JPH03218943A - 封着ガラス - Google Patents
封着ガラスInfo
- Publication number
- JPH03218943A JPH03218943A JP2157966A JP15796690A JPH03218943A JP H03218943 A JPH03218943 A JP H03218943A JP 2157966 A JP2157966 A JP 2157966A JP 15796690 A JP15796690 A JP 15796690A JP H03218943 A JPH03218943 A JP H03218943A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- sealing glass
- pbo
- water resistance
- cdo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
- C03C8/245—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders containing more than 50% lead oxide, by weight
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/14—Silica-free oxide glass compositions containing boron
- C03C3/142—Silica-free oxide glass compositions containing boron containing lead
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電子部& 磁気ヘッドミ 水晶振動子等に使用
される封着ガラスの組成に関する。
される封着ガラスの組成に関する。
従来の技術
近年エレクトロニクスの発達により、様々なガラス製品
の需要が増大してきている。
の需要が増大してきている。
以下では従来技術を説明する方法として、磁気ヘッド用
封着ガラスをとりあげて説明する。
封着ガラスをとりあげて説明する。
第2図はフエライトをコア材としたVTR用磁気ヘッド
の代表的な構造を示している。フエライトコア材1をギ
ャップ巾に等しい間隔をおいて対向させ、その空隙はギ
ャップガラス2で満たされ封着ガラス3によって結合し
最後にコイル4を巻いて構成されている。
の代表的な構造を示している。フエライトコア材1をギ
ャップ巾に等しい間隔をおいて対向させ、その空隙はギ
ャップガラス2で満たされ封着ガラス3によって結合し
最後にコイル4を巻いて構成されている。
ここで封着ガラスはコアを結合させるため加熱時に 充
分軟化流動しなければならない力( コア材とガラスと
の相互反応を防止する意味から、なるべく低い方が望ま
しい。
分軟化流動しなければならない力( コア材とガラスと
の相互反応を防止する意味から、なるべく低い方が望ま
しい。
また その熱膨張係数(αと略す)はフエライトのそれ
に近いことが必要である。一般にはその値は(80〜1
15)x 10−’/tである力( 近年高解像度のテ
ープに対応した飽和磁束密度の高いフエライトのそれは
約130X 10−’/t:にも達している(例えば堀
川他 応用物理学会予稿集4a−ZE−8(1985年
10月))。また近年はフエライトに代わる磁性材料と
して同じ目的か収 アモルファス合金、超構造窒化合金
(例えば電子情報通信学会技術研究報告MR−86−4
、87−14)、センダストなども使用されつつある。
に近いことが必要である。一般にはその値は(80〜1
15)x 10−’/tである力( 近年高解像度のテ
ープに対応した飽和磁束密度の高いフエライトのそれは
約130X 10−’/t:にも達している(例えば堀
川他 応用物理学会予稿集4a−ZE−8(1985年
10月))。また近年はフエライトに代わる磁性材料と
して同じ目的か収 アモルファス合金、超構造窒化合金
(例えば電子情報通信学会技術研究報告MR−86−4
、87−14)、センダストなども使用されつつある。
特にセンダストのαは約140X 10−7/t:にも
達している。これらの磁性材料は第3図のようにギャッ
プ付近にスパッタ法等で形成される5ことが多い。した
がって封着ガラスのαはこのような形態のヘッドにも対
