JPH0211767A - 長尺物の連続ドライプレーティング装置 - Google Patents
長尺物の連続ドライプレーティング装置Info
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- JPH0211767A JPH0211767A JP15927388A JP15927388A JPH0211767A JP H0211767 A JPH0211767 A JP H0211767A JP 15927388 A JP15927388 A JP 15927388A JP 15927388 A JP15927388 A JP 15927388A JP H0211767 A JPH0211767 A JP H0211767A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は金属ストリップなどの長尺物に連続的にドライ
プレーティングを施す装置に係り、特にプレーティング
後の長尺物の冷却装置に関するものである。
プレーティングを施す装置に係り、特にプレーティング
後の長尺物の冷却装置に関するものである。
〈従来の技術〉
各種の素材に真空蒸着やイオンプレーティング等の所謂
ドライプレーティングにより薄膜を形成させ表面を改質
する技術が、昨今極めて広汎に実施されている。例えば
ガラス表面への別種のセラミックスコーティング、ドリ
ルやバイト等へのTiNやTiC等のコーティング、あ
るいは鋼板等への亜鉛蒸着などがある。これらの技術は
主に真空中で、プレーティング前の基板を所定の温度に
加熱することにより、被膜との密着性を向上させている
。
ドライプレーティングにより薄膜を形成させ表面を改質
する技術が、昨今極めて広汎に実施されている。例えば
ガラス表面への別種のセラミックスコーティング、ドリ
ルやバイト等へのTiNやTiC等のコーティング、あ
るいは鋼板等への亜鉛蒸着などがある。これらの技術は
主に真空中で、プレーティング前の基板を所定の温度に
加熱することにより、被膜との密着性を向上させている
。
特に最近、金属ストリップなどの長尺物に対し、真空中
で連続的にプレーティングする技術が向上し、利用され
るようになってきた。
で連続的にプレーティングする技術が向上し、利用され
るようになってきた。
ここで長尺物のプレーティングは表裏を同時に行うこと
も不可能ではないが、設備的、技術的に大きな負荷があ
るため一般には片面ずつ、順次プレーティングがなされ
ている。従って、以下、片面ずつプレーティングする装
置に関して説明する。
も不可能ではないが、設備的、技術的に大きな負荷があ
るため一般には片面ずつ、順次プレーティングがなされ
ている。従って、以下、片面ずつプレーティングする装
置に関して説明する。
片面ずつプレーティングする際長尺物を所定の温度に加
熱した後、最初のプレーティングが実施されるが、被膜
形成後長尺物の温度は大幅に上昇する。従って通常引続
いて実施する反対面のプレーティングに際しては、所定
の温度に冷却することが必要である。この冷却方法とし
て、従来例えば、特開昭62−103366号公報に開
示されるような冷却ロールに接触させる方法がある。し
かし、この方法は冷却速度が大きく、金属ストリップな
どでは波状に変形する欠点があるため、すべての場合に
使用することはできない。
熱した後、最初のプレーティングが実施されるが、被膜
形成後長尺物の温度は大幅に上昇する。従って通常引続
いて実施する反対面のプレーティングに際しては、所定
の温度に冷却することが必要である。この冷却方法とし
て、従来例えば、特開昭62−103366号公報に開
示されるような冷却ロールに接触させる方法がある。し
かし、この方法は冷却速度が大きく、金属ストリップな
どでは波状に変形する欠点があるため、すべての場合に
使用することはできない。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の目的は以上のような背景に基づき、長尺物の形
状を平坦に維持しながら所定の温度に冷却可能な冷却手
段を存する長尺物の連続ドライプレーティング装置を提
案するものである。
状を平坦に維持しながら所定の温度に冷却可能な冷却手
段を存する長尺物の連続ドライプレーティング装置を提
案するものである。
〈課題を解決するだめの手段〉
本発明は長尺物の連続1′ライブレーテイング装置にお
いて、該長尺物を非接触状態で実質的に囲繞する冷却手
段を設けたことを特徴とする長尺物の連続ドライプレー
ティング装置である。
いて、該長尺物を非接触状態で実質的に囲繞する冷却手
段を設けたことを特徴とする長尺物の連続ドライプレー
ティング装置である。
〈作 用〉
図面に基づいて本発明を説明する。
第4図は従来の順次片面型連続プレーティング装置の概
略を示すものである。金属ストリップ等の長尺物1はペ
イオフリール10から、段階的に圧力が低くなっている
長尺物入側差圧室2a〜2dを経て、第1のプレーティ
ング手段、この場合るつぼ4の位置で片面に蒸着され、
ストリップの進行方向を変えるロール5,6で180°
の方向転換後、第2のプレーティング手段、即ちるつぼ
7の位置で他面にプレーティングされた後、長尺物出側
