JPH03219070A - 真空蒸着装置および方法 - Google Patents

真空蒸着装置および方法

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JPH03219070A
JPH03219070A JP1192790A JP1192790A JPH03219070A JP H03219070 A JPH03219070 A JP H03219070A JP 1192790 A JP1192790 A JP 1192790A JP 1192790 A JP1192790 A JP 1192790A JP H03219070 A JPH03219070 A JP H03219070A
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Heizaburo Furukawa
古川 平三郎
Toshio Taguchi
田口 俊夫
Takuya Aiko
愛甲 琢也
Shinji Kamura
嘉村 真司
Kazuaki Chiyouhata
丁畑 和昭
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Nippon Steel Nisshin Co Ltd
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Nisshin Steel Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、金属等の帯状基板に金属等、特に多面結晶方
位を持つ金属を蒸着する真空蒸着装置および方法に関す
る。
〔従来の技術〕
第3図は従来の真空蒸着装置の例として真空蒸着亜鉛め
っき設備の一例を示す概略図である。
帯鋼(1)はシール装置(3)を経て、図示しない真空
ポンプで排気された真空容器(2)内に送給され、加熱
型デフレクタロール(4)に巻き掛けられながら連続的
に通板される。一方るつぼ(5)内に収容された溶融亜
鉛(6a)は図示しない加熱源により加熱されて蒸気を
発生する。その亜鉛蒸気(6a)はチャンネル(7)に
導かれて、上記加熱型デフレクタロール(4)に巻掛け
られた帯1iI(1)の上記チャンネル(7)に囲まれ
た部分に達し、同帯鋼(1)の片面に蒸着される。
なお(8)は亜鉛蒸気(6a)の量を制御するシャッタ
である。
第4図は、従来の真空蒸着設備の他の例として、蒸着装
置を2基設け、帯m(+1の表面と裏面の両面にそれぞ
れ所定膜厚の亜鉛蒸着を施す設備を示す。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記従来の真空蒸着亜鉛めっき設備によれば、蒸着亜鉛
めっき完了後の帯鋼(+)表面の光沢が、部分的に微妙
に異なっていた。その原因は次のように考えられる。
従来の設備においては、帯鋼(1)は亜鉛が蒸着される
前に加熱型デフレクタロール(4)に接触し、第3図に
示す角度θだけ巻掛けられる。その時帯鋼・ロール間の
接触圧力や帯鋼とロールの各表面粗度または表面密度が
不均一だと、帯鋼(1)の表面と加熱型デフレクタロー
ル(4)の表面との接触状態が部分的に異なるから、約
500°Cに加熱されたデフレクタロール(4)から約
200°C以上に加熱された帯鋼(1)への熱の伝達量
も部分的に異なってくる。そうすると基若開始前の帯鋼
(1)の表面温度が、長手方向あるいは幅方向に不均一
となる。
本発明の発明者らの研究によれば、帯鋼表面に初期に蒸
着される亜鉛の結晶方位は帯鋼の表面温度に依存するこ
とが分っている。また、その後蒸着される亜鉛の結晶方
位は、すでに蒸着されている亜鉛の結晶方位と同じにな
る。したがって、帯鋼表面温度が帯鋼の板幅方向あるい
は長手方向に異なる場合には、初期に蒸着される亜鉛の
結晶方位が部分的に異なり、その後に蒸着される亜鉛の
結晶方位も部分的に異なる。その結果、蒸着完了後の蒸
着亜鉛めっき鋼板の表面光沢が部分的に異なって、商品
価値を左右することになる。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、前記従来の課題を解決するために、真空容器
と、同真空容器の中に配された加熱型デフレクタロール
と、同加熱型デフレクタロールに帯状基板を巻掛けて走
行させる手段と、上記加熱型デフレクタロールに巻掛け
られた上記帯状基板の面の一部を囲むチャンネルと、同
チャンネルの中に蒸着材の蒸気を供給する手段とを備え
たものにおいて、上記加熱型デフレクタロールに巻掛け
られる前の上記帯状基板の面の一部を囲むフラッシュコ
ート蒸着口と、同フラッシュコート蒸着口に上記蒸着材
の蒸気を供給する手段とを備えたことを特徴とする真空
蒸着装置; 真空容器と、同真空容器の中に配された加
熱型デフレクタロールと、同加熱型デフレクタロールに
帯状基板を巻掛けて走行させる手段と、上記加熱型デフ
レクタロールに巻掛けられた上記帯状基板の面の一部を
囲むチャンネルと、同チャンネルの中に蒸着材の蒸気を
供給する手段とを備えたものにおいて、上記加熱型デフ