応しなければならない。
達している。これらの磁性材料は第3図のようにギャッ
プ付近にスパッタ法等で形成される5ことが多い。した
がって封着ガラスのαはこのような形態のヘッドにも対
応しなければならない。
また ヘッドは加工時に研暦工程を経る。この工程では
水が用いられるので封着ガラスの耐水性が優れているこ
とが要求されム さら1こガラスが濃く着色していたり
、作業中に失透(結晶化)したりすると第3図に示した
ギャップの深さ6を規定の深さに調整するときにアベッ
クス7が見えなくなるので好ましくなI,〜 以上を考慮に入れると磁気ヘッド用封着ガラスに要求さ
れる条件として (1)作業温度が低いこと、 (2)αが磁性材料に近いこと((80〜140) X
to−”/℃)、 (3)耐水性に優れること、 (4)濃く着色せず、作業中に失透(結晶化)しないこ
と、 が挙げられる。特に(3)について予備実験した結果耐
水性は日本光学硝子工業会の制定方法による「級」で示
すと1級が望ましいことが判っ九さてこのような観点か
ら従来例として (1)特開昭60−255643. 61−36135
. 61−111935号公報にはα一(70〜130
)X to−’/t:で作業点く温度)が400〜60
0℃のガラス (2)特開昭62−36040にはα=(112〜15
5)x 10−’/℃で作業点400〜560℃のガラ
ス (3)特開昭63−170240にはα=(119〜1
26)X 10−’/℃で作業点が550℃のガラス
(4)特開昭63−206330にはα=(85〜10
5)x 10−’/tで作業点500〜550℃のガラ
ス が開示されている。また(5)市販のガラス例とし
て例えばα−112x 10−’/tで作業点450℃
のTOl5,α= 120X 10−’/tで作業点4
30℃の7175(いずれも岩城硝子(株)製品)があ
る。
水が用いられるので封着ガラスの耐水性が優れているこ
とが要求されム さら1こガラスが濃く着色していたり
、作業中に失透(結晶化)したりすると第3図に示した
ギャップの深さ6を規定の深さに調整するときにアベッ
クス7が見えなくなるので好ましくなI,〜 以上を考慮に入れると磁気ヘッド用封着ガラスに要求さ
れる条件として (1)作業温度が低いこと、 (2)αが磁性材料に近いこと((80〜140) X
to−”/℃)、 (3)耐水性に優れること、 (4)濃く着色せず、作業中に失透(結晶化)しないこ
と、 が挙げられる。特に(3)について予備実験した結果耐
水性は日本光学硝子工業会の制定方法による「級」で示
すと1級が望ましいことが判っ九さてこのような観点か
ら従来例として (1)特開昭60−255643. 61−36135
. 61−111935号公報にはα一(70〜130
)X to−’/t:で作業点く温度)が400〜60
0℃のガラス (2)特開昭62−36040にはα=(112〜15
5)x 10−’/℃で作業点400〜560℃のガラ
ス (3)特開昭63−170240にはα=(119〜1
26)X 10−’/℃で作業点が550℃のガラス
(4)特開昭63−206330にはα=(85〜10
5)x 10−’/tで作業点500〜550℃のガラ
ス が開示されている。また(5)市販のガラス例とし
て例えばα−112x 10−’/tで作業点450℃
のTOl5,α= 120X 10−’/tで作業点4
30℃の7175(いずれも岩城硝子(株)製品)があ
る。
発明が解決しようとする課題
ところが従来のガラスは必ずしも以下の点で満足できる
ものではなかっ九 すなわ板 (1)はV205を30〜70%も含有しているのでガ
ラスが黒色であっ九 これは前記条件(4)を満足して
いない。
ものではなかっ九 すなわ板 (1)はV205を30〜70%も含有しているのでガ
ラスが黒色であっ九 これは前記条件(4)を満足して
いない。
(2)はガラスを結晶化させやすい成分であるZn○や
S i O2+Sn02+T i 02+Z ro2、
およびW 0 3 +M o 0 3を多量に含有して
いるので溶融時にガラス化しなかったり、ガラスが作業
中に失透しやすかっ九 これも前記条件(4)を満足し
ていな(〜 (3)はNa20を大量に(5%以上)含むため耐水性
に劣り、前記条件(3)を満足していな(℃(4)はガ
ラスを結晶化させやすい成分であるSi02やAQ20
gを多量に含有しているのでガラスが作業中に失透しや
すかっ九 これも前記条件(4)を満足していな(− (5)はいずれもPbO,、B2Oaを大量に含有して