の差圧室8d〜8aを経て、大気中でテンションリール
11に巻取られる。差圧室はそれぞれシールロール群3
a〜3e、9e〜9aによって隣室への気体の流れが最
小限に制限されている。各差圧室およびプレーティング
室は真空ポンプ12〜16によって排気されている。長
尺物1は第1のるつぼ4に至るまでに所定のプレーティ
ング前温度に達するように図示されていない予備加熱装
置により予備加熱される。その方法は電子ビームによる
もの、赤外線によるもの等が一般的である。プレーティ
ング時に蒸気凝固の潜熱、蒸気粒子の運動エネルギーな
どにより温度がさらに上昇した長尺物1はデフレクタ−
ロール5に接触し冷却されるが、両者の温度差により長
尺物1に波状の変形が発生する。このためロール5に至
るまでに長尺物を効率的に冷却する必要がある。
略を示すものである。金属ストリップ等の長尺物1はペ
イオフリール10から、段階的に圧力が低くなっている
長尺物入側差圧室2a〜2dを経て、第1のプレーティ
ング手段、この場合るつぼ4の位置で片面に蒸着され、
ストリップの進行方向を変えるロール5,6で180°
の方向転換後、第2のプレーティング手段、即ちるつぼ
7の位置で他面にプレーティングされた後、長尺物出側
の差圧室8d〜8aを経て、大気中でテンションリール
11に巻取られる。差圧室はそれぞれシールロール群3
a〜3e、9e〜9aによって隣室への気体の流れが最
小限に制限されている。各差圧室およびプレーティング
室は真空ポンプ12〜16によって排気されている。長
尺物1は第1のるつぼ4に至るまでに所定のプレーティ
ング前温度に達するように図示されていない予備加熱装
置により予備加熱される。その方法は電子ビームによる
もの、赤外線によるもの等が一般的である。プレーティ
ング時に蒸気凝固の潜熱、蒸気粒子の運動エネルギーな
どにより温度がさらに上昇した長尺物1はデフレクタ−
ロール5に接触し冷却されるが、両者の温度差により長
尺物1に波状の変形が発生する。このためロール5に至
るまでに長尺物を効率的に冷却する必要がある。
本発明者等が着目した点は、第1のるっぽ4からロール
5までの空間、ロール5,6間の空間、ロール6から第
2のるっぽ7までの空間である。
5までの空間、ロール5,6間の空間、ロール6から第
2のるっぽ7までの空間である。
従来、これらの空間は単なる長尺物1の通過領域という
認識であったが、ここに冷却体を設けるという発想によ
り、良好な長尺物形状を達成することができたのである
。
認識であったが、ここに冷却体を設けるという発想によ
り、良好な長尺物形状を達成することができたのである
。
第1図は本発明の実施例の−っである。第1のるつぼ4
から第2のるっぽ7に至るまでの真空槽を仕切板20.
23にて分割し、接続室24が形成されている。その内
部に冷却手段21.22を配置する。
から第2のるっぽ7に至るまでの真空槽を仕切板20.
23にて分割し、接続室24が形成されている。その内
部に冷却手段21.22を配置する。
仕切板20.23は必ずしも必要としないが、るつぼ4
.7からの輻射熱による冷却効率の低下を防ぐ観点から
は設ける方が望ましい。第1のるっぽ4上で片面のプレ
ーティングが施され、温度が上昇した長尺物1は接続室
24内の冷却手段21を通過し、所定の温度まで降温し
た後ロール5.冷却手段22を経て、ロール6により方
向を変えられて他面のプレーティングが施される。冷却
手段22を通過後長尺物1を再度必要なプレーティング
前温度まで昇温させるには、ロール6をその温度まで加
熱できる構造のものとするが、もしくは予備加熱装置を
第2のるつぼ7の前に設置すればよい。
.7からの輻射熱による冷却効率の低下を防ぐ観点から
は設ける方が望ましい。第1のるっぽ4上で片面のプレ
ーティングが施され、温度が上昇した長尺物1は接続室
24内の冷却手段21を通過し、所定の温度まで降温し
た後ロール5.冷却手段22を経て、ロール6により方
向を変えられて他面のプレーティングが施される。冷却
手段22を通過後長尺物1を再度必要なプレーティング
前温度まで昇温させるには、ロール6をその温度まで加
熱できる構造のものとするが、もしくは予備加熱装置を
第2のるつぼ7の前に設置すればよい。
なおこの実施例では冷却手段として、21及び22の二
つを設けているが、いずれか一つでもよい。
つを設けているが、いずれか一つでもよい。
例えば冷却手段が22一つの場合には、デフレクタ−ロ
ール5において長尺物が熱歪みにより、変形する可能性
゛があるが、このような場合には予めロール5の温度を
高(することができる手段を設けておけばよい。
ール5において長尺物が熱歪みにより、変形する可能性
゛があるが、このような場合には予めロール5の温度を
高(することができる手段を設けておけばよい。
いずれにしても第2のプレーティング装置に到着した長
尺物はその温度がプレーティングに最適な温度に調整さ
れている。次に本発明の冷却手段を第2のプレーティン
グ手段と差圧室8dのシールロール9e間に設けること
により、全体の装置の長さを短くできる。
尺物はその温度がプレーティングに最適な温度に調整さ
れている。次に本発明の冷却手段を第2のプレーティン
