【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、半導体あるいはプリント基板製造用のマス
ク等の透明チャートを反射照明型のパターン検査装置を
用いて検査する方法に関するものである．
［従来の技術］
従来から、不透明なチャートであるプリント基板上の傷
の発見等の用途には、テーブル上に載置したプリント基
板を上方から照明し、プリント基板からの反射光を結像
レンズによりスクリーン上に結像させて検査する方法が
採用されている．また・ 半導体製造用、あるいはプリ
ント基板製造用の露光パターンが印刷されたマスク等の
透明チャートを検査する場合には、マスクの下方から照
明光を投影し、マスクを透過した光束を結像レンズによ
ってスクリーン上に結像させて検査する方法が採用され
ている．
［発明が解決しようとする課題コ
しかしながら、上述した従来の検査方法による場合には
、不透明なチャートを検査する場合と透明なチャートを
検査する場合とで異なる装置を用いるか、あるいは反射
照明式と透過照明式との双方の手段を有する装置を用い
なければならない．従って、スペース的あるいはコスト
的に不利であるという課題があった．
［発明の目的］
この発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、
反射照明型のパターン検査装置を利用して透明なチャー
トの検査を行うことができる方法の提供を目的とする．
［課題を解決するための手段コ
この発明は、上記目的を達成させるため、反射面上に載
置した透明チャートを該チャート側から照明すると共に
、チャートを透過して反射面により反射された光束を結
像レンズによりスクリーン上に結像させて検査すること
を特徴とする．［実施例］
以下、この発明を図面に基づいて説明する．第１図及び
第２図は、この発明の一実施例を示したものである．
まず、この方法に利用されるパターン検査装置の概略を
第２図に基づいて説明する．
このパターン検査装置は、上面にチャート載置用のテー
ブル１１を備えるベース部１０と、このペース部ｌＯに
対して図中左側の支柱ｌ２を介して支持される投影部２
０とを備えている．
投影部２０は、光学系を収納する箱体２１と、この箱体
２ｌの図中右側となる正面側に鉛直方向に設けられたス
クリーン３０と、照明されたチャートからの光束をスク
リーン３０に投影する投影レンズ４０と、投影レンズ４
０からスクリーン３０まで光束を導く投影系ミラーと、
垂直反射照明手段６０とを備えている．
ベース部１０に設けられたテーブルｌ１は、ベース部１
０に対して水平２方向にスライド自在に設けられている
．
投影系ミラーは、第１ミラー（イ）、第２ミラー５１．
第３ミラー５２の３枚のミラーから構成されている．第
１、第２ミラー５０．５１は平面ミラーであり、第３ミ
ラー５２は投影レンズ４０の光軸を境として垂直に交差
して貼合わされたダハミラーである．チャートからの反
射光束は、投影レンズ４０を透過した後、上下方向には
３回反射で正立となり、第３ミラー５２によって左右正
像となってスクリーン上には正立正像として投彰される
．
投影レンズ４０を介してテーブル１１に載置されたチャ
ートを照明する垂直反射照明手段６０は、光源としての
キセノンランブ６１と、このキセノンランブ６ｌからの
照明光をほぼ平行光束とする放物ミラー６２と、互いに
平行な状態で設けられて照明光を投影レンズ４０側へ導
く垂直反射照明系第１、第２ミラー６３．６４と、照明
光束の径を規制する照明系視野絞り６５と、キセノンラ
ンブ６１の発光光束中に含まれる赤外成分を吸収する熱
線吸収フィルター６６と、垂直反射照明の不使用時にキ
セノンランプ６１のＯＮ／ＯＦＦに拘らず照明光をＯＮ
／ＯＦＦさせるシャッター６７と、照明光を集光するフ
レネルレンズ６８と、キセノンランブ６１からの照明光
を投影レンズへ入射させる垂直反射照明系ハーフサイズ
ミラー５３とを有している．
ハーフサイズミラー５３は、投影レンズ４０の入射瞳と
なる位置に、投影レンズ４０の直径を境として光路の半
分を覆う状態で設けられている．これにより、光源から
の光束は全て投影レンズ４０に入射させることができる
．また、垂直反射照明系はチャート側にテレセントリッ
クな系となる．なお、この装置では、垂直反射照明系第
２ミラー６４からフレネルレンズ６８までの光学素子と
、ハーフサイズミラー５３及び投影レンズ４０をスライ
ドベース２４に取り付け、焦点調節時の投影レンズの移
動と一体に移動できるよう構成している．第１ミラー６
３と第２ミラー６４との間では、光束はほぼ平行となる
ため、スライドベース２４が移動した場合にも、垂直反
射照明系のテレセントリツク性を確保しつつ焦点調節を
行うことができる．
次に、上記の装置によりプリント基板露光用のマスク等
の透明チャートを検査する場合の作用を説明する．
透明チャートを観察する場合には、第２図に示したよう
に、テーブル１１上に投影レンズ４０の光軸Ａｘｌと垂
直な状態でミラーｌ３を配置し、このミラー１３上に透
明チャート１４を載置する．キセノンランブ６１から発
する発散光は放物ミラー６２によりほぼ平行光束とされ
、２枚のミラー６３，劇、絞り閏、フィルター閏、シャ
ッター６７を介してフレネルレンズ６８によりハーフサ
イズミラー５３上に集光される．フレネルレンズ６Ｂは
、ハーフサイズミラー５３上に２次光源像を形成する．
照明光束は、ハーフサイズミラー５３によってその全量
がチャートｌ４側へ反射され、透明チャートｌ４を透過
してミラー１３で反射される．そして、ミラー１３によ
る反射光は、再び透明チャート１４を透過して投影レン
ズ２１に入１・１する．ここで、ハーフサイズミラー５
３がテレセントリツクな投影レンズ４０の入射瞳となる
位置に設定されているため、照明光の正反射成分はハー
フサイズミラー５３が設けられていない側を透過して、
スクリーン３０上に高コントラストでチャートの像を形
戊する．
上記の横或によれば、反射照明型の検査装置を用いて透
明チャートの観察を行うことができ、また、チャートで
の光量損失は正反射成分についてはＯとなるため、光償
の有効利用を図ることができる．また、ある程度の反射
率の物体でも検査は可能である．
なお、この実施例においては、光量アップを目的として
ハーフサイズミラーを用いているが、光遺の損失を考え
なければ、ハーフサイズミラーに代えてハーフミラーを
用いることも可能である．［効果コ
以上説明したように、この発明によれ（ｆ反１寸照明型
の投影装置を用いてπ充用マスク等の透明チャートを検
査することができ、透明チャートを検査するために特別
な機ｔＩヒを持たせなくとも反射照明型のパターン検査
装置を流用することができる．従って、反射照明型、透
過照明聖の２つのＳ４置、あるいは２つの機能を有する
装置を備える必要がなく、スペース的にもコスト的にも