いるため(各80%以土10%以上)耐水性に劣る(4
級レベル)もので、前記条件(3)を満足していなb〜 上記問題点に鑑へ 本発明は新規組成の封着ガラスを提
供することを目的とする。
S i O2+Sn02+T i 02+Z ro2、
およびW 0 3 +M o 0 3を多量に含有して
いるので溶融時にガラス化しなかったり、ガラスが作業
中に失透しやすかっ九 これも前記条件(4)を満足し
ていな(〜 (3)はNa20を大量に(5%以上)含むため耐水性
に劣り、前記条件(3)を満足していな(℃(4)はガ
ラスを結晶化させやすい成分であるSi02やAQ20
gを多量に含有しているのでガラスが作業中に失透しや
すかっ九 これも前記条件(4)を満足していな(− (5)はいずれもPbO,、B2Oaを大量に含有して
いるため(各80%以土10%以上)耐水性に劣る(4
級レベル)もので、前記条件(3)を満足していなb〜 上記問題点に鑑へ 本発明は新規組成の封着ガラスを提
供することを目的とする。
課題を解決するための手段
即ち少なくとも重量%で、
TeOa=1〜75%
、B2O3=1〜30%
pbo=t〜75%
CdO=1〜25鳳
ZnO二〇〜15%
Bi20s、TQeO(D少なくとも1つ=o 〜25
%AaO=0〜5%(ただしAはアルカリ金属)、AR
O=0〜35%(ただしARはアルカリ土類金属), La20s=0〜3 5%. A11203、SiO2、Ti02、ZrOeの少なく
とも1つ二〇〜5% Ta20s、Nb206、W O s、M’oOaの少
なくとも1つ=0〜IO% PbF2二〇〜30%. からなる封着ガラスである。
%AaO=0〜5%(ただしAはアルカリ金属)、AR
O=0〜35%(ただしARはアルカリ土類金属), La20s=0〜3 5%. A11203、SiO2、Ti02、ZrOeの少なく
とも1つ二〇〜5% Ta20s、Nb206、W O s、M’oOaの少
なくとも1つ=0〜IO% PbF2二〇〜30%. からなる封着ガラスである。
作用
本発明の封着ガラスは前記磁気ヘッド用封着ガラスに要
求される条件を満足し得るガラスである。
求される条件を満足し得るガラスである。
実施例
第1図は本発明の封着ガラスについて、C d O,Z
nOを一定にした(各々10%、5%)とき。主要成分
であるTe02、、B2Oa,PbOO)/1ラス形成
範囲を調べたものである。本発明の封着ガラスは八の範
囲に含まれるガラスを基本として様々なる添加物を加え
たものである。Bの範囲はαが80×10−’/t以下
であり前記条件(2)を満たさない。
nOを一定にした(各々10%、5%)とき。主要成分
であるTe02、、B2Oa,PbOO)/1ラス形成
範囲を調べたものである。本発明の封着ガラスは八の範
囲に含まれるガラスを基本として様々なる添加物を加え
たものである。Bの範囲はαが80×10−’/t以下
であり前記条件(2)を満たさない。
さらに本発明の封着ガラスにつき第1表、第2表を用い
て詳細に説明する。第1表には本発明のガラスについて
ガラス化状風 α、屈伏点、作業蔗 耐水性、総合評価
の結果を示している。ここでガラス化状態の評価は溶融
時にガラス化しなかったものを×、および溶融時にガラ
ス化したが作業時に失透したものを△とし九 αは30
〜300℃の仇 屈伏点はα曲線において伸びが止まっ
た温度である。作業点はガラスをφl長さ25mmのフ
ァイバに引き、幅2.6長さ25mmのフエライト上に
のせてガラスが広がりきった温度である。耐水性は日本
光学硝子工業会の制定方法による「級」で示しkNo.
1〜9は必須成分であるTeO2とPbOを変化させた
もので、Teraが0%であったり75%を越えるとガ
ラス化が困難になる。このことは同時にPbOの範囲も
1〜75%に規定することを示している。
て詳細に説明する。第1表には本発明のガラスについて
ガラス化状風 α、屈伏点、作業蔗 耐水性、総合評価
の結果を示している。ここでガラス化状態の評価は溶融
時にガラス化しなかったものを×、および溶融時にガラ
ス化したが作業時に失透したものを△とし九 αは30
〜300℃の仇 屈伏点はα曲線において伸びが止まっ
た温度である。作業点はガラスをφl長さ25mmのフ
ァイバに引き、幅2.6長さ25mmのフエライト上に
のせてガラスが広がりきった温度である。耐水性は日本
光学硝子工業会の制定方法による「級」で示しkNo.
