JPH0321809A - 反射照明による透明物検査方法 - Google Patents
反射照明による透明物検査方法Info
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- JPH0321809A JPH0321809A JP15757689A JP15757689A JPH0321809A JP H0321809 A JPH0321809 A JP H0321809A JP 15757689 A JP15757689 A JP 15757689A JP 15757689 A JP15757689 A JP 15757689A JP H0321809 A JPH0321809 A JP H0321809A
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- lens
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、半導体あるいはプリント基板製造用のマス
ク等の透明チャートを反射照明型のパターン検査装置を
用いて検査する方法に関するものである． ［従来の技術］ 従来から、不透明なチャートであるプリント基板上の傷
の発見等の用途には、テーブル上に載置したプリント基
板を上方から照明し、プリント基板からの反射光を結像
レンズによりスクリーン上に結像させて検査する方法が
採用されている．また・ 半導体製造用、あるいはプリ
ント基板製造用の露光パターンが印刷されたマスク等の
透明チャートを検査する場合には、マスクの下方から照
明光を投影し、マスクを透過した光束を結像レンズによ
ってスクリーン上に結像させて検査する方法が採用され
ている． ［発明が解決しようとする課題コ しかしながら、上述した従来の検査方法による場合には
、不透明なチャートを検査する場合と透明なチャートを
検査する場合とで異なる装置を用いるか、あるいは反射
照明式と透過照明式との双方の手段を有する装置を用い
なければならない．従って、スペース的あるいはコスト
的に不利であるという課題があった． ［発明の目的］ この発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、
反射照明型のパターン検査装置を利用して透明なチャー
トの検査を行うことができる方法の提供を目的とする． ［課題を解決するための手段コ この発明は、上記目的を達成させるため、反射面上に載
置した透明チャートを該チャート側から照明すると共に
、チャートを透過して反射面により反射された光束を結
像レンズによりスクリーン上に結像させて検査すること
を特徴とする．［実施例］ 以下、この発明を図面に基づいて説明する．第１図及び
第２図は、この発明の一実施例を示したものである． まず、この方法に利用されるパターン検査装置の概略を
第２図に基づいて説明する． このパターン検査装置は、上面にチャート載置用のテー
ブル１１を備えるベース部１０と、このペース部ｌＯに
対して図中左側の支柱ｌ２を介して支持される投影部２
０とを備えている． 投影部２０は、光学系を収納する箱体２１と、この箱体
２ｌの図中右側となる正面側に鉛直方向に設けられたス
クリーン３０と、照明されたチャートからの光束をスク
リーン３０に投影する投影レンズ４０と、投影レンズ４
０からスクリーン３０まで光束を導く投影系ミラーと、
垂直反射照明手段６０とを備えている． ベース部１０に設けられたテーブルｌ１は、ベース部１
０に対して水平２方向にスライド自在に設けられている
． 投影系ミラーは、第１ミラー（イ）、第２ミラー５１．
第３ミラー５２の３枚のミラーから構成されている．第
１、第２ミラー５０．５１は平面ミラーであり、第３ミ
ラー５２は投影レンズ４０の光軸を境として垂直に交差
して貼合わされたダハミラーである．チャートからの反
射光束は、投影レンズ４０を透過した後、上下方向には
３回反射で正立となり、第３ミラー５２によって左右正
像となってスクリーン上には正立正像として投彰される
． 投影レンズ４０を介してテーブル１１に載置されたチャ
ートを照明する垂直反射照明手段６０は、光源としての
キセノンランブ６１と、このキセノンランブ６ｌからの
照明光をほぼ平行光束とする放物ミラー６２と、互いに
平行な状態で設けられて照明光を投影レンズ４０側へ導
