JPH03219445A - Production of optical information recording medium - Google Patents
Production of optical information recording mediumInfo
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 29
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 223
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 167
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 85
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 82
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 70
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 64
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 63
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 46
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 34
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 abstract description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 51
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- -1 etc. Substances 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 5
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000434 metal complex dye Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Natural products CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSUFEOXMCRPQBB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound CC(F)(F)C(O)(F)F CSUFEOXMCRPQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXOZSRCVHASUCW-UHFFFAOYSA-N 1,3,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OC(F)CC(F)(F)F TXOZSRCVHASUCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enylhepta-1,6-diene Chemical compound C=CCC(CC=C)CC=C XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001756 Polyvinyl chloride acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000005539 carbonized material Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000001013 indophenol dye Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical compound C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、光により情報の記録が可能な光情報記録媒体
の製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of the Invention] The present invention relates to a method for manufacturing an optical information recording medium on which information can be recorded using light.
[発明の技術的背景]
情報の記録が可能な光ディスクは基本構造として、ガラ
ス、合成樹脂などからなる円板状の基板と、この上に設
けられたBi、Sn、In、Te等の金属または半金属
;またはシアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素か
らなる記録層とを有する。なあ、記録層が設けられる側
の基板表面には通常、基板の平面性の改善、記録層との
接着力の向上あるいは光ディスクの感度の向上などの点
から、高分子物質からなる下塗層が設けられることが多
い。[Technical Background of the Invention] The basic structure of an optical disc on which information can be recorded is a disk-shaped substrate made of glass, synthetic resin, etc., and a metal such as Bi, Sn, In, Te, etc. It has a recording layer made of a semimetal; or a cyanine-based, metal complex-based, or quinone-based dye. Incidentally, the surface of the substrate on which the recording layer is provided usually has an undercoat layer made of a polymeric substance in order to improve the flatness of the substrate, the adhesion to the recording layer, and the sensitivity of the optical disc. Often provided.
そして、光ディスクへの情報の書き込み場よび読み取り
は通常下記の方法により行なわれる。Writing and reading information to and from an optical disc is usually performed by the following method.
情報の書き込みはレーザビームをこの光ディスクに照射
することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な
変化(たとえば、ピットの生成)が生じてその光学的特
性を変えることにより情報が記録される。情報の読み取
りもまた、レーザビームを光ディスクに照射することに
より行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射
光または透過光を検出することにより情報が再生される
。Information is written by irradiating this optical disc with a laser beam, and the irradiated portion of the recording layer absorbs the light, causing a local temperature rise, causing physical or chemical changes (for example, the formation of pits). information is recorded by changing its optical properties. Information is also read by irradiating the optical disk with a laser beam, and the information is reproduced by detecting reflected or transmitted light depending on changes in the optical characteristics of the recording layer.
上記のように、このような光ディスクの製造方法には、
記録層、下塗層、保護層などの層を円板状基板の表面に
設ける工程が含まれる。このような各層を形成させる方
法として最も一般的に採用されている方法の一つとして
スピンコード法がある。スピンコード法は、添付する第
1−A図に示すように、基板11を水平にしてスピンナ
ーのスピンドル6に取り付け、スピンナーを200〜5
000 r、p、m、の回転数で回転させながら、上記
各層となる膜を形成させるための液状の材料を液状材料
供給管7から基板の上に滴下、噴霧などにより供給し、
基板の回転による遠心力により液状材料を飛散させ基板
表面に成膜する方法である。As mentioned above, the manufacturing method for such optical discs includes:
It includes a step of providing layers such as a recording layer, an undercoat layer, and a protective layer on the surface of the disc-shaped substrate. One of the most commonly used methods for forming each layer is a spin code method. In the spin code method, as shown in the attached Figure 1-A, the substrate 11 is held horizontally and attached to the spindle 6 of the spinner, and the spinner is
While rotating at a rotational speed of 000 r, p, m, a liquid material for forming a film to be each layer is supplied from the liquid material supply pipe 7 onto the substrate by dropping, spraying, etc.
This method uses centrifugal force due to the rotation of the substrate to scatter liquid material and form a film on the substrate surface.
このような方法により塗布形成された記録層等の材料は
、基板の塗布面側の表面だけでなく塗布されないはずの
非塗布面である基板の裏側の表面や外周側側壁にも付着
している。すなわち、基板の回転による遠心力により飛
散した液状材料の一部は、基板外周縁より基板の裏側へ
廻り込んで、基板の非塗布面表面等に付着する。このよ
うな基板の裏側等に付着した物質は、情報の記録再生に
支障を来す、あるいは得られる光ディスクの外観が不良
でとなることからこれらを除去する必要がある。このた
め、従来は全層を形成した後、あるいは途中の工程と工
程との間に、基板を裏返して該基板の非塗布面の表面の
洗浄が行なわれていた。The recording layer and other materials coated by this method adhere not only to the coated surface of the substrate, but also to the back surface of the substrate, which is the non-coated surface that should not be coated, and to the outer peripheral side wall. . That is, a part of the liquid material scattered by the centrifugal force caused by the rotation of the substrate flows around from the outer periphery of the substrate to the back side of the substrate and adheres to the non-coated surface of the substrate. Such substances adhering to the back side of the substrate, etc., must be removed because they may interfere with the recording and reproducing of information, or the resulting optical disc may have a poor appearance. For this reason, conventionally, after forming all the layers or between intermediate steps, the substrate was turned over and the non-coated surface of the substrate was cleaned.
しかしながら、各層の形成工程以外にさらに洗浄を行な
う工程を追加する必要があり、製造工程が多くなるため
工程の短縮が望まれている。However, it is necessary to add a cleaning process in addition to the process of forming each layer, which increases the number of manufacturing steps, so it is desired to shorten the process.
一方、上記塗布液の裏回りを防止する塗布方法として、
スピンナーによる塗布方法を用いて、被塗物に上方から
塗布液を噴霧した際に被塗物の周辺に流れる塗布液を吸
引しながら且つ回転中の被塗物の裏面に水を噴霧して裏
回りを防止しながら、上記上方よりの塗布を行なうって
膜を形成する技術が、実開昭58−81932号公報に
開示されている。このような方法を用いて記録層材料で
ある色素の塗布液等を塗布した場合、裏面から噴霧され
る液体が水のため基板に付着した色素を洗浄することが
できない、さらに噴霧される水の飛沫が色素塗布層に付
着し塗膜の欠陥が発生するとの問題がある。On the other hand, as a coating method to prevent the coating solution from turning over,
Using a coating method using a spinner, when the coating liquid is sprayed onto the object from above, the coating liquid that flows around the object is sucked and water is sprayed onto the back side of the rotating object. A technique for forming a film by coating from above while preventing the coating from rotating is disclosed in Japanese Utility Model Application Publication No. 58-81932. When a dye coating liquid, which is a recording layer material, is applied using such a method, the liquid sprayed from the back side is water, so the dye attached to the substrate cannot be washed away. There is a problem in that the droplets adhere to the pigment coating layer and cause defects in the coating film.
[発明の目的]
本発明は、記録層等のスピンコード法の塗布により発生
する光情報記録媒体の基板の有機物の汚れを洗浄する工
程を増加させることなく、簡単な方法で従来方法と同程
度以上に光情報記録媒体の基板を洗浄することができる
、光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とす
る。[Objective of the Invention] The present invention is a simple method that can remove organic stains on the substrate of an optical information recording medium generated by spin-coating the recording layer, etc., to the same extent as the conventional method. As described above, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical information recording medium that can clean the substrate of the optical information recording medium.