レクタロールに巻掛けられる前の上記帯状基板の面の一
部を囲むフラッシュコート蒸着口と、同フラッシュコー
ト蒸着口と上記チャンネルとを連通ずるフードとを備え
たことを特徴とする真空蒸着装置; ならびに真空容器
内で帯状基板を加熱型デフレクタロールに巻掛けて走行
させながら蒸着材を上記帯状基板に蒸着する方法におい
て、上記加熱型デフレクタロールに巻付けられる前の上
記帯状基板に、あらかじめ上記蒸着材を微量蒸着させて
おくことを特徴とする真空蒸着方法を提案するものであ
る。
〔作用] 本発明は前記のとおり構成されており、帯状基板が加熱
型デフレクタロールに巻掛けられる前の基板温度が均一
な時に、あらかじめ蒸着材と同じ物質を薄く微量蒸着(
フラッシュコートさせる。
基板温度が均一な時にフラッシュコートされた蒸着材は
、温度が結晶方位が均一になる。したがってその後の蒸
着時に、たとえ加熱型デフレクタロールと帯状基板との
接触不均一によって帯状基板の温度が不均一になっても
、その温度に関係なく、蒸着材の結晶方位は均一となる
〔実施例〕
第1図は本発明の第1実施例を示す概略図である。この
図において、前記第3図および第4図により説明した従
来のものと同様な部分については、冗長になるのを避け
るため、同一の符号を付は詳しい説明を省く。
本実施例においては、加熱型デフレクタロール(4)の
手前の真空容H(2a)内に、フラッシュコート装置が
配置されている。このフラッシュコート装置は、帯状基
板(1)の一部の両面を囲むフラッシュコート蒸着口(
9a)と、溶融亜鉛(6a)を収容するるつぼ(5a)
と、亜鉛蒸気(6b)を上記フラッシュコート蒸着口(
9a)まで導くフード(loa)を具えている。
シール装置(3)を経て送られてくる帯鋼(1)は、図
示しない温度調整装置によって、板幅方向および長手方
向に250°〜260℃の範囲の均一な温度分布にあら
かじめ調整されている。その帯鋼(+)はフラッシュコ
ート装置で100Å以上の膜厚に亜鉛蒸気をフラノツユ
コートされる。そして、帯鋼両表面に蒸着された亜鉛の
結晶方位を均一に揃えた後、加熱型デフレクタロール(
4)に巻掛けられて走行しながら、片側の面に所定の膜
厚の亜鉛蒸着が繕される。この場合、フラッシュコート
装置でフラッシュコートされる時には帯鋼(+1の温度
が均一であるから、フラッシュコートされた亜鉛膜の結
晶方位は均一な同一結晶方位となる。続いて加熱型デフ
レクタロール(4)に角度θだけ巻付きながら進入して
来た時に帯鋼の表面温度が不均一になっていてもここで
蒸着される亜鉛の結晶方位は、フラッシュコート時の亜
鉛の結晶方位と同一結晶方位で蒸着されるので、蒸着完
了後の亜鉛めっき鋼板表面の光沢も均一となり、表面光
沢むらが生じない。
なお上記フラッシュコート装置では、帯鋼(1)の表面
と裏面の両面にフラッシュコートが施される。
したがって、2基の蒸着装置を有する前記第4図の蒸着
設備に本実施例を適用すれば、最初の蒸着装置で片面に
、次の基若装置でもう一方の面に、それぞれ所定の膜厚
の亜鉛蒸着が施され、それら両面に蒸着された亜鉛の結
晶方位は、あらかじめフラッシュコートされた亜鉛の結
晶方位と同一であるから、帯鋼(1)両面の光沢は、帯
鋼の板幅方向および長手方向の全面にわたって均一とな
る。
次に本実施例の効果を確認するため行なった試験につい
て記す。
原着条件は、 帯鋼:厚さ0.5ms、幅914m、 表面温度250℃±!℃、通板速度140m/sin。
真空度:2×1O−1TOrr フラノシュコート二5000人×2面 蒸着膜厚:5.6,1/lX2面 蒸着後の亜鉛の結晶方位は、0002面が帯鋼表面に対
して平行に配列していた。表面光沢は均一な銀白色の美
麗な表面性状を呈し、従来の展着方法で見られた部分的
な光沢むらは全くなかった。
次に第2図は本発明の第2実施例を示す概略図である。
この図においても、前記と同様な部分については、同一
の符号を付は詳しい説明を省く。
本実施例では、加熱型デフレクタロール(4)の手前の
真空容器(2)内に、帯鋼(+)の面の一部を囲んでフ
ランジユニ1−ト蒸着口(9b)が設けられており、そ
のフラッシュコート蒸着口(9b)は、真空蒸着装置の
亜鉛蒸気(6b)を案内するチャンネル(7)に、フー
ド(10b)によって連通している。こうしてフラッシ
ュコートN着口(9b)とフード(10b)とでフラノ
ツユコート装置を形成している。
帯鋼(1)は、加熱型デフレクタロール(4)の手前の
フラッシュコート装置において、チャンネル(7)から
分岐してフード(10b)内を通って来た亜鉛蒸気(6
b)により、あらかじめ100Å以上の膜厚にフラッシ
ュコートされる。帯ig(1)の表面温度は、フラノツ
ユコート装置に帯鋼が到達する前に長手方向板幅方向に
均一に図示しない温度調整装置で調整されているので、
フラノツユコートされた時の亜鉛結晶方位は均一になっ
ている。したがってデフレクタロール(4)に角度θだ
け巻掛けられながら進入して来た帯鋼の表面温度がすで
に不均一になっていでも、チャンネル(7)に案内され