く垂直反射照明系第１、第２ミラー６３．６４と、照明
光束の径を規制する照明系視野絞り６５と、キセノンラ
ンブ６１の発光光束中に含まれる赤外成分を吸収する熱
線吸収フィルター６６と、垂直反射照明の不使用時にキ
セノンランプ６１のＯＮ／ＯＦＦに拘らず照明光をＯＮ
／ＯＦＦさせるシャッター６７と、照明光を集光するフ
レネルレンズ６８と、キセノンランブ６１からの照明光
を投影レンズへ入射させる垂直反射照明系ハーフサイズ
ミラー５３とを有している． ハーフサイズミラー５３は、投影レンズ４０の入射瞳と
なる位置に、投影レンズ４０の直径を境として光路の半
分を覆う状態で設けられている．これにより、光源から
の光束は全て投影レンズ４０に入射させることができる
．また、垂直反射照明系はチャート側にテレセントリッ
クな系となる．なお、この装置では、垂直反射照明系第
２ミラー６４からフレネルレンズ６８までの光学素子と
、ハーフサイズミラー５３及び投影レンズ４０をスライ
ドベース２４に取り付け、焦点調節時の投影レンズの移
動と一体に移動できるよう構成している．第１ミラー６
３と第２ミラー６４との間では、光束はほぼ平行となる
ため、スライドベース２４が移動した場合にも、垂直反
射照明系のテレセントリツク性を確保しつつ焦点調節を
行うことができる． 次に、上記の装置によりプリント基板露光用のマスク等
の透明チャートを検査する場合の作用を説明する． 透明チャートを観察する場合には、第２図に示したよう
に、テーブル１１上に投影レンズ４０の光軸Ａｘｌと垂
直な状態でミラーｌ３を配置し、このミラー１３上に透
明チャート１４を載置する．キセノンランブ６１から発
する発散光は放物ミラー６２によりほぼ平行光束とされ
、２枚のミラー６３，劇、絞り閏、フィルター閏、シャ
ッター６７を介してフレネルレンズ６８によりハーフサ
イズミラー５３上に集光される．フレネルレンズ６Ｂは
、ハーフサイズミラー５３上に２次光源像を形成する．
照明光束は、ハーフサイズミラー５３によってその全量
がチャートｌ４側へ反射され、透明チャートｌ４を透過
してミラー１３で反射される．そして、ミラー１３によ
る反射光は、再び透明チャート１４を透過して投影レン
ズ２１に入１・１する．ここで、ハーフサイズミラー５
３がテレセントリツクな投影レンズ４０の入射瞳となる
位置に設定されているため、照明光の正反射成分はハー
フサイズミラー５３が設けられていない側を透過して、
スクリーン３０上に高コントラストでチャートの像を形
戊する． 上記の横或によれば、反射照明型の検査装置を用いて透
明チャートの観察を行うことができ、また、チャートで
の光量損失は正反射成分についてはＯとなるため、光償
の有効利用を図ることができる．また、ある程度の反射
率の物体でも検査は可能である． なお、この実施例においては、光量アップを目的として
ハーフサイズミラーを用いているが、光遺の損失を考え
なければ、ハーフサイズミラーに代えてハーフミラーを
用いることも可能である．［効果コ 以上説明したように、この発明によれ（ｆ反１寸照明型
の投影装置を用いてπ充用マスク等の透明チャートを検
査することができ、透明チャートを検査するために特別
な機ｔＩヒを持たせなくとも反射照明型のパターン検査
装置を流用することができる．従って、反射照明型、透
過照明聖の２つのＳ４置、あるいは２つの機能を有する
装置を備える必要がなく、スペース的にもコスト的にも
有利である。
ク等の透明チャートを反射照明型のパターン検査装置を
用いて検査する方法に関するものである． ［従来の技術］ 従来から、不透明なチャートであるプリント基板上の傷
の発見等の用途には、テーブル上に載置したプリント基
板を上方から照明し、プリント基板からの反射光を結像
レンズによりスクリーン上に結像させて検査する方法が
採用されている．また・ 半導体製造用、あるいはプリ
ント基板製造用の露光パターンが印刷されたマスク等の
透明チャートを検査する場合には、マスクの下方から照
明光を投影し、マスクを透過した光束を結像レンズによ
ってスクリーン上に結像させて検査する方法が採用され
ている． ［発明が解決しようとする課題コ しかしながら、上述した従来の検査方法による場合には
、不透明なチャートを検査する場合と透明なチャートを
検査する場合とで異なる装置を用いるか、あるいは反射
