JPH03217987A - 描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、描画座標値に基づいて生成された描画パタ
ーンを画像メモリに書き込むことによりグラフィック情
報を描画する描画装置に関するものである。

〔従来の技術１ 第５図は従来の描画装置の構成を説明するブロック図で
あり、１が描画装置で、ホストプロセッサ２より与えら
れる描画命令等に基づいて描画情報を生成し、画像メモ
リ３に描画情報を書き込んで行《。

描画装置１は描画座標発生器４，ホストプロセッサイン
タフェース５，画像メモリ制御器６，パターンレジスタ
７等から構成されている。

次に動作について説明する。

描画装置１はホストプロセッサ２の描画命令を受けて画
像メモリ３に点，線等を描画する。画像メモリ３はその
内容が、第６図に示すようにＸ座標，Ｙ座標からなる二
次元平面に対応しており、描画は描画しようとする点の
Ｘ座標，Ｙ座標に相当するアドレスの内容を書き換える
ことによって行われる。

次に、描画装置１内部の動作について説明する。

ホストプロセッサインタフェース５は、ホストプロセッ
サ２から描画命令を受け取り、描画座標，描画図形等描
画に必要な情報を描画座標発生器４，画像メモリ制御器
６に与える。描画座標発生器４は受け取った描画情報に
応じて逐次その図形の座標を発生する。例えば第６図の
場合には、図中の黒丸「●」のＸ座標，Ｙ座標を順に発
生するわけである。描画メモリ制御器６は発生したＸ座
標，Ｙ座標を受け取り、それらに対応する画像メモリ３
のアドレスを計算し、その内容を書き換える。この結果
、第６図のような図形〔例えば線）が描画されることに
なる。

更に、第５図に示した描画装置１は、第６図のように太
さがｒｌＪＯ線だけではなく、第７図（ａ）に示すよう
に一定の太さを持つ線を描画することもできる。これは
、あらかじめホストプロセッサ２によってホストプロセ
ッサインタフェース５を介してパターンレジスタ７に第
７図（ｂ）に示すようにペンパターンＰＰを記憶してお
く。

そして、画像メモリ制御器６が画像メモリ３を書き換え
る時、黒丸のアドレスの内容だけでなく黒丸を中心にペ
ンパターンＰＰで示される周囲の４点に対応するアドレ
スの内容も書き換えることによって行われる。つまり、
第７図（ａ）は黒丸を中心にしてペンパターンＰＰを順
次（例えば計１２回）描画することによって得られる図
形である。なお、このような機能をもつ描画装置として
は、日経データプロマイクロブロセサ１９８９年８月版
、ＭＣ５−３１４−３２８，ＭＣ５−３１４−３２９ペ
ージに記載されている日本電気社製μＰＤ７２１２３が
ある。

〔発明が解決しようとする課題］ 従来の描画装置は以上のように構成されており、ペンパ
ターンＰＰとして１種類しか指定できないので、一定の
太さの線を連続的に描くことはできても、第８図に示す
ように連続的に太さが変化するような線を描くことがで
きず、描画表現能力が低く変化に富んだデザイン性の高
い線を描けない等の問題点等があった。

この発明は、上記の問題点を解決するためになされたも
ので，与えられる描画座標に応じて描画する線の太さが
変化する線を発生させることより、太さに応じたペンパ
ターンでグラッフィク情報を描画できる描画装置を得る
ことを目的とする。

［課題を解決するための手段］ この発明に係る描画装置は、描画すべき点の描画座標値
を発生する描画座標発生手段と、この描画座標発生手段
により発生される描画座標値に基づいて変化するパター
ンを自動発生する描画パターン発生手段と、この描画パ
ターン発生手段が発生したパターンを画像メモリに展開
制御する制御手段とを設けたものである。

〔作用〕

この発明においては、描画座標発生手段により描画すべ
き点の描画座標値が発生されると、描画パターン発生手
段が描画座標値に基づいて変化するパターンを自動発生
し、制御手段が生成されたパターンを画像メモリに展開
制御し、パターンが描画座標値に応じて変化させる。

［実施例］ 第１図はこの発明の一実施例を示す描画装置の構成を説
明するブロック図であり、第５図と同一のものには同じ
符号を付してある。

図において、７ａはｎ個のパターンレジスタで構成され
るパターンレジスタ群、８はパターン指定器で、その座
標の線の太さを計算し、その太さに対応するペンパター
ンが記憶されているパターンレジスタを選択する信号を
発生する。なお、パターンレジスタ群７ａには第２図（
ａ）〜（Ｃ）に示す、例えばパターン１〜３のように線
の太さに応じたペンパターンがあらかじめ書き換え可能
に記憶されている。

このように構成された描画装置１において、描画座標発
生手段（この実施例では描画座標発生器４により構成さ
れる）により描画すべき点の描画座標値が発生されると
、描画パターン発生手段（この実施例ではパターンレジ
スタ群７ａ，パターン指定器８）が描画座標値に基づい
て変化するパターンを自動発生し、制御手段（この実施
例では画像メモリ制御器６により構成される）が生成さ
れたパターンを画像メモリ３に展開制御し、パターンを
描画座標値に応じて変化させる。