1〜9は必須成分であるTeO2とPbOを変化させた
もので、Teraが0%であったり75%を越えるとガ
ラス化が困難になる。このことは同時にPbOの範囲も
1〜75%に規定することを示している。
表
2
No.10〜14は必須成分である、B2O3を変化さ
せたもので、 O%であったり30%を越えるとガラス
化が困難になる。なおNo.11はαが165x 10
−’/tでこれは低膨張のセラミックと混合して用いる
ことを目的としたもので、後でN o.48とともに説
明する。
せたもので、 O%であったり30%を越えるとガラス
化が困難になる。なおNo.11はαが165x 10
−’/tでこれは低膨張のセラミックと混合して用いる
ことを目的としたもので、後でN o.48とともに説
明する。
No.15〜18はZnOを変化させたもので、ZnO
は作業点をあまり変えずにαを下げる。 15%を越え
るとガラス化が困難になる。
は作業点をあまり変えずにαを下げる。 15%を越え
るとガラス化が困難になる。
No.19〜23は必須成分であるCdOを変化させた
ちのて CdOは耐水性を向上させる。
ちのて CdOは耐水性を向上させる。
0%では耐水性が低下L 25%を越えるとガラス化が
困難になる。
困難になる。
No.24、 25はそれぞれBi20s、Tffip
Qを添加したもので、これらは作業点をあまり変えずに
αを下げる。25%まで含有しうる力( やや耐水性が
劣化する傾向がある。
Qを添加したもので、これらは作業点をあまり変えずに
αを下げる。25%まで含有しうる力( やや耐水性が
劣化する傾向がある。
No.26はアルカリ金属酸化物(、A2O)の代表例
としてLi20を添加したもので、αを大きくする。5
%を越えるとガラス化が困難になる。
としてLi20を添加したもので、αを大きくする。5
%を越えるとガラス化が困難になる。
またNo.27〜30はアルカリ土類金属酸化物(AR
O)の代表例としてBaOを添加したもので、BaOは
耐水性を維持しつス αを大きくする。 35%を越え
るとガラス化が困難になる。
O)の代表例としてBaOを添加したもので、BaOは
耐水性を維持しつス αを大きくする。 35%を越え
るとガラス化が困難になる。
No.31はA920mを添加したもので、αを下げる
。5%を越えるとガラス化が困難になる。
。5%を越えるとガラス化が困難になる。
No.32 〜36はLap’sを添加したもので、L
a203は耐水性を向上させる。35%を越えるとガラ
ス化が困難になる。
a203は耐水性を向上させる。35%を越えるとガラ
ス化が困難になる。
No. 37 〜39はそれぞれSiO2,TiO2
、ZrO2を添加したものでαを下げる。 5%を越え
るとガラス化が困難になる。
、ZrO2を添加したものでαを下げる。 5%を越え
るとガラス化が困難になる。
No. 40 〜47はそれぞれNb20s,Ta2
06、W O s、M003を添加したものでαを下げ
る。
06、W O s、M003を添加したものでαを下げ
る。
10%を越えるとガラス化が困難になる。
NO.48以降は様々な他の実施例を示す。
以上No.11、48以外のガラス(よ まとめると失
透することなく、α=(82〜137) XIO−’/
℃で作業点が430〜620℃、耐水性は1〜2級で磁
気ヘッド用としての条件を満足するガラスである。
透することなく、α=(82〜137) XIO−’/
℃で作業点が430〜620℃、耐水性は1〜2級で磁
気ヘッド用としての条件を満足するガラスである。
ここでNo.11、 48に低膨張セラミックを混合し
た例を述べる。No.11ガラス粉末60重量%にチタ
ン酸鉛(α一−10〜−15xlO一丁/℃)粉末40
重量%を混合しボールミルでlO時間粉砕した この混
合粉末を直径15mm厚さ3mmの錠剤にプレスl,,
400℃で焼結させ九 このαは70x 10−’
/℃であった これをNo.11Fと称する。またNo
,48ガラス粉末70重量%にβユークリプタイト (
α=−64〜−86X10−7/1)粉末30重量%を
混合しボールミルで10時間粉砕したこの混合粉末を直
径15mm厚さ3mmの錠剤にプレスl,, 440
℃で焼結させ九 このαは67x 10−7/℃であっ
九 これをNo.48Fと称する。
た例を述べる。No.11ガラス粉末60重量%にチタ
ン酸鉛(α一−10〜−15xlO一丁/℃)粉末40
重量%を混合しボールミルでlO時間粉砕した この混
合粉末を直径15mm厚さ3mmの錠剤にプレスl,,
