリの全体の構成を、
第1の実施例で示した読み出し回路およびデータの書き
込み回路を用いた場合を例に取り説明する。Here, the overall configuration of a semiconductor memory using the read circuit and data write circuit according to the above embodiment is as follows.
An example in which the read circuit and data write circuit shown in the first embodiment are used will be explained.
第3図に、本実施例に係る半導体メモリの全体構成を示
す。FIG. 3 shows the overall configuration of the semiconductor memory according to this embodiment.
図中、A.はX系のアドレス信号、AYはY系のアトレ
ス信号、Doutは出力信号、Dinは入力信号、/C
Sはチップセレクト信号、/WEはライトイネーブル信
号、101はX系のアドレスバッファ、105はY系の
アドレスバッファ、102は出力バッファ、103は入
カバッファ、104はチップセレクト信号/CSとライ
トイネーブル信号/WEより書き込み制御信号/Wlお
よび、/W2を発生するコントロール回路、106はメ
モリセルから読み出された微小電圧を増幅するセンスア
ンプ、150〜15mはX系アドレスバッファ出力13
0をデコードするデコーダ回路、160〜16mはワー
ド線ドライバ、WLo〜W L mはワード線、115
は入カバッファ出力を反転するインバータ回路、116
,117は入力バッファ出力と書き込み制御信号/W2
を入力とする2人力NOR回路、118,119は書き
込みドライバ170、17nはY系アドレスバッファ出
力131をデコードするデコーダ回路、1はデータ線負
荷回路、DO、/Do=Dn、/Dnはデータ線対、2
はメモリセル、1010 (Ml)、1020 (M2
) 〜101n (Ml) 、102n(M2)は書
き込み用トランスファーゲート、1030 (M3)
、1040 (M4)−103n(M3).104n
(M4)は読み出し用トランスファーゲート.180〜
18nはカラム選択信号/Yo〜/Ynを反転出力する
インバータ回路,VCCは電源電圧、1050(M5)
、105n(M5)は書き込み制御信号/WlがLo
tiの時、読み出し用トランスファーゲート1030
(M3)1040 (M4) − 103n
(M3)104n(M4)のゲート電圧をH ighレ
ベルヘ上げるプルアップMOS、1060 (M6)〜
106n (M6)は書き込み制御信号/WlがHig
hの時、カラム選択信号/Yo〜/Ynの信号を読み出
し用トランスファーゲート1030(M3) 、104
0 (M4) 〜103n (M3)、104n(M4
)へ伝えるトランスファーゲート、CD(R)、/CD
(R)は共通読み出し線対、CD(W)、/ C D
(W)は共通書き込み線対である。In the figure, A. is an X-system address signal, AY is a Y-system address signal, Dout is an output signal, Din is an input signal, /C
S is a chip select signal, /WE is a write enable signal, 101 is an X-system address buffer, 105 is a Y-system address buffer, 102 is an output buffer, 103 is an input buffer, 104 is a chip select signal /CS and a write enable signal. A control circuit that generates write control signals /Wl and /W2 from /WE, 106 a sense amplifier that amplifies the minute voltage read from the memory cell, 150 to 15m an X-system address buffer output 13
Decoder circuit for decoding 0, 160 to 16m are word line drivers, WLo to WLm are word lines, 115
is an inverter circuit that inverts the input buffer output, 116
, 117 is the input buffer output and write control signal /W2
118 and 119 are write drivers 170, 17n is a decoder circuit that decodes the Y-system address buffer output 131, 1 is a data line load circuit, DO, /Do=Dn, /Dn is a data line versus, 2
are memory cells, 1010 (Ml), 1020 (M2
) ~101n (Ml), 102n (M2) are write transfer gates, 1030 (M3)
, 1040 (M4)-103n (M3). 104n
(M4) is a readout transfer gate. 180~
18n is an inverter circuit that inverts and outputs the column selection signals /Yo to /Yn, VCC is the power supply voltage, 1050 (M5)
, 105n (M5) has a write control signal /Wl of Lo
When ti, read transfer gate 1030
(M3) 1040 (M4) - 103n
(M3) Pull-up MOS that raises the gate voltage of 104n (M4) to high level, 1060 (M6) ~
106n (M6) has write control signal /Wl High
h, transfer gates 1030 (M3), 104 for reading column selection signals /Yo to /Yn
0 (M4) ~103n (M3), 104n (M4
) transfer gate, CD(R), /CD
(R) is a common readout line pair, CD (W), / CD
(W) is a common write line pair.