グ手段と差圧室8dのシールロール9e間に設けること
により、全体の装置の長さを短くできる。
次に第2図は本発明の冷却手段の一例を示す詳細図であ
る。
る。
直方体17の二つの対面17bに長尺物1を入れるため
の開口部18が設けである。この直方体17の壁を冷却
することにより壁面を室温より低い温度に保つ。冷却は
壁を二重構造とし、内部に冷媒を通ずこと、又は壁面に
冷却用の配管を設けることにより可能である。第2図(
a)は平面図、(b)は見取図、(C)は長尺物進行方
向から見た図である。また長尺物が鋼帯等の場合には、
冷却手段は銅帯を挟んで上下に二重された板状体でもよ
い。
の開口部18が設けである。この直方体17の壁を冷却
することにより壁面を室温より低い温度に保つ。冷却は
壁を二重構造とし、内部に冷媒を通ずこと、又は壁面に
冷却用の配管を設けることにより可能である。第2図(
a)は平面図、(b)は見取図、(C)は長尺物進行方
向から見た図である。また長尺物が鋼帯等の場合には、
冷却手段は銅帯を挟んで上下に二重された板状体でもよ
い。
第3図は長尺物1の周囲に冷却管19を巻回する本発明
の冷却体の他の例である。第3図(a)は平面図、(b
)は側面図、(C)は長尺物1が入る方向から見た図で
ある。
の冷却体の他の例である。第3図(a)は平面図、(b
)は側面図、(C)は長尺物1が入る方向から見た図で
ある。
本発明の冷却手段はこのように長尺物を非接触状態で囲
繞しているので、長尺物に極端な熱歪みが生ぜず、長尺
物の異常な変形が避けられる。
繞しているので、長尺物に極端な熱歪みが生ぜず、長尺
物の異常な変形が避けられる。
本発明装置の他の効果として、片面ずつ順次プレーティ
ングする装置においては未プレーティング面の清浄度保
持が可能なことである。プレーティングに際してはプレ
ーティング前の予熱処理によって長尺物表面に付着ある
いは吸着している不純物を除去するのが一般的であるが
、片面のプレーティング後は他面のプレーティングを施
す位置まで、未プレーティング面を清浄状態のままで保
持する必要がある。真空度が極めて良い場合は問題はな
いが、通常の操業圧力ではある程度の残留ガス成分の吸
着による汚染は不可避であり、それが原因となり被膜の
密着性不良が生じやすい。本発明による冷却手段内に液
体窒素等の低温物質を導入することによって真空槽内の
残留ガスをトラップすることが可能となり、未プレーテ
ィング面の清浄度が大幅に向上し、プレーティング被膜
と基板との密着性が改善される。
ングする装置においては未プレーティング面の清浄度保
持が可能なことである。プレーティングに際してはプレ
ーティング前の予熱処理によって長尺物表面に付着ある
いは吸着している不純物を除去するのが一般的であるが
、片面のプレーティング後は他面のプレーティングを施
す位置まで、未プレーティング面を清浄状態のままで保
持する必要がある。真空度が極めて良い場合は問題はな
いが、通常の操業圧力ではある程度の残留ガス成分の吸
着による汚染は不可避であり、それが原因となり被膜の
密着性不良が生じやすい。本発明による冷却手段内に液
体窒素等の低温物質を導入することによって真空槽内の
残留ガスをトラップすることが可能となり、未プレーテ
ィング面の清浄度が大幅に向上し、プレーティング被膜
と基板との密着性が改善される。
長尺物の両面を同時にプレーティングする場合、および
片面のみプレーティングする場合も同様に本装置を利用
することができる。いずれもプレーティング後、最初に
ロール等に接触するまでの空間に本装置を設けることに
より、プレーティングされた良好な形状の長尺物を得る
ことができる。
片面のみプレーティングする場合も同様に本装置を利用
することができる。いずれもプレーティング後、最初に
ロール等に接触するまでの空間に本装置を設けることに
より、プレーティングされた良好な形状の長尺物を得る
ことができる。
次に一操業例を示す。
第1図に示す本発明装置を用いた連続真空蒸着装置にお
いて、厚み0.3mmの鋼板に片面1μの亜鉛を蒸着後
、金属ストリップは260°Cに昇温した。
いて、厚み0.3mmの鋼板に片面1μの亜鉛を蒸着後
、金属ストリップは260°Cに昇温した。
これを50°Cの温度に冷却するときに20〜30%の
時間短縮が達成された。また形状も変化なく被膜とスト
リップの密着性も良好であった。このように、本発明装
置により良好なプレーティング処理が可能である。
時間短縮が達成された。また形状も変化なく被膜とスト
リップの密着性も良好であった。このように、本発明装
置により良好なプレーティング処理が可能である。
〈発明の効果〉
上述のように本発明の装置により、長尺物に対し、形状
を良好に保持するドライプレーティングが可能となった
。また被膜の密着性も良好であり、操業の時間の短縮化
、或いは装置長の短縮化も可能である。
を良好に保持するドライプレーティングが可能となった
。また被膜の密着性も良好であり、操業の時間の短縮化
、或いは装置長の短縮化も可能である。
第1図は本発明の連続ドライプレーティング装置の一例
を示す図、第2図は直方体状の冷却手段を示す図、第3
図は管状の冷却手段を示す図、第4図は従来の連続ドラ