400℃で焼結させ九 このαは70x 10−’
/℃であった これをNo.11Fと称する。またNo
,48ガラス粉末70重量%にβユークリプタイト (
α=−64〜−86X10−7/1)粉末30重量%を
混合しボールミルで10時間粉砕したこの混合粉末を直
径15mm厚さ3mmの錠剤にプレスl,, 440
℃で焼結させ九 このαは67x 10−7/℃であっ
九 これをNo.48Fと称する。
これらの封着ガラスは第4m 第5図に図示した水晶振
動子に使用し九 ここで8はリード線9は水晶板、 l
Oはアルミナケ一人 1lはアルミナまたはガラスの蓋
、 12は導電性接着剋 13は封着ガラ人 14は励
振用電狐 15は保持部を示している。封着ガラスはガ
ラス粉末100部と、アクリル樹脂1部と、ターピネオ
ール10部よりなるペーストにして使用した まず水晶板の上に励振用電極として銀を蒸着しこれを導
電性接着剤を用いてリード線の保持部に固着させ九 こ
れらをケースに納めケースの縁にペーストを塗布しNo
.11Fは400℃、NO.48Fは440℃で仮接着
し九 一方蓋の周囲にもペーストを塗布し同様に仮接着
し九 以下これらを対向させてそれぞれ400, 4
40℃で加熱して封口を完了しt2Heリークテストに
より気密性を調べた結果リーク量は5x 10−”at
m. cc/sec以下でありリークは無いものと判断
し九 なお低膨張セラミックとしてチタン酸アルミ、溶融石菟
βスポジュメン、コージライト、ケイ酸亜抵 ケイ酸
ジルコニウム(αは各々一l9〜14,5,9〜14.
25〜26, 32, 41( X 10−’/t
))等も同様に使用可能であっ九 第2表は第1表のNo,49を基礎としてPbOをPb
F2に置換したときの特性の変化を示したもので、Pb
F2が35%以上になると作業時に失透した すなわち
PbF2は0〜30%に制限されることがわかった (以下余白) 表 3 (従来例) 第3表のNo.1〜2は従来例(2)、No. 3〜4
は従来例(3)、No. 5〜6は従来例(4)につい
て調べたものである。いずれもガラス化しにくかったり
、耐水性が悪かったり、作業時に失透したりして実使用
には問題があることがわかっ−k なお従来例(1)、
(5)は「発明が解決しようとする課」の項でのべた理
由から問題があることが明らかなのでここでは調べなか
っ九 発明の効果 以上のように本発明により、失透することなく、α=(
82〜137) x 10−’/tで作業点が430〜
600t,耐水性は1〜2級で磁気ヘッド用としての条
件を満足するガラスが得られ九 また低膨張セラミック
を混合することによりα一(67〜70) XIO−”
/t:で作業点が400〜440℃の封着ガラスが得ら
れたなお脱泡のために少量のAS203を加えること、
また工業上よく知られている成分の少量添加を本発明は
妨げるものではないし またこれによって本発明の効果
は影響されなuXo また本発明のガラスは磁気ヘッドミ 水晶振動子だけで
なく、熱膨張係数の近接する金属(白血チタン、クロム
鉄合企 426合金等)あるいはガラス(ソーダ石灰ガ
ラス 鉛カリガラス ホウケイ酸ガラス等)の封着や、
CRTチューブの接着、ICパッケージ、ハーメチック
シーノレ、シーズヒ第1図は本発明の封着ガラスについ
て、C d O,ZnOを一定にした(各々10敢5%
)ときへ 主要成分であるTe02、B2ss,PbO
のガラス組成表的な分解斜視図である。
動子に使用し九 ここで8はリード線9は水晶板、 l
Oはアルミナケ一人 1lはアルミナまたはガラスの蓋
、 12は導電性接着剋 13は封着ガラ人 14は励
振用電狐 15は保持部を示している。封着ガラスはガ
ラス粉末100部と、アクリル樹脂1部と、ターピネオ
ール10部よりなるペーストにして使用した まず水晶板の上に励振用電極として銀を蒸着しこれを導
電性接着剤を用いてリード線の保持部に固着させ九 こ
れらをケースに納めケースの縁にペーストを塗布しNo
.11Fは400℃、NO.48Fは440℃で仮接着
し九 一方蓋の周囲にもペーストを塗布し同様に仮接着
し九 以下これらを対向させてそれぞれ400, 4
40℃で加熱して封口を完了しt2Heリークテストに
より気密性を調べた結果リーク量は5x 10−”at
m. cc/sec以下でありリークは無いものと判断
し九 なお低膨張セラミックとしてチタン酸アルミ、溶融石菟
βスポジュメン、コージライト、ケイ酸亜抵 ケイ酸
ジルコニウム(αは各々一l9〜14,5,9〜14.