以下、半導体メモリの動作を、半導体メモリの入出力信
号および内部信号の遷移を示した第4図を参照しながら
説明する。The operation of the semiconductor memory will be described below with reference to FIG. 4, which shows transitions of input/output signals and internal signals of the semiconductor memory.
/CS信号がLote、/WE信号がLOυの書き込み
サイクルに於いて、書き込み制御信号/Wl、/W2は
共にLowとなる。入カバッファ103より入力された
データは、116および、117の2人力NOR回路を
経て書き込みドライバ118および、119により,共
通書き込み線対CD(W)、/ C D (W)へ書き
込まれる。In a write cycle in which the /CS signal is LOTE and the /WE signal is LOυ, both write control signals /Wl and /W2 are LOW. Data input from the input buffer 103 is written to the common write line pair CD(W), /CD(W) by write drivers 118 and 119 via two-man NOR circuits 116 and 117.
共通書き込み線対C D (W)、/ C D (W)
へ書き込まれたデータは、ワード線WLo〜WLnおよ
び、カラム選択信号/Yo〜/Ynにより選ばれた1つ
のメモリセルへ、書き込み用トランスファーゲート
1010 (Ml) . 1
020 (M2) −101n (Ml
) 、102n (M2)を介して書き込まれる。この
時、読み出し用トランスファーゲート1030 (M3
) 1040 (M4)〜103n (M3)+ 1
04n (M4)は、そのゲート電圧が書き込み制御信
号/Wlを受けたプルアップMOS 1050(M5
) 〜105n(M5)によりH ighレベルにプル
アップされているため、全てOFFとなり、共通読み出
し線対CD(R)、/CD(R)へはデータは書き込ま
れない。Common write line pair C D (W), / C D (W)
The data written to is transferred to one memory cell selected by word lines WLo to WLn and column selection signals /Yo to /Yn through a write transfer gate.
1010 (Ml). 1
020 (M2) -101n (Ml
), 102n (M2). At this time, the read transfer gate 1030 (M3
) 1040 (M4) ~ 103n (M3) + 1
04n (M4) is a pull-up MOS 1050 (M5) whose gate voltage receives the write control signal /Wl.
) to 105n (M5), all of them are turned off, and no data is written to the common read line pair CD(R), /CD(R).
一方、/CS信号がLow、/WE信号がH ighの
読み出しサイクルに於いては、書き込み制御信号/Wl
./W2は共にH ighとなる。On the other hand, in a read cycle when the /CS signal is Low and the /WE signal is High, the write control signal /Wl
.. /W2 both become High.
すなわち、カラム選択信号/Yo〜/Ynはトランスフ
ァーゲート1060 (M6) 〜106n(M6)を
介して読み出し用トランスファーゲートのゲートへ伝搬
され、共通書き込み線対CD(W)、/ C D (W
)は強制的にHighレベルとなる。That is, the column selection signals /Yo to /Yn are propagated to the gates of the read transfer gates via transfer gates 1060 (M6) to 106n (M6), and the common write line pairs CD (W) and /C D (W
) is forcibly set to High level.
したがって、ワード線W L o = W L raお
よび、カラム選択信号/Yo〜/Ynにより選択された
1つのメモリセルのデータは、読み呂し用トランスファ
ーゲート1030 (M3).1040 (M4)−1
03n (M3).104n (M4)を介して共通読
み出し線CD(R)、/ C D (R)へ読み出され
,センスアンプ106により増幅され出力される。Therefore, the data of one memory cell selected by the word line W L o = W L ra and the column selection signals /Yo to /Yn is transferred to the read transfer gate 1030 (M3). 1040 (M4)-1
03n (M3). 104n (M4) to the common read lines CD(R), /CD(R), and is amplified by the sense amplifier 106 and output.
この場合、書き込み用トランスファーゲート1010
(Ml).1020 (M2) 〜101n(Ml).
l02n (M2)は、ゲート、ソース間にNMOSを
ONさせるだけのバイアス電圧がかからないため全てO
FFとなる。In this case, write transfer gate 1010
(Ml). 1020 (M2) ~101n (Ml).
l02n (M2) is completely O because there is no bias voltage between the gate and source to turn on the NMOS.
Becomes FF.
次に,第5図に前記データ線負荷回路1の構成例を示す
。Next, an example of the configuration of the data line load circuit 1 is shown in FIG.
図中、vCCは電源電圧、GNDは接地電位、501−
504はPMOSFET.W3は書き込み制御信号、D
、/Dはデータ線対である。In the figure, vCC is the power supply voltage, GND is the ground potential, and 501-
504 is PMOSFET. W3 is a write control signal, D
, /D are data line pairs.