[発明の要旨]
本発明は、円板状基板を回転させながら、記録層形成用
塗布液を該基板の上方から該基板表面に供給して塗布す
ることにより記録層を形成する工程、
該記録層上に金属からなる反射層を蒸着により形成する
工程、および
該基板の回転下に、該反射層上に保護層形成用塗布液を
該基板の上方から供給して塗布しながら、同時に該記録
層が設けられていない側の該基板裏側の表面に、少なく
とも該記録層の材料および該保護層の材料を処理温度で
溶解することができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃
至膨潤させない揮発性の有機溶媒を含む液体を該基板の
下方から供給することにより保護層を形成する工程を含
む光情報記録媒体の製造方法(A)にある。[Summary of the Invention] The present invention provides a step of forming a recording layer by supplying and coating a recording layer forming coating liquid onto the surface of the substrate from above the substrate while rotating the disk-shaped substrate; A step of forming a reflective layer made of metal on the layer by vapor deposition, and while the substrate is being rotated, a coating liquid for forming a protective layer is supplied from above the substrate to be coated on the reflective layer, and at the same time, the recording is performed. A volatile material that can dissolve at least the material of the recording layer and the material of the protective layer at the processing temperature and does not cause the substrate material to dissolve or swell at the processing temperature is added to the surface of the back side of the substrate on the side where no layer is provided. The method (A) for manufacturing an optical information recording medium includes the step of forming a protective layer by supplying a liquid containing an organic solvent from below the substrate.
また、本発明は、円板状基板を回転させながら、下塗層
形成用塗布液を該基板の上方から該基板表面に供給して
塗布することにより下塗層を形成する工程、
該下塗層上に金属からなる記録層を蒸着により形成する
工程、および
該基板の回転下に、該記録層上に保護層形成用塗布液を
該基板の上方から供給して塗布しながら、同時に該記録
層が設けられていない側の該基板裏側の表面に、少なく
とも該下塗層の材料上よび該保護層の材料を処理温度で
溶解することができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃
至膨潤させない揮発性の有機溶媒を含む液体を該基板の
下方から供給することにより保護層を形成する工程を含
む光情報記録媒体の製造方法(B)にもある。The present invention also provides a step of forming an undercoat layer by supplying and applying a coating solution for forming an undercoat layer onto the surface of the substrate from above the substrate while rotating the disc-shaped substrate; A step of forming a recording layer made of metal on the layer by vapor deposition, and while the substrate is being rotated, a coating liquid for forming a protective layer is supplied and applied from above the substrate onto the recording layer, and at the same time, the recording layer is coated on the recording layer. On the surface of the back side of the substrate on the side where no layer is provided, at least the material of the undercoat layer and the material of the protective layer can be dissolved at the processing temperature, and the substrate material does not dissolve or swell at the processing temperature. There is also a method (B) for manufacturing an optical information recording medium that includes a step of forming a protective layer by supplying a liquid containing a volatile organic solvent from below the substrate.
上記本発明の光情報記録媒体の製造方法の好ましい態様
は以下のとおりである。Preferred embodiments of the method for manufacturing the optical information recording medium of the present invention are as follows.
1)該有機溶媒が、50〜150℃の沸点を有する液体
であることを特徴とする上記光情報記録媒体の製造方法
。1) The above-mentioned method for producing an optical information recording medium, wherein the organic solvent is a liquid having a boiling point of 50 to 150°C.
2)該有機溶媒を含む溶液が揮発性の有機溶媒のみから
なり、そして該有機溶媒の供給が、その基板上での供給
位置を基板の半径の1/2の半径の円より外周側の範囲
内にて行なわれることを特徴とする上記光情報記録媒体
の製造方法。2) The solution containing the organic solvent consists only of a volatile organic solvent, and the organic solvent is supplied at a position on the substrate in a range on the outer circumferential side of a circle with a radius of 1/2 of the radius of the substrate. The method for manufacturing an optical information recording medium as described above, characterized in that the method is carried out within a company.
3)該有機溶媒を含む液体が機能層形成材料を含み、そ
して該溶液の供給が、その基板上での供給位置を基板の
回転中心近傍にて行なわれることすることを特徴とする
上記光情報記録媒体の製造方法。3) The optical information as described above, wherein the liquid containing the organic solvent contains a functional layer forming material, and the solution is supplied at a position on the substrate near the rotation center of the substrate. A method for manufacturing a recording medium.
4)上記機能層形成材料が、保護層形成用材料、反射防
止層形成材料または帯電防止層形成材料であることを特
徴とする上記4)の光情報記録媒体の製造方法。4) The method for producing an optical information recording medium according to 4) above, wherein the functional layer forming material is a protective layer forming material, an antireflection layer forming material, or an antistatic layer forming material.
5)該記録層形成用塗布液の記録層材料が、レーザーの
照射により記録可能な色素であることを特徴とする上記
光情報記録媒体の製造方法(A)。5) The above method (A) for producing an optical information recording medium, wherein the recording layer material of the coating liquid for forming a recording layer is a dye that can be recorded by laser irradiation.
尚、上記蒸着は、真空蒸着、スッパタリングまたはイオ
ンブレーティングを意味する。Note that the above vapor deposition means vacuum vapor deposition, sputtering, or ion blating.
また、上記記録層、下塗層または保護層の形成材料を溶
解するとは、25℃にて使用する有機溶媒100重量部
に対して上記いずれかの材料が0.01重量部以上が溶
解することを意味する。Furthermore, dissolving the materials forming the recording layer, undercoat layer, or protective layer means that 0.01 part by weight or more of any of the above materials is dissolved in 100 parts by weight of the organic solvent used at 25°C. means.
さらに、基板の形成材料を溶解しないとは、25℃にて
使用する有機溶媒100重量部に対して基板材料が0.
01重量部未満しか溶解しないことを意味する。上記基
板が膨潤しないとは、25℃にて100重量部の基板材
料が使用する有機溶媒を0.1重量部未満しか吸収しな
いことを意味する。Furthermore, not dissolving the material forming the substrate means that the substrate material is 0.0% per 100 parts by weight of the organic solvent used at 25°C.
This means that less than 0.01 parts by weight is dissolved. By non-swelling of the substrate is meant that at 25° C., 100 parts by weight of the substrate material absorbs less than 0.1 part by weight of the organic solvent used.
[発明の詳細な記述〕
本発明の製造方法により得られる光情報記録媒体は、基
板上に塗布型記録層、反射層および塗布型保護層が、あ
るいは基板上に、塗布型下塗層、金属記録層、および塗
布型保護層がこの順で積層された基本構成を有している
。そして、該基板の記録層等が設けられていない裏側表
面および外側側壁が、極めて清浄で、記録層材料などの
有機物の付着がないことを特徴としている。[Detailed Description of the Invention] The optical information recording medium obtained by the manufacturing method of the present invention has a coated recording layer, a reflective layer and a coated protective layer on a substrate, or a coated undercoat layer, a metal coated layer on a substrate, etc. It has a basic configuration in which a recording layer and a coated protective layer are laminated in this order. The back surface and outer side wall of the substrate, on which the recording layer and the like are not provided, are extremely clean and are characterized by the fact that there is no adhesion of organic matter such as recording layer material.
上記基板の材料は、各種の材料から任意に選択すること
ができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱い
性、経時安定性および製造コストなどの点から、基板材
料の例としては、ガラス;ポリメチルメタクリレート等
のアクリル樹脂:ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体
等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;ポリカーボネー
ト樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステ
ルを挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィンおよびポリメチルメタクリレートを
挙げることができる。The material of the substrate can be arbitrarily selected from various materials. In terms of substrate optical properties, flatness, workability, handling, stability over time, and manufacturing costs, examples of substrate materials include glass; acrylic resins such as polymethyl methacrylate; and polyvinyl chloride and vinyl chloride. Examples include vinyl chloride resins such as polymers; epoxy resins; polycarbonate resins, amorphous polyolefins, and polyesters. Preferably, mention may be made of polycarbonate, polyolefin and polymethyl methacrylate.
基板上には、トラッキング用溝またはアドレス信号等の
情報を表わす微小凹凸が形成された、プレピット層及び
/又はプレグルーブ層が設けられている。プレピット層
及び/又はプレグルーブ層の材料としては、アクリル酸
のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテト
ラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー(または
オリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いることが
できる。A pre-pit layer and/or a pre-groove layer are provided on the substrate, in which tracking grooves or fine irregularities representing information such as address signals are formed. As the material for the pre-pit layer and/or the pre-groove layer, a mixture of at least one monomer (or oligomer) of acrylic acid monoester, diester, triester, and tetraester and a photopolymerization initiator can be used. .