25〜26, 32, 41( X 10−’/t
))等も同様に使用可能であっ九 第2表は第1表のNo,49を基礎としてPbOをPb
F2に置換したときの特性の変化を示したもので、Pb
F2が35%以上になると作業時に失透した すなわち
PbF2は0〜30%に制限されることがわかった (以下余白) 表 3 (従来例) 第3表のNo.1〜2は従来例(2)、No. 3〜4
は従来例(3)、No. 5〜6は従来例(4)につい
て調べたものである。いずれもガラス化しにくかったり
、耐水性が悪かったり、作業時に失透したりして実使用
には問題があることがわかっ−k なお従来例(1)、
(5)は「発明が解決しようとする課」の項でのべた理
由から問題があることが明らかなのでここでは調べなか
っ九 発明の効果 以上のように本発明により、失透することなく、α=(
82〜137) x 10−’/tで作業点が430〜
600t,耐水性は1〜2級で磁気ヘッド用としての条
件を満足するガラスが得られ九 また低膨張セラミック
を混合することによりα一(67〜70) XIO−”
/t:で作業点が400〜440℃の封着ガラスが得ら
れたなお脱泡のために少量のAS203を加えること、
また工業上よく知られている成分の少量添加を本発明は
妨げるものではないし またこれによって本発明の効果
は影響されなuXo また本発明のガラスは磁気ヘッドミ 水晶振動子だけで
なく、熱膨張係数の近接する金属(白血チタン、クロム
鉄合企 426合金等)あるいはガラス(ソーダ石灰ガ
ラス 鉛カリガラス ホウケイ酸ガラス等)の封着や、
CRTチューブの接着、ICパッケージ、ハーメチック
シーノレ、シーズヒ第1図は本発明の封着ガラスについ
て、C d O,ZnOを一定にした(各々10敢5%
)ときへ 主要成分であるTe02、B2ss,PbO
のガラス組成表的な分解斜視図である。
Claims (2)
- (1)少なくとも重量%で、 TeO_2=1〜75%、 B_2O_3=1〜30%、 PbO=1〜75%、 CdO=1〜25%、 ZnO=0〜15%、 Bi_2O_3、Tl_2Oの少なくとも1つ=0〜2
5%、A_2O=0〜5%(ただしAはアルカリ金属)
、ARO=0〜35%(ただしARはアルカリ土類金属
)、 La_2O_3=0〜35%、 Al_2O_3、SiO_2、TiO_2、ZrO_2
の少なくとも1つ=0〜5%、 Ta_2O_5、Nb_2O_5、WO_3、MoO_
3の少なくとも1つ=0〜10%、 PbF_2=0〜30%、 からなることを特徴とする封着ガラス。 - (2)請求項1の組成よりなるガラスに低膨張セラミッ
クを混合したことを特徴とする封着ガラス。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2157966A JPH03218943A (ja) | 1989-11-28 | 1990-06-15 | 封着ガラス |
| DE69020114T DE69020114T2 (de) | 1989-11-28 | 1990-11-28 | Abdichtungsglas. |
| EP90122745A EP0430206B1 (en) | 1989-11-28 | 1990-11-28 | Sealing glass |
| US07/863,610 US5245492A (en) | 1989-11-28 | 1992-04-06 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-308671 | 1989-11-28 | ||
| JP30867189 | 1989-11-28 | ||
| JP2157966A JPH03218943A (ja) | 1989-11-28 | 1990-06-15 | 封着ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03218943A true JPH03218943A (ja) | 1991-09-26 |
Family
ID=26485237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2157966A Pending JPH03218943A (ja) | 1989-11-28 | 1990-06-15 | 封着ガラス |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0430206B1 (ja) |
| JP (1) | JPH03218943A (ja) |
| DE (1) | DE69020114T2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0753237A (ja) * | 1993-08-10 | 1995-02-28 | Toshiba Glass Co Ltd | 低温封着用組成物 |
| JPWO2006001346A1 (ja) * | 2004-06-24 | 2008-04-17 | 旭硝子株式会社 | 光学ガラスおよびレンズ |
| JP2013533187A (ja) * | 2010-05-04 | 2013-08-22 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 鉛−テルル−リチウム−チタン−酸化物を含有する厚膜ペーストと半導体デバイスの製造においてのそれらの使用 |
| JP2015187061A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-10-29 | ヘレウス プレシャス メタルズ ノース アメリカ コンショホーケン エルエルシー | 改良された接着特性を有する鉛−ビスマス−テルル−ケイ酸塩無機反応系 |
| US10658528B2 (en) | 2017-04-18 | 2020-05-19 | Dupont Electronics, Inc. | Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith |
| JP2020186155A (ja) * | 2019-05-17 | 2020-11-19 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス組成物及び封着材料 |
| WO2021166568A1 (ja) * | 2020-02-18 | 2021-08-26 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス組成物及び封着材料 |
| JP2021130602A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス組成物及び封着材料 |