有利である。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for inspecting a transparent chart such as a mask for manufacturing semiconductors or printed circuit boards using a reflective illumination type pattern inspection device. [Prior art] Conventionally, in applications such as finding scratches on printed circuit boards that are opaque charts, the printed circuit board placed on a table is illuminated from above, and the light reflected from the printed circuit board is focused on an imaging lens. A method has been adopted in which inspection is performed by forming an image on a screen. In addition, when inspecting a transparent chart such as a mask printed with an exposure pattern for semiconductor manufacturing or printed circuit board manufacturing, illumination light is projected from below the mask, and the light beam that has passed through the mask is captured by an imaging lens. The method used is to form an image on a screen for inspection. [Problems to be Solved by the Invention] However, in the case of the above-mentioned conventional inspection method, different devices are used for inspecting opaque charts and transparent charts, or reflective illumination type and A device that has both a transillumination method and a transillumination method must be used. Therefore, there was a problem that it was disadvantageous in terms of space or cost. [Object of the invention] This invention was made in view of the above problems, and
The purpose of this paper is to provide a method for inspecting transparent charts using a reflective illumination pattern inspection device. [Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention illuminates a transparent chart placed on a reflective surface from the chart side, and also illuminates the transparent chart placed on a reflective surface by illuminating the light beam transmitted through the chart and reflected by the reflective surface. It is characterized by inspecting by forming an image on a screen using an imaging lens. [Example] This invention will be explained below based on the drawings. Figures 1 and 2 show an embodiment of this invention. First, the outline of the pattern inspection device used in this method will be explained based on Fig. 2. This pattern inspection apparatus includes a base part 10 having a table 11 for placing a chart on its upper surface, and a projection part 2 supported via a support l2 on the left side of the figure with respect to the pace part lO.
0. The projection unit 20 includes a box 21 that houses an optical system, a screen 30 vertically provided on the front side of the box 2l on the right side in the figure, and a screen 30 that projects the luminous flux from the illuminated chart onto the screen 30. The projection lens 40 and the projection lens 4
a projection system mirror that guides the light beam from zero to the screen 30;
The vertical reflection illumination means 60 is provided. The table l1 provided on the base part 10 is
It is provided so that it can slide freely in two directions horizontally with respect to 0. The projection system mirrors include a first mirror (a), a second mirror 51.