プレピット層及び/又はプレグルーブ層の形成は、まず
精密に作られた母型(スタンバ−)上に上記のアクリル
酸エステルおよび重合開始剤からなる混合液を塗布し、
さらにこの塗布液層上に基板を載せたのち、基板または
母型を介して紫外線の照射により液層を硬化させて基板
と液相とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離す
ることによりプレピット層及び/又はプレグルーブ層の
設けられた基板が得られる。プレピット層及び/又はプ
レグルーブ層の層厚は一般に0.05〜100μmの範
囲にあり、好ましくは0.1〜50μmの範囲である。To form a pre-pit layer and/or a pre-groove layer, first, a mixed solution consisting of the above acrylic ester and a polymerization initiator is applied onto a precisely made matrix (stambar),
Furthermore, after placing a substrate on this coating liquid layer, the liquid layer is cured by irradiation with ultraviolet rays through the substrate or the matrix, thereby fixing the substrate and the liquid phase. Next, by peeling the substrate from the mother mold, a substrate provided with a pre-pit layer and/or a pre-groove layer is obtained. The thickness of the pre-pit layer and/or pre-groove layer is generally in the range of 0.05 to 100 μm, preferably in the range of 0.1 to 50 μm.
基板材料がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押
出成形などにより直接基板にプレピット及び/又はプレ
グルーブを設けてもよい。When the substrate material is plastic, pre-pits and/or pre-grooves may be provided directly on the substrate by injection molding, extrusion molding, or the like.
上記のような基板表面に形成される膜としては、レーザ
光により情報の書き込みが可能な色素を含有する記録層
、記録性能の改善、再生信号品質の改善、平面性の改善
、接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の
変質の防止の目的で、基板と記録層との間に設けられる
下塗層、記録層の上に設けられる保護層などを挙げるこ
とができる。そして、本発明の製造方法により得られる
光情報記録媒体の基板の上記記録層等が設けられていな
い裏側表面および外周側側面は、上記塗布により形成さ
れる記録層材料、下塗層材料、保護層材料等が付着して
いない。The film formed on the substrate surface as described above includes a recording layer containing a dye that allows information to be written with laser light, improving recording performance, improving playback signal quality, improving flatness, and improving adhesive strength. For the purpose of improving the solvent resistance of the substrate and preventing deterioration of the recording layer, examples thereof include an undercoat layer provided between the substrate and the recording layer, and a protective layer provided on the recording layer. The back surface and the outer peripheral side surface of the substrate of the optical information recording medium obtained by the manufacturing method of the present invention, on which the recording layer etc. are not provided, are covered with the recording layer material formed by the above coating, the undercoat layer material, the protective layer material, etc. Layer material etc. are not attached.
下塗層の膜形成材料としてはたとえば、ポリメチルメタ
クリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチ
レン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール
、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・スルホン
酸共重合体、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロ
ルスルホン化1
2
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質;シランカップリング剤などの有機
物質;および無機酸化物(S i O2、Afi203
等)、無機7 y化物(MgF2)などの無機物質を、
適当な溶剤に溶解または分散して調製した塗布液を挙げ
ることができる。下塗層の膜厚は一般に0.005〜2
0μmの範囲、好ましくは0.01〜10μmの範囲で
ある。Examples of film-forming materials for the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid/methacrylic acid copolymer, styrene/maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylolacrylamide, styrene/sulfonic acid copolymer, and styrene.・Vinyl toluene copolymer, chlorosulfonated 1 2 polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate/vinyl chloride copolymer, ethylene/vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, Polymer substances such as polycarbonate; organic substances such as silane coupling agents; and inorganic oxides (S i O2, Afi203
etc.), inorganic substances such as inorganic 7y-ride (MgF2),
Examples include coating liquids prepared by dissolving or dispersing them in a suitable solvent. The thickness of the undercoat layer is generally 0.005 to 2
It is in the range of 0 μm, preferably in the range of 0.01 to 10 μm.
記録層の膜形成材料としては、前記のような色素を、さ
らに所望により結合剤と共に、溶剤に溶解して調整した
塗布液を挙げることができる。色素以外にも光により相
変化可能な高分子材料、あるいは光によりビット等の形
成が可能な金属(分散液として使用)を挙げることがで
きる。上記色素は特に限定されるものではなく、光ディ
スクの製造に使用されるものであればどのようなもので
も良い。例えば、シアニン系色素、フタロシアニン系色
素、ビリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウ
ム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなとの金
属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素
、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、ト
リフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、ア
ルミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化
合物を挙げることができる。好ましくは、シアニン系色
素、アズレニウム系色素およびスクワリリウム系色素を
挙げることができる。As the film-forming material for the recording layer, there may be mentioned a coating liquid prepared by dissolving the above-mentioned dyes in a solvent together with a binder if desired. In addition to dyes, examples include polymeric materials whose phase can be changed by light, and metals (used as a dispersion liquid) which can form bits and the like by light. The above-mentioned dye is not particularly limited, and any dye may be used as long as it is used in manufacturing optical discs. For example, cyanine dyes, phthalocyanine dyes, biryllium/thiopyrylium dyes, azulenium dyes, squarylium dyes, metal complex dyes with Ni, Cr, etc., naphthoquinone/anthraquinone dyes, indophenol dyes, and indoaniline. Examples include triphenylmethane dyes, triallylmethane dyes, aluminum/diimmonium dyes, and nitroso compounds. Preferable examples include cyanine dyes, azulenium dyes, and squarylium dyes.
これらのうちでも記録再生用レーザとして近赤外光を発
振する半導体レーザの利用が実用化されている点から、
700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収率が
高い色素が好ましい。Among these, semiconductor lasers that emit near-infrared light have been put into practical use as recording and reproducing lasers.
A dye having a high absorption rate for light in the near-infrared region of 700 to 900 nm is preferable.
なお、これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合
物として用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる
場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジイ
ンモニウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いるこ
とが好ましい。その場合、クエンチャ−として金属錯塩
系色素などを全色素1モル部に対して0.001〜0.
1モル部含むことが好ましい。Note that these dyes may be used alone or as a mixture of two or more. Further, when a cyanine dye is used, it is preferable to use the metal complex dye or the aminium/diimmonium dye as a quencher. In that case, a metal complex dye or the like is used as a quencher in an amount of 0.001 to 0.00% per mole part of the total dye.
It is preferable to contain 1 mole part.
上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、n−プロパツール、イソプロパ
ツール、n−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、2.2.3.3、テトラフロ
ロプロパツール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、50容量
%以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。Examples of the solvent for preparing the dye coating solution include esters such as ethyl acetate, butyl acetate, and cellosolve acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and methyl isobutyl ketone, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and chloroform; Ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether, dioxane, alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, and n-butanol, amides such as dimethylformamide, fluorocarbon solvents such as 2.2.3.3, tetrafluoropropanol, etc. etc. can be mentioned. Note that these non-hydrocarbon organic solvents may contain hydrocarbon solvents such as aliphatic hydrocarbon solvents, alicyclic hydrocarbon solvents, and aromatic hydrocarbon solvents, as long as the amount is within 50% by volume. .
塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。The coating solution also contains antioxidants, UV absorbers, plasticizers,
Various additives such as lubricants may be added depending on the purpose.
結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。When a binder is used, examples of the binder include cellulose derivatives such as gelatin, nitrocellulose, and cellulose acetate; natural organic polymeric substances such as dextran, rosin, and rubber; and carbonized materials such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyisobutylene. Hydrogen resins, vinyl resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride/polyvinyl acetate copolymers, acrylic resins such as polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate,
Examples include synthetic organic polymeric substances such as polyvinyl alcohol, chlorinated polyolefins, epoxy resins, butyral resins, rubber derivatives, and initial condensates of thermosetting resins such as phenol/formaldehyde resins.
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1.0〜95%(重量比)の
範囲にある。When a binder is used as a material for the recording layer, the ratio of dye to binder is generally 0.01 to 99% (weight ratio).
It is preferably in the range of 1.0 to 95% (weight ratio).
5
6
上記基板上に、スピンコード法により塗布して下塗層を
設けた場合は、記録層を塗布により設けた場合と同様に
基板の裏面等に下塗層の塗布液が付着するため、記録層
として金属の蒸着層を設けた後もこの付着物は残る。従
って、このような場合でも、本発明の保護層の塗布と同
時に洗浄を行なう工程は極めて有用である。5 6 When an undercoat layer is provided on the above substrate by coating using a spin code method, the coating liquid for the undercoat layer will adhere to the back surface of the substrate, etc., as in the case where a recording layer is provided by coating. This deposit remains even after a metal vapor deposition layer is provided as a recording layer. Therefore, even in such cases, the process of cleaning at the same time as applying the protective layer of the present invention is extremely useful.