| WO2022054526A1 (ja) * | 2020-09-09 | 2022-03-17 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス組成物及び封着材料 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2229348C (en) | 1997-02-14 | 2007-10-02 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Tellurite glass, optical amplifier, and light source |
| RU2185343C2 (ru) * | 2000-07-17 | 2002-07-20 | Белорусский государственный технологический университет | Легкоплавкое стекло |
| EP2167438B1 (en) | 2007-06-27 | 2019-04-03 | Nikon Corporation | Glass composition and optical member and optical instrument using the same |
| CN104118992A (zh) * | 2014-07-22 | 2014-10-29 | 江苏欧耐尔新型材料有限公司 | 用于太阳能高方阻浆料的玻璃粉及其制备方法 |
| CN109516679B (zh) * | 2019-01-07 | 2021-01-19 | 华南理工大学 | 一种稀土离子掺杂微晶玻璃的中红外发光材料及其制备方法 |
| CN110217993B (zh) * | 2019-06-26 | 2022-05-27 | 鲁米星特种玻璃科技股份有限公司 | 一种环保型低温封接玻璃及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02124745A (ja) * | 1988-07-11 | 1990-05-14 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘッド封着用ガラスおよび磁気ヘッド |
| JPH03109235A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-09 | Tdk Corp | ガラスおよび磁気ヘッド |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB776784A (en) * | 1954-05-10 | 1957-06-12 | British Thomson Houston Co Ltd | Glass compositions |
| US3420683A (en) * | 1962-12-17 | 1969-01-07 | Nippon Electric Co | Low melting glass |
-
1990
- 1990-06-15 JP JP2157966A patent/JPH03218943A/ja active Pending
- 1990-11-28 DE DE69020114T patent/DE69020114T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-28 EP EP90122745A patent/EP0430206B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02124745A (ja) * | 1988-07-11 | 1990-05-14 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘッド封着用ガラスおよび磁気ヘッド |
| JPH03109235A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-09 | Tdk Corp | ガラスおよび磁気ヘッド |
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0753237A (ja) * | 1993-08-10 | 1995-02-28 | Toshiba Glass Co Ltd | 低温封着用組成物 |
| JPWO2006001346A1 (ja) * | 2004-06-24 | 2008-04-17 | 旭硝子株式会社 | 光学ガラスおよびレンズ |
| US10468542B2 (en) | 2010-05-04 | 2019-11-05 | Dupont Electronics, Inc. | Thick-film pastes containing lead-tellurium-lithium-oxides, and their use in the manufacture of semiconductor devices |
| US10559703B2 (en) | 2010-05-04 | 2020-02-11 | Dupont Electronics, Inc. | Thick-film pastes containing lead-tellurium-boron-oxides, and their use in the manufacture of semiconductor devices |
| US8889980B2 (en) | 2010-05-04 | 2014-11-18 | E I Du Pont De Nemours And Company | Thick-film pastes containing lead—tellurium—lithium—oxides, and their use in the manufacture of semiconductor devices |
| US8895843B2 (en) | 2010-05-04 | 2014-11-25 | E I Du Pont De Nemours And Company | Thick-film pastes containing lead-tellurium-boron-oxides, and their use in the manufacture of semiconductor devices |
| US11043605B2 (en) | 2010-05-04 | 2021-06-22 | E I Du Pont De Nemours And Company | Thick-film pastes containing lead- and tellurium-oxides, and their use in the manufacture of semiconductor devices |
| US9722100B2 (en) | 2010-05-04 | 2017-08-01 | E I Du Pont De Nemours And Company | Thick-film pastes containing lead-tellurium-lithium-oxides, and their use in the manufacture of semiconductor devices |