具体的には、描画装置１がホストプロセッサ２の描画命
令を受けて画像メモリ３に点，線等を描画することは従
来の描画装置と同様である。

描画命令が発生されると、ホストプロセッサインタフェ
ース５はホストプロセッサ２から描画命令を受け取り、
描画座標，描画図形，線の太さ等描画に必要な情報を描
画座標発生器４，画像メモリ制御器６，パターン指定器
８に与える。描画座標発生器４は受け取った描画情報に
応じて逐次その図形の座標を発生する。同時にパターン
指定器８で指定されたパターンレジスタ１〜ｎに記憶さ
れている何れかのパターンを選択して描画メモリ制御器
６に出力する。

描画メモリ制御器６は描画座標発生器４で発生した描画
座標を中心にパターンレジスタ群７ａの出力するパター
ンを画像メモリ３にライトする。

これを繰り返すことにより、第２図（ｄ）に示すように
座標によって太さの変化する、例えば線画を描くことが
できる。なお、第２図（ｄ）中の黒丸のうち、０〜２は
パターン１を、３〜６はパターン２を、７〜１ｏはパタ
ーン３を描画して状態に対応する。

以下、第３図を参照しながらこの発明に係る描画装置に
おける描画処理について説明する。

第３図はこの発明に係る描画装置における描画処理手順
の一例を説明するフローチャートである。なお、（１）
〜（７）は各ステップを示す。

先ず、描画情報が入力されるのを待機し｛１）、ホスト
プロセッサインタフェース５が受信した描画情報に応じ
て描画座標発生器４により図形座標が発生されるのを待
機し（２）、発生したら、座標情報を解析して（３）、
その座標の線の太さを計算して対応するペンパターンが
記憶されているパターンレジスタをパターン指定器８が
選択する（４）． 次いで、発生パターンを選択し（４）、画像メモリ制御
器６に発生パターンを出力する。これに応じて画像メモ
リ制御器６は座標とパターンが確定されたら（５）、描
画座標を中心としてパターンレジスタ群７ａの出力する
パターンを画像メモリ３に書き込む（６）。次いで、図
形座標データ終了を判定し（７１　　Ｎｏならばステッ
プ（３）に戻り、ＹＥＳならば処理を終了する。

なお、上記実施例では描画パターン発生手段がペンパタ
ーンをあらかじめパターンレジスタに記憶して発生座標
に応じて変化するパターンを発生させる場合について説
明したが、第４図に示すように第１描画座標発生器４ａ
，第２描画座標発生器９，太さ発生器１０を設けて上記
同様のパター発生処理を以下に述べるように実行する構
成であっても良い。これにより、第８図に示すように線
の太さが変化する線等をデザイン性高く描画することが
可能となった。

第４図はこの発明の他の実施例を示す描画装置の構成を
説明するブロック図であり、第１図と同一のものには同
じ符号を付してある。

第１描画座標発生器４ａで第１図に示した描画座標発生
器４ａと同等の機能処理を実行する。第２描画座標発生
器９は円，楕円，四辺形等の描画アドレスを発生する。

先ず、第１描画座標発生器４で黒丸の座標を発生する。

同時に太さ発生器１０はそのときの線の太さを発生する
。次に、第２描画座標発生器９は黒丸の座標を中心とし
て太さに応じた大きさの円，楕円，四辺形の描画座標を
発生する。描画メモリ制御器６は第２描画座標発生器９
によって発生した座標のアドレスの描画メモリの内容を
書き換える。なお、この時、最後の黒丸以外の点に対応
する円，楕円，四辺形は輪郭のみを描画し、最後の黒丸
についてのみ内部を塗り潰す。

〔発明の効果Ｊ 以上説明したように、この発明は描画すべき点の描画座
標値を発生する描画座標発生手段と、この描画座標発生
手段により発生される描画座標値に基づいて変化するパ
ターンを自動発生する描画パターン発生手段と、この描
画パターン発生手段が発生したパターンを画像メモリに
展開制御する制御手段とを設けたもので、座標によって
太さの変化する線を容易に描画できる。

従って、太さに応じたペンパターンでグラッフィク情報
をデザイン性高く描画できる等の効果な奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示す描画装置の構成を説
明するブロック図、第２図は、第１図に示したパターン
レジスタ群３に記憶されるパターン種を説明する模式図
、第３図はこの発明に係る描画装置における描画処理手
順の一例を説明するフローチャート、第４図はこの発明
の他の実施例を示す描画装置の構成を説明するブロック
図、第５図は従来の描画装置に構成を説明するブロック
図、第６図，第７図は従来の描画装置における線描画状
態を説明する模式図、第８図は太さが変化する線の描画
処理を説明する・模式図である。 図中、１は描画装置、２はホストプロセッサ、３は画像
メモリ、４は描画座標発生器、５はホストプロセッサ、
６は画像メモリ制御器、７ａはパターンレジスタ群、８
はパターン指定器である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 描画すべき点の描画座標値を発生する描画座標発生手段
   と、この描画座標発生手段により発生される描画座標値
   に基づいて変化するパターンを自動発生する描画パター
   ン発生手段と、この描画パターン発生手段が発生したパ
   ターンを画像メモリに展開制御する制御手段とを備えて
   なることを特徴とする描画装置。