蒸着により形成される記録層の材料としては、Te%S
e、In、Pb%Bi等の低融点金属化合物;Ag%A
u、Al1、TIL、Cu、Ga1Sb、Sn、Ti%
Fe、 co、Ni、Mn。The material of the recording layer formed by vapor deposition is Te%S.
Low melting point metal compounds such as e, In, Pb%Bi; Ag%A
u, Al1, TIL, Cu, Ga1Sb, Sn, Ti%
Fe, co, Ni, Mn.
Nb、Pd、Zn等の表面張力の高い金属;を挙げるこ
とができる。この他に、金属硫化物、金属弗化物、金属
酸化物等の金属化合物が含有されていても良い。Examples include metals with high surface tension such as Nb, Pd, and Zn. In addition, metal compounds such as metal sulfides, metal fluorides, and metal oxides may be contained.
上記金属記録層は、たとえば上記金属等を蒸着、スパッ
タリングまたはイオンブレーティングすることにより下
塗層の上に形成することができる。その層厚は一般には
300〜2000λの範囲にあることが好ましい。The metal recording layer can be formed on the undercoat layer by, for example, vapor deposition, sputtering, or ion-blating the metal. The layer thickness is generally preferably in the range of 300 to 2000λ.
また、本発明の製造方法では、塗布により設けられた記
録層の上には、保護層形成時の基板裏側を洗浄する際、
記録層が飛散する洗浄液による塗膜欠陥を生じないよう
に、反射層を設けられる。In addition, in the manufacturing method of the present invention, on the recording layer provided by coating, when cleaning the back side of the substrate at the time of forming the protective layer,
A reflective layer is provided to prevent the recording layer from causing coating defects due to scattering cleaning fluid.
前記金属記録層もこの反射層と同じ役目を果たしている
。反射層を設けることにより、反射率の向上の効果、情
報に再生時におけるS/Nの向上場よび記録時における
感度の向上の効果も得ることができる。The metal recording layer also plays the same role as this reflective layer. By providing a reflective layer, it is possible to obtain the effect of improving reflectance, improving S/N during information reproduction, and improving sensitivity during recording.
反射層の材料としては、Au、AIl、、1塁、Cu%
I n、Sb、Te%Ge、Se、Bi。Materials for the reflective layer include Au, Al, 1st base, and Cu%.
In, Sb, Te% Ge, Se, Bi.
Sn、Ti、Fe、Co、Ni、Mo、Ta。Sn, Ti, Fe, Co, Ni, Mo, Ta.
pt等の金属、半金属及びこれらの合金を挙げることが
できる。Examples include metals such as PT, semimetals, and alloys thereof.
反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。The reflective layer can be formed on the recording layer by, for example, vapor deposition, sputtering, or ion-blating the above-mentioned light-reflective material.
反射層の層厚は一般には100〜3000Xの範囲にあ
ることが好ましい。The thickness of the reflective layer is generally preferably in the range of 100 to 3000X.
金属記録層上または反射層上には、塗布により保護層が
設けられる。A protective layer is provided on the metal recording layer or the reflective layer by coating.
保護層の膜形成材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を適当な溶剤に溶解
して調整した塗布液を挙げることができる。特にUV硬
化性樹脂を含むものが好ましく、UV硬化性樹脂の場合
には、そのままであってもよい。UV硬化性樹脂として
は、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)
アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート等の
(メタ)アクリレートのオリゴマー類、(メタ)アクリ
ル酸エステル等のモノマー類等さらに光重合開始剤等の
通常のUV硬化性樹脂を使用することができる。これら
の塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸
収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。Examples of the film-forming material for the protective layer include coating liquids prepared by dissolving organic substances such as thermoplastic resins, thermosetting resins, and UV curable resins in appropriate solvents. Particularly preferred is one containing a UV curable resin, and in the case of a UV curable resin, it may be used as is. As UV curable resins, urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)
Oligomers of (meth)acrylate such as acrylate and polyester (meth)acrylate, monomers such as (meth)acrylic acid ester, etc. Furthermore, ordinary UV curable resins such as photopolymerization initiators can be used. Various additives such as antistatic agents, antioxidants, and UV absorbers may be further added to these coating liquids depending on the purpose.
保護層の膜厚は一般には0.1〜100μmの範囲にあ
る。The thickness of the protective layer is generally in the range of 0.1 to 100 μm.
上記保護層または反射防止層を、塗布により上記記録層
が設けられていない裏側表面に塗布しても良い。The protective layer or antireflection layer may be applied by coating to the back surface on which the recording layer is not provided.
上記保護層上に、さらに、SiO,5j02、SiN4
、MgF2.SnO2等の無機物質カラなる保護層を設
けてもよい。Further, on the protective layer, SiO, 5j02, SiN4
, MgF2. A protective layer made of an inorganic material such as SnO2 may be provided.
次に本発明の光情報記録媒体の製造方法を、添付する図
面を参照して詳細に説明する。Next, a method for manufacturing an optical information recording medium according to the present invention will be explained in detail with reference to the accompanying drawings.
本発明では、円板状基板を回転させながら該基板表面に
、下塗層形成用塗布液または色素等の記録層形成用塗布
液を該基板の上方がら供給することにより塗布を行なう
。次いで、このような塗布により形成された層上に、金
属の蒸着層(下塗層上には金属記録層、また色素等の記
録層上には反射層)を形成して、上記塗布による層を保
護する。そして、上記保護層形成時に、同時に基板の裏
面に有機溶媒を含む液体を該基板の下方から供給して、
上記下塗層形成用塗布液または記録層形成用塗布液を塗
布した際に裏回り等により付着した塗布形成材料を洗浄
する。なお、上記色素記録層の下側に上記下塗層が設け
られていても勿論良い。In the present invention, coating is carried out by supplying a coating liquid for forming an undercoat layer or a coating liquid for forming a recording layer such as a dye onto the surface of the disk-shaped substrate from above the substrate while rotating the substrate. Next, on the layer formed by such coating, a metal vapor deposition layer (a metal recording layer on the undercoat layer and a reflective layer on the recording layer of dye, etc.) is formed, and the layer formed by the above coating is formed. protect At the time of forming the protective layer, a liquid containing an organic solvent is simultaneously supplied to the back surface of the substrate from below the substrate,
When the coating liquid for forming an undercoat layer or the coating liquid for forming a recording layer is applied, the coating forming material that has adhered to the back side or the like is cleaned. Note that, of course, the undercoat layer may be provided below the dye recording layer.
上記基板を高速回転させて各種塗布液あるいは 9
0
有機溶媒を供給するための装置としては任意の装置を利
用することができるが、一般に薄膜塗布に用いられるス
ピンコード法を便利に使用できる。Although any device can be used to rotate the substrate at high speed and supply various coating liquids or 90 organic solvents, a spin cord method generally used for thin film coating can be conveniently used.
基板上方から記録層用塗布液または保護層用塗布液を塗
布しながら、下方から有機溶媒を供給する際は、例えば
第1−A図のように、一般のスピンコード装置にさらに
下方側の吐出口を設ければ良い。When applying an organic solvent from below while coating a recording layer coating liquid or a protective layer coating liquid from above the substrate, for example, as shown in Fig. It's good to have an exit.
第1−A図、第1−B図、第1−0図、第1−0図およ
び第1−E図は、本発明の製造方法の一態様を説明する
為の各工程の状態を示す断面図である。Figure 1-A, Figure 1-B, Figure 1-0, Figure 1-0, and Figure 1-E show the state of each step for explaining one embodiment of the manufacturing method of the present invention. FIG.
第1−A図には、基板11をスピンナーのスピンドル6
に挿入し、その挿入された基板を回転させながら基板上
方の液状材料供給管7より記録層形成用色素塗布液が噴
霧されている状態が示されている。第1−A図の塗布方
法は従来から行なわれているスピンコード法と同じ方法
である。In FIG. 1-A, the substrate 11 is placed on the spindle 6 of the spinner.
The recording layer forming dye coating liquid is sprayed from the liquid material supply pipe 7 above the substrate while rotating the inserted substrate. The coating method shown in FIG. 1-A is the same as the conventional spin code method.