イプレーティング装置を示す図である。 1・・・長尺物、 2a〜2d・・・入側差圧室、 3a〜3e・・・シールロール、 4・・・るつぼ、 6・・・ロール、 8a〜8d・・・出側差圧室、 9a〜9e・・・シールロール、 10・・・ペイオフリール、 11・・・テンションリール、 12〜16・・・真空ポンプ、 17・・・冷却手段、 19・・・冷却管、 21・・・冷却手段、 23・・・仕切板、 5・・・ロール、 7・・・るつぼ、 18・・・開口部、 20・・・仕切板、 22・・・冷却手段、 24・・・接続室。
を示す図、第2図は直方体状の冷却手段を示す図、第3
図は管状の冷却手段を示す図、第4図は従来の連続ドラ
イプレーティング装置を示す図である。 1・・・長尺物、 2a〜2d・・・入側差圧室、 3a〜3e・・・シールロール、 4・・・るつぼ、 6・・・ロール、 8a〜8d・・・出側差圧室、 9a〜9e・・・シールロール、 10・・・ペイオフリール、 11・・・テンションリール、 12〜16・・・真空ポンプ、 17・・・冷却手段、 19・・・冷却管、 21・・・冷却手段、 23・・・仕切板、 5・・・ロール、 7・・・るつぼ、 18・・・開口部、 20・・・仕切板、 22・・・冷却手段、 24・・・接続室。
Claims (1)
- 長尺物の連続ドライプレーティング装置において、プレ
ーティング後の該長尺物を非接触状態で実質的に囲繞す
る冷却手段を設けたことを特徴とする長尺物の連続ドラ
イプレーティング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15927388A JPH0211767A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 長尺物の連続ドライプレーティング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15927388A JPH0211767A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 長尺物の連続ドライプレーティング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0211767A true JPH0211767A (ja) | 1990-01-16 |
Family
ID=15690179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15927388A Pending JPH0211767A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 長尺物の連続ドライプレーティング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0211767A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03219070A (ja) * | 1990-01-23 | 1991-09-26 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置および方法 |
| US5616362A (en) * | 1993-06-02 | 1997-04-01 | Andritz-Patentverwaltungs-Gesellschaft M.B.H. | Process and apparatus for the coating of metal |
| DE102015000545A1 (de) * | 2015-01-17 | 2016-07-21 | Siempelkamp Maschinen- Und Anlagenbau Gmbh | Anlage zum Herstellen von Fördergurten |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP15927388A patent/JPH0211767A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03219070A (ja) * | 1990-01-23 | 1991-09-26 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置および方法 |
| US5616362A (en) * | 1993-06-02 | 1997-04-01 | Andritz-Patentverwaltungs-Gesellschaft M.B.H. | Process and apparatus for the coating of metal |
| DE102015000545A1 (de) * | 2015-01-17 | 2016-07-21 | Siempelkamp Maschinen- Und Anlagenbau Gmbh | Anlage zum Herstellen von Fördergurten |
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