て来た亜鉛奈気(6b)はフラッシュコート時の亜鉛の
結晶方位と同一結晶方位を以て蒸着されるので、蒸着完
了後の亜鉛めっき鋼板表面の光沢は均一なものが得られ
る。
次に本実施例の効果を&′11認した試験について述べ
る。
蒸着条件は、 帯鋼:厚さ0.8mm、幅914關、 表面温度250°C士ビC1通板速度100m/sin
真空度: 2 Xl0−’Torr フラッシュコート膜厚: 4000人×2面蒸着膜厚ニ
ア/71X2面 蒸着後の亜鉛の結晶方位は、0002面が帯鋼表面に対
し平行に配列していた。また表面光沢は均一な銀白色の
美麗な表面性状を呈し、従来の原着方法で見られた部分
的な光沢むらは全く見られなかった。
以上実施例によって説明したように、所定の膜厚の蒸着
物質を蒸着させる過程で、基板温度が不均一になる前、
すなわち温度が均一な状態の基板に、100Å以上のフ
ラッシュコートを施して芸着物質の結晶方位を均一に揃
えておく。そうすると、続いて所定の膜厚の蒸着物質を
基板温度が不均一な状!専の基板に蒸着しても、この時
にはフラッシュコート時の結晶方位と同一の結晶方位が
基板全面にわたって現われ、蒸着めっきされた基板の表
面光沢が均一になる。また基板温度のレベルを変えるこ
とにより、基板全面にわたって結晶方位が全く異なる蒸
着膜を作ることができ、機械的、電気的、物理的または
化学的性能が異なる皮膜を得ることもできる。
なお、フラッシュコートは、蒸着を必要とする基板面の
みでよく、片面原着の場合にはその片面のみに施せばよ
い。
〔発明の効果〕
本発明においては、真空蒸着装置の加熱型デフレクタロ
ールに巻掛けられる前の温度が均一な(1シ状基板に、
あらかじめ原着物質を薄く蒸着(フラッシュコート)さ
−υるようにしたので、加熱型デフレクタロールで帯状
基板の温度が不均一であっても、フラッシュコートさせ
たときの蒸着物質の結晶方位で蒸着できるので、蒸着さ
れた表面の光沢が均一な、美麗な製品を生産することが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例を示す概略図、第2図は本
発明の第2実施例を示す概略図、第3図は従来の真空蒸
着設備の一例を示す概略図、第4図は同じく他の例を示
す概略図である。 (1)・・・帯鋼、     (2)、(2a)・・・
真空容器、(3)・・・シール装置、(4)・・・加熱
型デフレクタロール、(5)、(5a)・・・るつぼ、
  (6a)・・・溶融亜鉛、(6b)・・・亜鉛蒸気
、  (7)・・・チャンネル、(8)・・・シャッタ
、 (9a) 、 (9b)・・・フラッシュコート蒸着口
、(10a) 、 (10b)−フード。 ¥1図 Y 1〜1帯翔

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)真空容器と、同真空容器の中に配された加熱型デフ
    レクタロールと、同加熱型デフレクタロールに帯状基板
    を巻掛けて走行させる手段と、上記加熱型デフレクタロ
    ールに巻掛けられた上記帯状基板の面の一部を囲むチャ
    ンネルと、同チャンネルの中に蒸着材の蒸気を供給する
    手段とを備えたものにおいて、上記加熱型デフレクタロ
    ールに巻掛けられる前の上記帯状基板の面の一部を囲む
    フラッシュコート蒸着口と、同フラッシュコート蒸着口
    に上記蒸着材の蒸気を供給する手段とを備えたことを特
    徴とする真空蒸着装置。 2)真空容器と、同真空容器の中に配された加熱型デフ
    レクタロールと、同加熱型デフレクタロールに帯状基板
    を巻掛けて走行させる手段と、上記加熱型デフレクタロ
    ールに巻掛けられた上記帯状基板の面の一部を囲むチャ
    ンネルと、同チャンネルの中に蒸着材の蒸気を供給する
    手段とを備えたものにおいて、上記加熱型デフレクタロ
    ールに巻掛けられる前の上記帯状基板の面の一部を囲む
    フラッシュコート蒸着口と、同フラッシュコート蒸着口
    と上記チャンネルとを連通するフードとを備えたことを
    特徴とする真空蒸着装置。 3)真空容器内で帯状基板を加熱型デフレクタロールに
    巻掛けて走行させながら蒸着材を上記帯状基板に蒸着す
    る方法において、上記加熱型デフレクタロールに巻付け
    られる前の上記帯状基板に、あらかじめ上記蒸着材を微
    量蒸着させておくことを特徴とする真空蒸着方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010121204A (ja) * 2008-10-22 2010-06-03 Fujikura Ltd 成膜方法及び成膜装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0211767A (ja) * 1988-06-29 1990-01-16 Kawasaki Steel Corp 長尺物の連続ドライプレーティング装置

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