第1−B図には、第1−A図で示したように、中央に孔
部13を有する基板11の表面に、記録層形成用色素塗
布液をスピンコード法にて塗布することにより色素から
なる記録層12が形成された状態が示されている。また
、色素塗布液をスピンコード法により塗布した際、裏回
りして基板に付着した色素塗布液中の色素やポリマーな
との色素層形成材料12aが示されている。In FIG. 1-B, as shown in FIG. 1-A, a dye coating liquid for forming a recording layer is applied onto the surface of a substrate 11 having a hole 13 in the center by a spin code method. The state in which the recording layer 12 consisting of the following is formed is shown. Also shown is a dye layer forming material 12a such as a dye or a polymer in the dye coating liquid that turned around and adhered to the substrate when the dye coating liquid was applied by the spin code method.
第1−0図には、中央に孔部13を有する基板11の表
面に設けられた記録層12の上に、金属からなる反射層
14が常法により形成された状態が示されている。反射
層は、金属をスパッタリング等を行なうことにより形成
されるが、内周縁部及び外周縁部の近傍は一般にマスク
されてスパッリングが行なわれるため、そこに金属が付
着することはない。FIG. 1-0 shows a state in which a reflective layer 14 made of metal is formed by a conventional method on a recording layer 12 provided on the surface of a substrate 11 having a hole 13 in the center. The reflective layer is formed by sputtering or the like with metal, but since the areas near the inner and outer edges are generally masked and sputtered, metal will not adhere there.
第1−D図には、上記記録層12および反射層14が形
成された基板11をスピンナーのスピンドル16に挿入
し、その挿入された基板を回転させながら基板上方の液
状材料供給管17より保護層形成用塗布液が噴霧され、
下方の液状材料供給管18より有機溶媒が噴霧されてい
る状態が示されている。In FIG. 1-D, the substrate 11 on which the recording layer 12 and the reflective layer 14 are formed is inserted into the spindle 16 of a spinner, and while the inserted substrate is rotated, it is protected from the liquid material supply pipe 17 above the substrate. Coating liquid for layer formation is sprayed,
A state in which an organic solvent is being sprayed from the lower liquid material supply pipe 18 is shown.
基板11の反射層14の上に保護層形成用塗布液を塗布
し成膜するには、まず、スピンナーにより基板11を前
記のように回転させながら、基板−上方の液状材料供給
管17から保護層形成用塗布液を噴霧することによって
反射層14上に供給する。反射層14上に供給された保
護層形成用塗布液は、基板11の回転による遠心力と重
力とによって反射層14上の全体に広がり、均一な厚さ
の塗布膜が形成される。基板上方の液状材料供給管17
から保護層形成用塗布液を噴霧する際、同時に基板下方
の液状材料供給管18から反射層14が設けられていな
い基板裏面に有機溶媒を噴霧する。基板裏面に供給され
た有機溶媒は、基板11の回転による遠心力によりて基
板裏面の外周側および外周側側壁に広がり、記録層形成
時に裏回りにより付着した色素及び基板裏側に裏回りし
てくる保護層形成用塗布液を全て洗浄除去することがで
きる。有機溶媒は、該記録層材料および該保護層の材料
を処理温度で溶解することができ且つ該基板材料を処理
温度で溶解乃至膨潤させない性質を有する揮発性の有機
溶媒である必要がある。保護層の塗布液は、例えばUV
硬化型樹脂では比較的高粘度の場合が多く、裏回りが発
生し難いので、洗浄用の有機溶媒は保護層の形成材料に
対してそわほど大きい溶解力がなくても良い。また有機
溶媒が噴霧される液状材料供給管18の基板上の位置は
、特に限定されるものではないが、図のように基板の半
径の1/2の半径の円より外周側に設置されていると、
特に外周部分は効率良く洗浄されるので好ましい。In order to apply the coating liquid for forming a protective layer on the reflective layer 14 of the substrate 11 to form a film, first, while rotating the substrate 11 as described above with a spinner, the protective layer is removed from the liquid material supply pipe 17 above the substrate. The coating liquid for layer formation is supplied onto the reflective layer 14 by spraying. The coating liquid for forming a protective layer supplied onto the reflective layer 14 is spread over the entire surface of the reflective layer 14 by the centrifugal force and gravity caused by the rotation of the substrate 11, and a coating film having a uniform thickness is formed. Liquid material supply pipe 17 above the substrate
When spraying the coating liquid for forming a protective layer from the substrate, at the same time, an organic solvent is sprayed from the liquid material supply pipe 18 below the substrate onto the back surface of the substrate where the reflective layer 14 is not provided. The organic solvent supplied to the back side of the substrate spreads to the outer circumferential side and the outer circumferential side wall of the back side of the substrate due to the centrifugal force caused by the rotation of the substrate 11, and is transferred to the back side of the substrate and the dye attached by the back side during the formation of the recording layer. All of the coating liquid for forming the protective layer can be removed by washing. The organic solvent needs to be a volatile organic solvent that can dissolve the recording layer material and the protective layer material at the processing temperature and does not dissolve or swell the substrate material at the processing temperature. The coating liquid for the protective layer is, for example, UV
Since curable resins often have a relatively high viscosity and are difficult to cause backing, the organic solvent used for cleaning does not have to have such a large dissolving power that it stiffens the material forming the protective layer. Further, the position on the substrate of the liquid material supply pipe 18 through which the organic solvent is sprayed is not particularly limited, but as shown in the figure, it may be installed on the outer circumferential side of a circle with a radius of 1/2 of the radius of the substrate. When you are there,
Particularly, the outer peripheral portion is preferably cleaned because it is efficiently cleaned.
前記保護層は、所定の膜厚の塗布膜が形成された後に塗
布膜から乾燥により溶剤を除去して、所定の膜を形成さ
せる。The protective layer is formed by removing the solvent from the coating film by drying after the coating film has a predetermined thickness.
」二記保護層形成用塗布液および前記記録層形成用塗布
液などの形成材料の塗布液の濃度、粘度および量、基板
の回転数、温度、湿度、等を制御することによって任意
の厚さの膜を形成させることができ、これらの条件の設
定自体は従来公知のスピンコード法の技術により当業者
が容易に実施で 3
4
きる。By controlling the concentration, viscosity and amount of the coating solution of the forming material such as the coating solution for forming the protective layer mentioned above and the coating solution for forming the recording layer, the rotation speed of the substrate, temperature, humidity, etc. These conditions can be easily set by those skilled in the art using the conventionally known spin-coding technique.
上記スピンコード法による洗浄および塗布は一般に常温
常圧下に実施されるので、上記有機溶媒としては、50
〜150℃の沸点を有する液体であることが好ましい。Since cleaning and coating by the spin code method are generally carried out at room temperature and pressure, the organic solvent used is 50%
Preferably it is a liquid with a boiling point of ~150°C.
上記有機溶媒の具体的物質は、対象となる色素、樹脂を
溶解することができ、使用する基板の材料(主に樹脂)
を溶解または膨潤しないように、適宜選択されることが
できる。例えば、基板の材料がポリカーボネートである
場合は、メタノール、エタノール、インプロパツール、
n−ブタノールなどのアルコール類、2.2.3,3.
−テトラフロロ−1−プロパツールのようなフッ素含有
アルコール類、ジアセトンアルコールのようなジケトア
ルコール類、脂肪族炭化水素類、及びそれらの混合物な
どの中から、上記色素、上記保護層材料、後述する下塗
層用材料に対する溶解性を考慮して選択される。上記有
機溶媒は、使用前にミクロフィルターで濾過して清浄に
したものであることが好ましい。The specific substance of the organic solvent mentioned above can dissolve the target dye and resin, and the material of the substrate used (mainly resin)
It can be appropriately selected so as not to dissolve or swell. For example, if the substrate material is polycarbonate, methanol, ethanol, impropatol,
Alcohols such as n-butanol, 2.2.3, 3.
- From among fluorine-containing alcohols such as tetrafluoro-1-propatol, diketo alcohols such as diacetone alcohol, aliphatic hydrocarbons, and mixtures thereof, the above-mentioned dye, the above-mentioned protective layer material, as described below. It is selected in consideration of the solubility of the undercoat layer material. The organic solvent is preferably filtered and purified using a microfilter before use.