データ線負荷回路において、読み出しサイクルに於いて
は,書き込み制御信号W3はLO−レベルとなり、PM
OSFET 501,502および、503、504
は全てONLデータ線対D、/Dは強力にプルアップさ
れる。In the data line load circuit, in the read cycle, the write control signal W3 becomes LO- level, and the PM
OSFETs 501, 502 and 503, 504
All ONL data line pairs D and /D are strongly pulled up.
また、書き込みサイクルに於いては、書き込み制御信号
W3はH ighレベルとなりPMOSFET 50
3、504はOFFする。In addition, in the write cycle, the write control signal W3 becomes High level and the PMOSFET 50
3, 504 is turned off.
したがって,データ線対D、/Dは常時ONL,ている
PMOSFET 501、502により弱くプルアッ
プされる。Therefore, the data line pair D and /D are weakly pulled up by the PMOSFETs 501 and 502 which are always ONL.
次に、第6図にメモリセル2の構成例を示す。Next, an example of the configuration of the memory cell 2 is shown in FIG.
図中に於いて、WLはワー口LD、/Dはデータ線対.
VCCは電源電圧、GNDは接地電位、R1、R2は高
抵抗,601〜604はNMOSFETである。In the figure, WL is a warhead LD, /D is a data line pair.
VCC is a power supply voltage, GND is a ground potential, R1 and R2 are high resistances, and 601 to 604 are NMOSFETs.
このメモリセルからのデータの読み出しおよび、メモリ
セルへのデータの書き込みは、ワード線WLがHigh
レベルになり、NMOSFET601および、602が
ONして行なわれる。Reading data from this memory cell and writing data to the memory cell are performed when the word line WL is high.
level, and the NMOSFETs 601 and 602 are turned on.
以上、本実施例に係る半導体メモリにおいて、データ線
を介してメモリセルへ書き込まれたデー夕は、負荷容量
の重い共通読み出し線へは伝搬されない。すなわち共通
読み出し線の電位はデータ書き込みによって変化するこ
とがないので、書き込み時に於いては、充放電する負荷
の総容量が減り書き込み時間が高速化でき、また,デー
タ線等を書き込み直後の電位から読み出し可能な電位ま
で復帰させるリカバリ時においては、共通読み出し線の
電位はデータ読み出し時の電位から変化していないため
、リカバリするのはデータ線だけで良く、結果的にリカ
バリ時間が高速化できることを示した。As described above, in the semiconductor memory according to this embodiment, the data written to the memory cell via the data line is not propagated to the common read line, which has a heavy load capacity. In other words, since the potential of the common read line does not change due to data writing, the total capacitance of the load to be charged and discharged during writing is reduced, making it possible to speed up the writing time. During recovery to return to a readable potential, the potential of the common read line has not changed from the potential at the time of data read, so only the data line needs to be recovered, resulting in faster recovery time. Indicated.
[発明の効果]
以上、本発明によれば、メモリセルへのデータの書き込
み時間を高速化できる半導体メモリを提供でき、また、
データ線リカバリ時間を高速化できる半導体メモリを提
供することができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor memory that can speed up the writing time of data to a memory cell, and also,
A semiconductor memory that can speed up data line recovery time can be provided.
第1図は本発明の第1実施例に係る半導体メモリの読み
出し回路およびデータの書き込み回路の構成を示す回路
図、第2図は第2の実施例に係る半導体メモリの読み出
し回路およびデータの書き込み回路の構成を示す回路回
、第3図は本実施例に係る半導体メモリの全体構成を示
す回路図、第4図は半導体メモリの動作を示すためのタ
イミングチャート、第5図はデータ線負荷回路の構成を
示す回路図、第6図はメモリセルの構成を示す回路図、
第7図は従来技術に係る半導体メモリの読み出し回路お
よびデータの書き込み回路の構成を示す回路図である。
1・・データ線負荷回路、2・・・メモリセル、101
,102・・・書き込み用トランスファーゲート、10
3、104、107.108・・・読み出し用トランス
ファーゲート、10・・・共通読み出し線,11・・・
共通書き込み線。FIG. 1 is a circuit diagram showing the configuration of a semiconductor memory read circuit and data write circuit according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a semiconductor memory read circuit and data write circuit according to a second embodiment. 3 is a circuit diagram showing the overall structure of the semiconductor memory according to this embodiment, FIG. 4 is a timing chart showing the operation of the semiconductor memory, and FIG. 5 is a data line load circuit. 6 is a circuit diagram showing the configuration of a memory cell,
FIG. 7 is a circuit diagram showing the configuration of a read circuit and a data write circuit of a semiconductor memory according to the prior art. 1...Data line load circuit, 2...Memory cell, 101
, 102... write transfer gate, 10
3, 104, 107.108...Readout transfer gate, 10...Common readout line, 11...