照明式と透過照明式との双方の手段を有する装置を用い
なければならない．従って、スペース的あるいはコスト
的に不利であるという課題があった． ［発明の目的］ この発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、
反射照明型のパターン検査装置を利用して透明なチャー
トの検査を行うことができる方法の提供を目的とする． ［課題を解決するための手段コ この発明は、上記目的を達成させるため、反射面上に載
置した透明チャートを該チャート側から照明すると共に
、チャートを透過して反射面により反射された光束を結
像レンズによりスクリーン上に結像させて検査すること
を特徴とする．［実施例］ 以下、この発明を図面に基づいて説明する．第１図及び
第２図は、この発明の一実施例を示したものである． まず、この方法に利用されるパターン検査装置の概略を
第２図に基づいて説明する． このパターン検査装置は、上面にチャート載置用のテー
ブル１１を備えるベース部１０と、このペース部ｌＯに
対して図中左側の支柱ｌ２を介して支持される投影部２
０とを備えている． 投影部２０は、光学系を収納する箱体２１と、この箱体
２ｌの図中右側となる正面側に鉛直方向に設けられたス
クリーン３０と、照明されたチャートからの光束をスク
リーン３０に投影する投影レンズ４０と、投影レンズ４
０からスクリーン３０まで光束を導く投影系ミラーと、
垂直反射照明手段６０とを備えている． ベース部１０に設けられたテーブルｌ１は、ベース部１
０に対して水平２方向にスライド自在に設けられている
． 投影系ミラーは、第１ミラー（イ）、第２ミラー５１．
第３ミラー５２の３枚のミラーから構成されている．第
１、第２ミラー５０．５１は平面ミラーであり、第３ミ
ラー５２は投影レンズ４０の光軸を境として垂直に交差
して貼合わされたダハミラーである．チャートからの反
射光束は、投影レンズ４０を透過した後、上下方向には
３回反射で正立となり、第３ミラー５２によって左右正
像となってスクリーン上には正立正像として投彰される
． 投影レンズ４０を介してテーブル１１に載置されたチャ
ートを照明する垂直反射照明手段６０は、光源としての
キセノンランブ６１と、このキセノンランブ６ｌからの
照明光をほぼ平行光束とする放物ミラー６２と、互いに
平行な状態で設けられて照明光を投影レンズ４０側へ導
く垂直反射照明系第１、第２ミラー６３．６４と、照明
光束の径を規制する照明系視野絞り６５と、キセノンラ
ンブ６１の発光光束中に含まれる赤外成分を吸収する熱
線吸収フィルター６６と、垂直反射照明の不使用時にキ
セノンランプ６１のＯＮ／ＯＦＦに拘らず照明光をＯＮ
／ＯＦＦさせるシャッター６７と、照明光を集光するフ
レネルレンズ６８と、キセノンランブ６１からの照明光
を投影レンズへ入射させる垂直反射照明系ハーフサイズ
ミラー５３とを有している． ハーフサイズミラー５３は、投影レンズ４０の入射瞳と
なる位置に、投影レンズ４０の直径を境として光路の半
分を覆う状態で設けられている．これにより、光源から
の光束は全て投影レンズ４０に入射させることができる
．また、垂直反射照明系はチャート側にテレセントリッ
クな系となる．なお、この装置では、垂直反射照明系第
２ミラー６４からフレネルレンズ６８までの光学素子と
、ハーフサイズミラー５３及び投影レンズ４０をスライ
ドベース２４に取り付け、焦点調節時の投影レンズの移
動と一体に移動できるよう構成している．第１ミラー６
３と第２ミラー６４との間では、光束はほぼ平行となる
ため、スライドベース２４が移動した場合にも、垂直反
射照明系のテレセントリツク性を確保しつつ焦点調節を
行うことができる． 次に、上記の装置によりプリント基板露光用のマスク等
の透明チャートを検査する場合の作用を説明する． 透明チャートを観察する場合には、第２図に示したよう
に、テーブル１１上に投影レンズ４０の光軸Ａｘｌと垂
直な状態でミラーｌ３を配置し、このミラー１３上に透
明チャート１４を載置する．キセノンランブ６１から発
する発散光は放物ミラー６２によりほぼ平行光束とされ
、２枚のミラー６３，劇、絞り閏、フィルター閏、シャ
ッター６７を介してフレネルレンズ６８によりハーフサ
イズミラー５３上に集光される．フレネルレンズ６Ｂは
、ハーフサイズミラー５３上に２次光源像を形成する．
照明光束は、ハーフサイズミラー５３によってその全量