上記洗浄に使用される有機溶媒の代わりに、該有機溶媒
を含み且つ機能層形成材料を含み塗布液を用いて、上記
のように噴霧することにより上記洗浄と機能層の塗設を
同時に行なうこも可能である。その際、塗布液の供給位
置を、基板の回転中心近傍とすることが必要である。上
記機能層形成材料としては、保護層形成用材料、反射防
止層形成材料または帯電防止層形成材料を挙げることが
できる。Instead of the organic solvent used for the cleaning, the cleaning and the coating of the functional layer may be performed simultaneously by using a coating liquid containing the organic solvent and a functional layer forming material and spraying as described above. It is possible. At this time, it is necessary to supply the coating liquid near the center of rotation of the substrate. Examples of the functional layer forming material include a protective layer forming material, an antireflection layer forming material, and an antistatic layer forming material.
第1−E図には、上記のようにして得られた光ディスク
の断面図を示されている。該光ディスクは、中央に孔部
13を有する基板11の表面に形成された記録層12、
記録層上に形成された反射層14、そして反射層上に上
述した本発明の方法により基板裏側を洗浄しながら塗設
された保護層15からなっている。基板の記録層が設け
られた側の外周縁部近傍に、反射層が形成されていない
色素残っていたが、これは主に保護層形成用塗布液の塗
布と遠心力により除去されている。FIG. 1-E shows a cross-sectional view of the optical disc obtained as described above. The optical disc includes a recording layer 12 formed on the surface of a substrate 11 having a hole 13 in the center;
It consists of a reflective layer 14 formed on the recording layer, and a protective layer 15 coated on the reflective layer while cleaning the back side of the substrate by the method of the present invention described above. Although some dye remained near the outer periphery of the substrate on the side where the recording layer was provided, on which no reflective layer was formed, this was mainly removed by applying the coating liquid for forming a protective layer and centrifugal force.
このようにして、記録層等のスピンコード法の塗布によ
り発生ずる光情報記録媒体の基板の有機物の汚れ洗浄す
る工程を増加させることなく、簡単な方法で従来方法と
同程度以上に光情報記録媒体の基板の汚れを洗浄するこ
とができる。In this way, optical information can be recorded using a simple method to the same extent or higher than conventional methods, without increasing the process of cleaning organic dirt on the substrate of an optical information recording medium, which is generated by coating the recording layer using the spin code method. Dirt on the substrate of the medium can be cleaned.
また、反射層を形成する前に、色素の記録層以外に下塗
層等の塗布による他の層を設けて、保護層形成時の洗浄
により、それらの付着物を全てを一度に洗浄することも
可能である。In addition, before forming the reflective layer, other layers such as an undercoat layer may be provided in addition to the dye recording layer, and all deposits may be removed at once by cleaning when forming the protective layer. is also possible.
第2−A図および第2−B図は、本発明の製造方法の別
の一態様を説明する為の断面図である。2-A and 2-B are cross-sectional views for explaining another embodiment of the manufacturing method of the present invention.
上記光ディスクの別の一態様として、基板上に、下塗層
、金属の記録層および保護層が順に積層された構成を挙
げることができる。Another embodiment of the above-mentioned optical disc includes a structure in which an undercoat layer, a metal recording layer, and a protective layer are laminated in this order on a substrate.
前記第1−A−E図では、基板上に、色素記録層、反射
層および保護層が順に積層された例を示したが、上記態
様は、基板上に、塗布に形成される高分子化合物からな
る下塗層、蒸着による金属の記録層葛よび保護層が順に
積層されている。しかしながら、基板上の塗布層が色素
層から下塗層に、塗布層上の金属層が反射層から記録層
に換わったのみで、本質的な製造方法の違いはない。1-A-E shows an example in which a dye recording layer, a reflective layer, and a protective layer are sequentially laminated on a substrate, but in the above embodiment, a polymer compound formed by coating on a substrate is shown. An undercoat layer consisting of a metal recording layer formed by vapor deposition, and a protective layer are laminated in this order. However, there is no essential difference in the manufacturing method, except that the coating layer on the substrate has been changed from a dye layer to an undercoat layer, and the metal layer on the coating layer has been changed from a reflective layer to a recording layer.
第2−A図には、上記スピンコード法により塗布形成さ
れた下塗層22およびその上に蒸着により形成された金
属からなる記録層24が形成された基板21をスピンナ
ーのスピンドル26に挿入し、その挿入された基板を回
転させながら基板上方の液状材料供給管27より保護層
形成用塗布液が噴霧され、下方の液状材料供給管28よ
り有機溶媒が噴霧されている状態が示されている。下塗
層は、下塗層形成用の高分子化合物の塗布液をスピンコ
ード法にて塗布することにより基板表面にされているの
で、下塗層形成材料22a(高分子化合物)が基板裏面
に裏回りして付着している。In FIG. 2-A, a substrate 21 on which an undercoat layer 22 is coated by the above-mentioned spin code method and a recording layer 24 made of metal is formed by vapor deposition thereon is inserted into a spindle 26 of a spinner. , while the inserted substrate is being rotated, a protective layer forming coating liquid is being sprayed from the liquid material supply pipe 27 above the substrate, and an organic solvent is being sprayed from the liquid material supply pipe 28 below. . The undercoat layer is formed on the surface of the substrate by applying a coating liquid of a polymer compound for forming the undercoat layer using a spin code method, so that the undercoat layer forming material 22a (polymer compound) is applied to the back side of the substrate. It is attached backwards.
上記下方の液状材料供給管28より噴霧される有機溶媒
は、色素の代りに高分子化合物を溶解しやすい有機溶媒
を選択するように配慮する必要があるが、一般に同じ有
機溶媒が使用できる場合が多い。As the organic solvent sprayed from the lower liquid material supply pipe 28, care must be taken to select an organic solvent that easily dissolves the polymer compound instead of the dye, but in general, the same organic solvent may be used. many.
第2−B図には、上記のようにして得られた光ディスク
の断面図を示されている。該光ディスクは、中央に孔部
23を有する基板21の表面に形 7
8
成された下塗層21、下塗層上に形成された金属からな
る記録層24、そして記録層上に上述した本発明の方法
により基板裏面を洗浄しながら塗設された保護層25か
らなっている。FIG. 2-B shows a cross-sectional view of the optical disc obtained as described above. The optical disc includes an undercoat layer 21 formed on the surface of a substrate 21 having a hole 23 in the center, a recording layer 24 made of metal formed on the undercoat layer, and the above-mentioned book on the recording layer. It consists of a protective layer 25 that is applied while cleaning the back surface of the substrate by the method of the invention.
このようにして、下塗層のスピンコード法の塗布により
発生する光情報記録媒体の基板の高分子化合物等の汚れ
洗浄する工程を増加させることなく、簡単な方法で上記
構成を有する光情報記録媒体の基板の汚れを洗浄するこ
とができる。In this way, the optical information recording medium having the above-mentioned structure can be easily used without increasing the step of cleaning the substrate of the optical information recording medium from dirt such as polymer compounds generated by spin-coating of the undercoat layer. Dirt on the substrate of the medium can be cleaned.
[発明の効果]
本発明の光情報記録媒体の製造方法は、基板上に、まず
色素などの塗布型記録層または高分子化合物などの塗布
型下塗層のような塗布型の層を形成し、その上に金属か
らなる反射層または記録層を蒸着、スパッタリング等に
より有機溶媒に溶けない層を形成して、先の塗布型層の
基板表面の記録再生に必要な領域を保護する。そして保
護層の形成材料をスピンコード法により塗布する際、同
時に基板裏側から有機溶媒を噴霧して、基板裏側あるい
は側面等に付着した色素あるいは高分子化金物を洗浄す
ると共に保護層形成材料の基板の裏回りも防ぎながら、
上記保護層を形成する。これにより、従来別の工程とし
て行なわれてきた基板裏側等に付着した有機物の汚れの
洗浄を保護層形成時に行なうことが可能となった。[Effects of the Invention] The method for producing an optical information recording medium of the present invention includes first forming a coating type layer such as a coating type recording layer such as a dye or a coating type undercoat layer such as a polymer compound on a substrate. A reflective layer or a recording layer made of a metal is formed thereon by vapor deposition, sputtering, etc. to form a layer insoluble in organic solvents to protect the area of the coating layer on the substrate surface necessary for recording and reproduction. When applying the protective layer forming material using the spin code method, at the same time, an organic solvent is sprayed from the back side of the substrate to clean the dye or polymerized metal that has adhered to the back side or side surface of the substrate, and at the same time, to clean the substrate of the protective layer forming material. While also preventing the back of the
The above protective layer is formed. This makes it possible to clean organic stains adhering to the back side of the substrate, etc., at the time of forming the protective layer, which has conventionally been done as a separate process.