Common writing line.
Claims (1)
書き込み線と、メモリセルのデータを読み出す為の読み
出し線と、メモリセルに接続し、かつ、メモリセルより
のデータ読み出し時に接続しメモリセルへのデータ書き
込み時に遮断する第1の電子スイッチを介して読み出し
線に接続され、かつ、メモリセルへのデータ書き込み時
に第2の電子スイッチを介して前記書き込み線に接続さ
れるデータ線と、データ書き込み時にデータ線と読み出
し線を接続する前記第1の電子スイッチを遮断する手段
と、を有することを特徴とする半導体メモリ。 2、メモリセルと、メモリセルにデータを書き込む為の
書き込み線と、メモリセルのデータを読み出す為の読み
出し線と、メモリセルに接続し、かつ、メモリセルより
のデータ読み出し時およびメモリセルへのデータ書き込
み時に接続する第1の電子スイッチとメモリセルへのデ
ータ書き込み時に遮断する第2の電子スイッチとを介し
て読み出し線に接続され、かつ、メモリセルへのデータ
書き込み時に接続する第3の電子スイッチを介して前記
書き込み線に接続されるデータ線と、有することを特徴
とする半導体メモリ。 3、マトリクス状に配列したメモリセルよりなるメモリ
セルアレイと、メモリセルを選択するアドレスデコーダ
と、各メモリセルにデータを書き込む為の共通書き込み
線と、各メモリセルのデータを読み出す為の共通読み出
し線と、メモリセルよりのデータ読み出し時に選択され
たメモリセルのデータ線を前記共通読み出し線に接続し
、メモリセルへのデータ書き込み時に選択されたメモリ
セルのデータ線と前記共通読み出し線とを遮断する手段
と、メモリセルへのデータ書き込み時に選択されたメモ
リセルのデータ線を前記共通書き込み線に接続する手段
と、を有することを特徴とする半導体メモリ。 4、請求項1、2または3記載の半導体メモリを有する
ことを特徴とする半導体集積回路。[Claims] 1. A memory cell, a write line for writing data to the memory cell, a read line for reading data from the memory cell, and a wire connected to the memory cell and for reading data from the memory cell. connected to the read line through a first electronic switch that is connected when writing data to the memory cell and shut off when writing data to the memory cell; and connected to the write line through a second electronic switch when writing data to the memory cell. A semiconductor memory comprising: a data line; and means for cutting off the first electronic switch connecting the data line and the read line when writing data. 2. A memory cell, a write line for writing data to the memory cell, a read line for reading data from the memory cell, and a line connected to the memory cell, and when reading data from the memory cell and when reading data from the memory cell. A third electronic switch is connected to the read line through a first electronic switch that is connected when writing data and a second electronic switch that is cut off when writing data to the memory cell, and is connected when writing data to the memory cell. A semiconductor memory comprising: a data line connected to the write line via a switch. 3. A memory cell array consisting of memory cells arranged in a matrix, an address decoder for selecting memory cells, a common write line for writing data into each memory cell, and a common read line for reading data from each memory cell. and connecting the data line of the selected memory cell to the common read line when reading data from the memory cell, and cutting off the data line of the selected memory cell and the common read line when writing data to the memory cell. and means for connecting a data line of a memory cell selected at the time of writing data to a memory cell to the common write line. 4. A semiconductor integrated circuit comprising the semiconductor memory according to claim 1, 2 or 3.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010946A JPH03216892A (en) | 1990-01-20 | 1990-01-20 | Semiconductor memory and semiconductor integrated circuits |
| US07/643,372 US5387827A (en) | 1990-01-20 | 1991-01-22 | Semiconductor integrated circuit having logic gates |
| US08/383,866 US5544125A (en) | 1990-01-20 | 1995-02-06 | Semiconductor integrated circuit having logic gates |
| US08/608,605 US5675548A (en) | 1990-01-20 | 1996-02-29 | Semiconductor integrated circuit having logi gates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010946A JPH03216892A (en) | 1990-01-20 | 1990-01-20 | Semiconductor memory and semiconductor integrated circuits |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03216892A true JPH03216892A (en) | 1991-09-24 |
Family
ID=11764371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010946A Pending JPH03216892A (en) | 1990-01-20 | 1990-01-20 | Semiconductor memory and semiconductor integrated circuits |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03216892A (en) |
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