| US10069020B2 (en) | 2010-05-04 | 2018-09-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Thick-film pastes containing lead- and tellurium-oxides, and their use in the manufacture of semiconductor devices |
| US8889979B2 (en) | 2010-05-04 | 2014-11-18 | E I Du Pont De Nemours And Company | Thick-film pastes containing lead—tellurium—lithium—titanium—oxides, and their use in the manufacture of semiconductor devices |
| JP2013533187A (ja) * | 2010-05-04 | 2013-08-22 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 鉛−テルル−リチウム−チタン−酸化物を含有する厚膜ペーストと半導体デバイスの製造においてのそれらの使用 |
| US10115836B2 (en) | 2014-01-17 | 2018-10-30 | Heraeus Precious Metals North America Conshohocken Llc | Lead-bismuth-tellurium-silicate inorganic reaction system having improved adhesion properties |
| JP2015187061A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-10-29 | ヘレウス プレシャス メタルズ ノース アメリカ コンショホーケン エルエルシー | 改良された接着特性を有する鉛−ビスマス−テルル−ケイ酸塩無機反応系 |
| US10658528B2 (en) | 2017-04-18 | 2020-05-19 | Dupont Electronics, Inc. | Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith |
| JP2020186155A (ja) * | 2019-05-17 | 2020-11-19 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス組成物及び封着材料 |
| WO2020235284A1 (ja) * | 2019-05-17 | 2020-11-26 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス組成物及び封着材料 |
| CN113614042A (zh) * | 2019-05-17 | 2021-11-05 | 日本电气硝子株式会社 | 玻璃组合物以及密封材料 |
| CN113614042B (zh) * | 2019-05-17 | 2023-08-15 | 日本电气硝子株式会社 | 玻璃组合物以及密封材料 |
| WO2021166568A1 (ja) * | 2020-02-18 | 2021-08-26 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス組成物及び封着材料 |
| JP2021130602A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス組成物及び封着材料 |
| WO2022054526A1 (ja) * | 2020-09-09 | 2022-03-17 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス組成物及び封着材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69020114T2 (de) | 1996-02-29 |
| DE69020114D1 (de) | 1995-07-20 |
| EP0430206B1 (en) | 1995-06-14 |
| EP0430206A1 (en) | 1991-06-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0630867B1 (en) | Non-lead sealing glasses | |
| JPH03218943A (ja) | 封着ガラス | |
| KR100484059B1 (ko) | 유리조성물, 자기 헤드용 시일링 유리 및 자기 헤드 | |
| JP4016507B2 (ja) | ビスマス系ガラス組成物 | |
| US4652536A (en) | Tellurite glass | |
| JP3748533B2 (ja) | 低融点ガラス及びその製造方法 | |
| US4737475A (en) | Arsenic-free lead silicate vacuum tube glass | |
| US6309989B1 (en) | Tin-borophosphate glass and sealing material | |
| US5245492A (en) | Magnetic head | |
| US4855261A (en) | Sealing glass | |
| JP4415535B2 (ja) | 磁気ヘッド用ギャップ接合ガラスおよび磁気ヘッド | |
| JP2987039B2 (ja) | 接着・封止用ガラス | |
| JPH02133336A (ja) | 封着用組成物 | |
| JP2722733B2 (ja) | 封着ガラスおよび該ガラスを使用した磁気ヘッド | |
| JPS6132272B2 (ja) | ||
| JP3079715B2 (ja) | 結晶化ガラス | |
| JPS63166735A (ja) | 超音波遅延線用ガラス | |
| JP3422049B2 (ja) | 封着用ガラス材料 | |
| JP3296679B2 (ja) | 接着用ガラス | |
| JPH04292435A (ja) | レンズの製造方法 | |
| JPS6325246A (ja) | 封着用ガラス | |
| JPH0629151B2 (ja) | 封着用ガラス | |
| JP3026785B2 (ja) | ガラス組成物 | |
| JPH05105479A (ja) | 低温融着性ガラス組成物 | |
| JPH08151230A (ja) | 電子部品用ボンディングガラス組成物 |