従って、本発明は、記録層等のスピンコード法の塗布に
より発生する光情報記録媒体の基板の有機物の汚れを洗
浄する工程を増加させることなく、簡単な方法で従来方
法と同程度以上に光情報記録媒体の基板を洗浄すること
ができる。Therefore, the present invention provides a simple method for cleaning organic stains on the substrate of an optical information recording medium generated by spin-coating the recording layer, etc., to the same degree or more than the conventional method. The substrate of the information recording medium can be cleaned.
以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。Examples and comparative examples of the present invention are described below. However, each of these aspects does not limit the invention.
[実施例1]
下記構造式の色素:
を、2.75重量%になるように、2,2,3゜3−テ
トラフロロプロパツールに溶解して色素記録層形成用塗
布液を調製した。[Example 1] A dye having the following structural formula: was dissolved in 2,2,3°3-tetrafluoropropanol to a concentration of 2.75% by weight to prepare a coating liquid for forming a dye recording layer.
長さ:0.8μm、幅:0.4μm、深さ:800又の
ビットがトラックピッチ:1.6μmで長手方向に並ん
だプレピットが設けられた円盤状のポリカーボネート基
板(外径:120mm、内径:15mm、厚さ:1.2
mm)を、スピンナーに取付は回転数1000 r、p
、m、の速度で回転させながら、上記塗布液を基板の上
方から噴霧する方法でスピンコードして層厚1000又
の記録層を形成した。Length: 0.8 μm, Width: 0.4 μm, Depth: 800 Disc-shaped polycarbonate substrate (outer diameter: 120 mm, inner diameter : 15mm, thickness: 1.2
mm) on the spinner at a rotation speed of 1000 r, p.
While rotating at a speed of , m, the above coating liquid was spin-coated by spraying from above the substrate to form a recording layer with a layer thickness of 1000.
上記記録層の上に、Auをスパッタリングすることによ
り層厚1300又の反射層を形成した。A reflective layer having a thickness of 1300 mm was formed on the recording layer by sputtering Au.
その際、基板上の半径20mmの円および半径118m
mの円で囲まれた範囲以外をマスクして行なった。At that time, a circle with a radius of 20 mm and a radius of 118 m on the board.
This was done by masking the area other than the area surrounded by the circle of m.
第1−D図に示す態様で、内部温度25℃のスピンコー
ターハウス内で、得られた記録層と反射層とを有する基
板をスピンナーに取付け、回転数1000 r、p、m
、の速度で回転させながら保護層形成用塗布液として紫
外線硬化型樹脂(商品名:3070、粘度+5cps(
25℃)、スリーボンド■製)を液状材料供給管17か
ら1 cc/秒の送液速度で反射層上に噴霧しながら、
基板の下方から上向きにイソプロピルアルコールを液状
材料供給管18から2cc/秒の送液速度で、基板裏側
表面上に噴霧して洗浄した。上記塗布液の噴霧な5秒間
維持し、両方の液状材料の供給を停止して、そのまま回
転を10秒間維持して塗布層を乾燥した。次いで、該塗
布層に紫外線を照射(200w / c mの水銀灯で
10秒間)することにより層厚2μmの保護層を形成し
た。In the manner shown in FIG. 1-D, the substrate having the obtained recording layer and reflective layer was attached to a spinner in a spin coater house with an internal temperature of 25° C., and the number of revolutions was 1000 r, p, m.
While rotating at a speed of
25°C), manufactured by Three Bond ■) from the liquid material supply pipe 17 at a liquid delivery rate of 1 cc/sec, while spraying it onto the reflective layer.
Isopropyl alcohol was sprayed upward from the bottom of the substrate from the liquid material supply pipe 18 at a rate of 2 cc/sec onto the back surface of the substrate for cleaning. The coating liquid was sprayed for 5 seconds, the supply of both liquid materials was stopped, and the rotation was maintained for 10 seconds to dry the coating layer. Next, the coating layer was irradiated with ultraviolet rays (for 10 seconds using a 200 w/cm mercury lamp) to form a protective layer with a layer thickness of 2 μm.
このようにして、基板上に色素からなる記録層、反射層
および保護層からなる光情報記録媒体を製造した。In this way, an optical information recording medium consisting of a recording layer made of a dye, a reflective layer, and a protective layer on a substrate was manufactured.
[実施例2]
量
塩素化ポリエチレン 0.2部メチル
エチルケトン 10部1
2
シクロヘキサン 100部長さ
:0.8μm、幅:0.4μm、深さ=800λのビッ
トがトラックどツチ:1.6μmで長手方向に並んだプ
レピットが設けられた円盤状のポリカーボネート基板(
外径:120mm、内径: 15mm、厚さ: 1.2
mm)を、スピンナーに取付は回転数1000 r、p
、m、の速度で回転させながら、上記下塗層形成用塗布
液を基板の上方から噴霧する方法でスピンコードして層
厚300又の下塗層を形成した。[Example 2] Quantity Chlorinated polyethylene 0.2 parts Methyl ethyl ketone 10 parts 1 2 Cyclohexane 100 parts Length: 0.8 μm, width: 0.4 μm, depth = 800λ bit tracks: 1.6 μm in longitudinal direction A disc-shaped polycarbonate substrate with pre-pits lined up (
Outer diameter: 120mm, inner diameter: 15mm, thickness: 1.2
mm) on the spinner at a rotation speed of 1000 r, p.
While rotating at a speed of , m, the coating liquid for forming an undercoat layer was sprayed from above the substrate by spin-coding to form an undercoat layer with a thickness of 300 layers.
上記下塗層の上に、InおよびGeSをそれおぞれ40
重量%:60重量%の割合で共蒸着させるて、層厚が1
300又の記録層を形成した。On top of the above undercoat layer, 40% of In and GeS are each applied.
Weight%: co-deposited at a ratio of 60% by weight, with a layer thickness of 1
A recording layer with 300 layers was formed.
その際、基板上の半径20mmの円および半径118m
mの円で囲まれた範囲以外をマスクして行なった。At that time, a circle with a radius of 20 mm and a radius of 118 m on the board.
This was done by masking the area other than the area surrounded by the circle of m.
第2−A図に示す態様で、内部温度25℃のスピンコー
ターハウス内で、得られた下塗層と記録層とを有する基
板をスピンナーに取付は回転数1000 r、p、m、
の速度で回転させながら、保護層形成用塗布液として紫
外線硬化型樹脂(商品名3070、粘度:5cps(2
5℃)、スリーボンド■製)を液状材料供給管27から
Icc/秒の送液速度で反射層上に噴霧しながら、基板
の下方から上向きにイソプロピルアルコールを液状材料
供給管28から2cc/秒の送液速度で、基板の裏側表
面上に噴霧して洗浄した。上記塗布液の噴霧を5秒間維
持し、両方の液状材料の供給を停止して、そのまま回転
を10秒間維持して塗布層を乾燥した。次いで、該塗布
層に紫外線を照射(200W / Cmの水銀灯で10
秒間)することにより層厚2μmの保護層を形成した。In the manner shown in FIG. 2-A, the substrate having the obtained undercoat layer and recording layer was mounted on a spinner in a spin coater house with an internal temperature of 25° C. at a rotation speed of 1000 r, p, m,
While rotating at a speed of
While spraying isopropyl alcohol upward from below the substrate at a rate of 2 cc/sec from the liquid material supply pipe 28 while spraying a liquid (manufactured by Three Bond ■) from the liquid material supply pipe 27 at a rate of 1 cc/sec onto the reflective layer. Cleaning was performed by spraying onto the back surface of the substrate at a liquid delivery rate. The spraying of the coating liquid was maintained for 5 seconds, the supply of both liquid materials was stopped, and the rotation was maintained for 10 seconds to dry the coating layer. Next, the coating layer was irradiated with ultraviolet light (100 W/cm mercury lamp).