がチャートｌ４側へ反射され、透明チャートｌ４を透過
してミラー１３で反射される．そして、ミラー１３によ
る反射光は、再び透明チャート１４を透過して投影レン
ズ２１に入１・１する．ここで、ハーフサイズミラー５
３がテレセントリツクな投影レンズ４０の入射瞳となる
位置に設定されているため、照明光の正反射成分はハー
フサイズミラー５３が設けられていない側を透過して、
スクリーン３０上に高コントラストでチャートの像を形
戊する． 上記の横或によれば、反射照明型の検査装置を用いて透
明チャートの観察を行うことができ、また、チャートで
の光量損失は正反射成分についてはＯとなるため、光償
の有効利用を図ることができる．また、ある程度の反射
率の物体でも検査は可能である． なお、この実施例においては、光量アップを目的として
ハーフサイズミラーを用いているが、光遺の損失を考え
なければ、ハーフサイズミラーに代えてハーフミラーを
用いることも可能である．［効果コ 以上説明したように、この発明によれ（ｆ反１寸照明型
の投影装置を用いてπ充用マスク等の透明チャートを検
査することができ、透明チャートを検査するために特別
な機ｔＩヒを持たせなくとも反射照明型のパターン検査
装置を流用することができる．従って、反射照明型、透
過照明聖の２つのＳ４置、あるいは２つの機能を有する
装置を備える必要がなく、スペース的にもコスト的にも
有利である。
第１図は、この発明に係る検査方法を説明するための第
２図の一部拡大図、第２図は反射照明型のパターン検査
装置の説明図である． １ｌ・・・ステージ １３・・・ミラー（反射面） ｌ４・・・透明チャート ３０・・・スクリーン ４０・・・投影レンズ
２図の一部拡大図、第２図は反射照明型のパターン検査
装置の説明図である． １ｌ・・・ステージ １３・・・ミラー（反射面） ｌ４・・・透明チャート ３０・・・スクリーン ４０・・・投影レンズ
Claims (1)
- 反射面上に載置した透明チャートを該チャート側から照
明すると共に、チャートを透過して反射面により反射さ
れた光束を投影レンズによりスクリーン上に投影して検
査することを特徴とする反射照明による透明物検査方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15757689A JPH0321809A (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | 反射照明による透明物検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15757689A JPH0321809A (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | 反射照明による透明物検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0321809A true JPH0321809A (ja) | 1991-01-30 |
Family
ID=15652713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15757689A Pending JPH0321809A (ja) | 1989-06-19 | 1989-06-19 | 反射照明による透明物検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0321809A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017146218A (ja) * | 2016-02-18 | 2017-08-24 | 富士フイルム株式会社 | 撮像装置および方法 |
-
1989
- 1989-06-19 JP JP15757689A patent/JPH0321809A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017146218A (ja) * | 2016-02-18 | 2017-08-24 | 富士フイルム株式会社 | 撮像装置および方法 |
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