It is composed of three mirrors, a third mirror 52. The first and second mirrors 50 and 51 are plane mirrors, and the third mirror 52 is a roof mirror that is laminated to intersect perpendicularly with the optical axis of the projection lens 40 as a boundary. After the reflected light flux from the chart passes through the projection lens 40, it is reflected three times in the vertical direction and becomes erect, and is converted into left and right images by the third mirror 52 and projected onto the screen as an erect image. ．． The vertical reflection illumination means 60 that illuminates the chart placed on the table 11 through the projection lens 40 includes a xenon lamp 61 as a light source and a parabolic mirror 62 that converts the illumination light from the xenon lamp 6l into a substantially parallel beam. , vertical reflective illumination system first and second mirrors 63 and 64 that are arranged parallel to each other and guide the illumination light toward the projection lens 40 side, an illumination system field stop 65 that regulates the diameter of the illumination light beam, and a xenon lamp. A heat ray absorption filter 66 that absorbs infrared components contained in the luminous flux of 61 and a heat ray absorption filter 66 that turns on the illumination light regardless of whether the xenon lamp 61 is ON or OFF when vertical reflection illumination is not used.
/OFF, a Fresnel lens 68 that collects illumination light, and a vertical reflection illumination system half-size mirror 53 that allows illumination light from the xenon lamp 61 to enter the projection lens. The half-size mirror 53 is provided at the entrance pupil of the projection lens 40 so as to cover half of the optical path with the diameter of the projection lens 40 as the boundary. Thereby, all the light beams from the light source can be made to enter the projection lens 40. Also, the vertical reflection illumination system is telecentric to the chart side. In this device, the optical elements from the second mirror 64 of the vertical reflection illumination system to the Fresnel lens 68, the half-size mirror 53, and the projection lens 40 are attached to the slide base 24, and the movement of the projection lens during focus adjustment is integrated. It is configured so that it can be moved. 1st mirror 6
3 and the second mirror 64, the light beams are almost parallel, so even if the slide base 24 moves, the focus can be adjusted while ensuring the telecentricity of the vertical reflection illumination system. Next, the operation when inspecting a transparent chart such as a mask for exposure of a printed circuit board using the above-mentioned apparatus will be explained. When observing a transparent chart, as shown in FIG. Place. The diverging light emitted from the xenon lamp 61 is made into a nearly parallel beam by a parabolic mirror 62, and is condensed onto the half-size mirror 53 by a Fresnel lens 68 via two mirrors 63, an aperture lens, a filter lens, and a shutter 67. It will be done. The Fresnel lens 6B forms a secondary light source image on the half-size mirror 53.
The entire amount of the illumination light beam is reflected by the half-size mirror 53 toward the chart l4 side, transmitted through the transparent chart l4, and reflected by the mirror 13. Then, the light reflected by the mirror 13 passes through the transparent chart 14 again and enters the projection lens 21 1.1. Here, half size mirror 5
3 is set at the position that is the entrance pupil of the telecentric projection lens 40, the specularly reflected component of the illumination light passes through the side where the half-size mirror 53 is not provided.
A chart image is formed on the screen 30 with high contrast. According to the above, it is possible to observe a transparent chart using a reflective illumination type inspection device, and since the light loss on the chart is O for the regular reflection component, effective use of light compensation is possible. It is possible to aim for In addition, it is possible to inspect objects with a certain degree of reflectance. In this embodiment, a half-size mirror is used for the purpose of increasing the amount of light, but it is also possible to use a half-size mirror instead of the half-size mirror if loss of optical trace is not considered. [Effects] As explained above, according to the present invention, it is possible to inspect a transparent chart such as a π-filled mask using an f-1 inch illumination type projection device, and a special machine is required to inspect a transparent chart. It is possible to use a reflective illumination type pattern inspection device without having a tI beam.Therefore, there is no need to provide two S4 installations for reflective illumination type and transmitted illumination type, or a device with two functions, which saves space. It is advantageous both in terms of performance and cost.
【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]
第１図は、この発明に係る検査方法を説明するための第
２図の一部拡大図、第２図は反射照明型のパターン検査
装置の説明図である．
１ｌ・・・ステージ
１３・・・ミラー（反射面）
ｌ４・・・透明チャート
３０・・・スクリーン
４０・・・投影レンズFIG. 1 is a partially enlarged view of FIG. 2 for explaining the inspection method according to the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram of a reflective illumination type pattern inspection apparatus. 1l... Stage 13... Mirror (reflective surface) l4... Transparent chart 30... Screen 40... Projection lens