A protective layer with a layer thickness of 2 μm was formed by applying the following steps.
このようにして、基板上に高分子化合物からなる下塗層
、金属記録層および保護層からなる光情報記録媒体を製
造した。In this way, an optical information recording medium was produced, which consisted of an undercoat layer made of a polymer compound, a metal recording layer, and a protective layer on a substrate.
上記実施例1および実施例2で得られた光情報記録媒体
について外観を目視で観察した結果、基板の裏側、外周
側壁面、外周側端部および基板表側の外周縁近傍に色素
の付着や高分子化合物の付着が認められなかった。さら
に、情報の記録再生もエラーの発生がなく行なうことが
できた。As a result of visually observing the appearance of the optical information recording media obtained in Example 1 and Example 2 above, it was found that there was no dye adhesion or high density on the back side of the substrate, the outer peripheral side wall surface, the outer peripheral side edge, and near the outer peripheral edge on the front side of the substrate. No attachment of molecular compounds was observed. Furthermore, information could be recorded and reproduced without any errors.
第1−A図は、従来のスピンコード法により成膜を行な
っている状態を示す断面図、
第1−B図は、本発明の製造方法に従う一実施例におけ
る製造途中の光ディスクの断面図、第1−C図は、本発
明の製造方法に従う一実施例における製造途中の光ディ
スクの断面図、第1−D図は、本発明の製造方法に従う
一実施例のスピンコード法により成膜および洗浄を行な
っている状態を示す断面図、
第1−E図は、本発明の製造方法に従う一実施例により
得られた光ディスクの断面図である。
第2−A図は、本発明の製造方法に従う別の一実施例の
スピンコード法により成膜および洗浄を行なっている状
態を示す断面図、
第2−B図は、本発明の製造方法に従う別の一実施例に
より得られた光ディスクの断面図である。
5
11.21:基板 12:(色素)記録層22:下
塗層 13.23:孔部14:反射層
24:(金属)記録層15.25:保護層
6.16.26:スピンドル
7.17.27:(上方)液状材料供給管18.28:
(下方)液状材料供給管
12a:色素層形成材料
22a:下塗層形成材料FIG. 1-A is a cross-sectional view showing a state in which film formation is performed by a conventional spin code method; FIG. 1-B is a cross-sectional view of an optical disk in the process of being manufactured in an embodiment according to the manufacturing method of the present invention; FIG. 1-C is a cross-sectional view of an optical disk in the process of being manufactured in an embodiment according to the manufacturing method of the present invention, and FIG. FIG. 1-E is a cross-sectional view of an optical disc obtained by an embodiment according to the manufacturing method of the present invention. Figure 2-A is a sectional view showing a state in which film formation and cleaning are performed by the spin code method of another embodiment according to the manufacturing method of the present invention, and Figure 2-B is a cross-sectional view according to the manufacturing method of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view of an optical disc obtained according to another example. 5 11.21: Substrate 12: (dye) recording layer 22: Undercoat layer 13.23: Hole 14: Reflective layer
24: (metal) recording layer 15. 25: protective layer 6. 16. 26: spindle 7. 17. 27: (upper) liquid material supply pipe 18. 28:
(Lower) Liquid material supply pipe 12a: Dye layer forming material 22a: Undercoat layer forming material
Claims (1)
を該基板の上方から該基板表面に供給して塗布すること
により記録層を形成する工程、該記録層上に金属からな
る反射層を蒸着により形成する工程、および 該基板の回転下に、該反射層上に保護層形成用塗布液を
該基板の上方から供給して塗布しながら、同時に該記録
層が設けられていない側の該基板裏側の表面に、少なく
とも該記録層の材料および該保護層の材料を処理温度で
溶解することができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃
至膨潤させない揮発性の有機溶媒を含む液体を該基板の
下方から供給することにより保護層を形成する工程を含
む光情報記録媒体の製造方法。 2、円板状基板を回転させながら、下塗層形成用塗布液
を該基板の上方から該基板表面に供給して塗布すること
により下塗層を形成する工程、該下塗層上に金属からな
る記録層を蒸着により形成する工程、および 該基板の回転下に、該記録層上に保護層形成用塗布液を
該基板の上方から供給して塗布しながら、同時に該記録
層が設けられていない側の該基板裏側の表面に、少なく
とも該下塗層の材料および該保護層の材料を処理温度で
溶解することができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃
至膨潤させない揮発性の有機溶媒を含む液体を該基板の
下方から供給することにより保護層を形成する工程を含
む光情報記録媒体の製造方法。[Claims] 1. A step of forming a recording layer by supplying and coating a coating liquid for forming a recording layer onto the surface of the substrate from above the disk-shaped substrate while rotating the substrate, the recording layer. A step of forming a reflective layer made of metal on top of the substrate by vapor deposition, and while the substrate is being rotated, a coating liquid for forming a protective layer is supplied from above the substrate and applied thereon, and at the same time, the recording layer is coated on the reflective layer. A volatile material that can dissolve at least the material of the recording layer and the material of the protective layer at the processing temperature and does not cause the substrate material to dissolve or swell at the processing temperature is added to the surface of the back side of the substrate on the side where the material is not provided. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising a step of forming a protective layer by supplying a liquid containing an organic solvent from below the substrate. 2. A step of forming an undercoat layer by supplying and applying a coating solution for forming an undercoat layer onto the surface of the substrate from above the substrate while rotating the disc-shaped substrate, and applying metal on the undercoat layer. a step of forming a recording layer by vapor deposition, and while the substrate is being rotated, a coating liquid for forming a protective layer is supplied and applied from above the substrate onto the recording layer, and at the same time the recording layer is provided. A volatile organic solvent that can dissolve at least the material of the undercoat layer and the material of the protective layer at the processing temperature and does not dissolve or swell the substrate material at the processing temperature. 1. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising the step of forming a protective layer by supplying a liquid containing: from below the substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JPH03219445A true JPH03219445A (en) | 1991-09-26 |
| JP2767308B2 JP2767308B2 (en) | 1998-06-18 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1073047A1 (en) * | 1999-07-28 | 2001-01-31 | TDK Corporation | Fluorinated alcohol for manufacturing optical recording medium and optical recording medium produced by using the same |
| JP2007137710A (en) * | 2005-11-17 | 2007-06-07 | Ulvac Japan Ltd | Method for forming porous silica film and window member for display device |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6262869U (en) * | 1985-10-07 | 1987-04-18 | ||
| JPS63200865A (en) * | 1987-02-17 | 1988-08-19 | Hitachi Maxell Ltd | Method for coating optical disk with protective film |
| JPH01182944A (en) * | 1988-01-14 | 1989-07-20 | Sanyo Electric Co Ltd | Production of optical information recording disk |
| JPH01215374A (en) * | 1988-02-24 | 1989-08-29 | Nec Corp | Coater |
| JPH01271935A (en) * | 1988-04-21 | 1989-10-31 | Nec Home Electron Ltd | Optical disk and its production |
-
1990
- 1990-01-25 JP JP2015219A patent/JP2767308B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6262869U (en) * | 1985-10-07 | 1987-04-18 | ||
| JPS63200865A (en) * | 1987-02-17 | 1988-08-19 | Hitachi Maxell Ltd | Method for coating optical disk with protective film |
| JPH01182944A (en) * | 1988-01-14 | 1989-07-20 | Sanyo Electric Co Ltd | Production of optical information recording disk |
| JPH01215374A (en) * | 1988-02-24 | 1989-08-29 | Nec Corp | Coater |
| JPH01271935A (en) * | 1988-04-21 | 1989-10-31 | Nec Home Electron Ltd | Optical disk and its production |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1073047A1 (en) * | 1999-07-28 | 2001-01-31 | TDK Corporation | Fluorinated alcohol for manufacturing optical recording medium and optical recording medium produced by using the same |
| US6485888B1 (en) | 1999-07-28 | 2002-11-26 | Tdk Corporation | Fluorinated alcohol for manufacturing optical recording medium and optical recording medium using the same |
| JP2007137710A (en) * | 2005-11-17 | 2007-06-07 | Ulvac Japan Ltd | Method for forming porous silica film and window member for display device |
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