JPH03219445A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、光により情報の記録が可能な光情報記録媒体
の製造方法に関する。

［発明の技術的背景］ 情報の記録が可能な光ディスクは基本構造として、ガラ
ス、合成樹脂などからなる円板状の基板と、この上に設
けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属
；またはシアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素か
らなる記録層とを有する。なあ、記録層が設けられる側
の基板表面には通常、基板の平面性の改善、記録層との
接着力の向上あるいは光ディスクの感度の向上などの点
から、高分子物質からなる下塗層が設けられることが多
い。

そして、光ディスクへの情報の書き込み場よび読み取り
は通常下記の方法により行なわれる。

情報の書き込みはレーザビームをこの光ディスクに照射
することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な
変化（たとえば、ピットの生成）が生じてその光学的特
性を変えることにより情報が記録される。情報の読み取
りもまた、レーザビームを光ディスクに照射することに
より行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射
光または透過光を検出することにより情報が再生される
。

上記のように、このような光ディスクの製造方法には、
記録層、下塗層、保護層などの層を円板状基板の表面に
設ける工程が含まれる。このような各層を形成させる方
法として最も一般的に採用されている方法の一つとして
スピンコード法がある。スピンコード法は、添付する第
１−Ａ図に示すように、基板１１を水平にしてスピンナ
ーのスピンドル６に取り付け、スピンナーを２００〜５
０００　ｒ、ｐ、ｍ、の回転数で回転させながら、上記
各層となる膜を形成させるための液状の材料を液状材料
供給管７から基板の上に滴下、噴霧などにより供給し、
基板の回転による遠心力により液状材料を飛散させ基板
表面に成膜する方法である。

このような方法により塗布形成された記録層等の材料は
、基板の塗布面側の表面だけでなく塗布されないはずの
非塗布面である基板の裏側の表面や外周側側壁にも付着
している。すなわち、基板の回転による遠心力により飛
散した液状材料の一部は、基板外周縁より基板の裏側へ
廻り込んで、基板の非塗布面表面等に付着する。このよ
うな基板の裏側等に付着した物質は、情報の記録再生に
支障を来す、あるいは得られる光ディスクの外観が不良
でとなることからこれらを除去する必要がある。このた
め、従来は全層を形成した後、あるいは途中の工程と工
程との間に、基板を裏返して該基板の非塗布面の表面の
洗浄が行なわれていた。

しかしながら、各層の形成工程以外にさらに洗浄を行な
う工程を追加する必要があり、製造工程が多くなるため
工程の短縮が望まれている。

一方、上記塗布液の裏回りを防止する塗布方法として、
スピンナーによる塗布方法を用いて、被塗物に上方から
塗布液を噴霧した際に被塗物の周辺に流れる塗布液を吸
引しながら且つ回転中の被塗物の裏面に水を噴霧して裏
回りを防止しながら、上記上方よりの塗布を行なうって
膜を形成する技術が、実開昭５８−８１９３２号公報に
開示されている。このような方法を用いて記録層材料で
ある色素の塗布液等を塗布した場合、裏面から噴霧され
る液体が水のため基板に付着した色素を洗浄することが
できない、さらに噴霧される水の飛沫が色素塗布層に付
着し塗膜の欠陥が発生するとの問題がある。

［発明の目的］ 本発明は、記録層等のスピンコード法の塗布により発生
する光情報記録媒体の基板の有機物の汚れを洗浄する工
程を増加させることなく、簡単な方法で従来方法と同程
度以上に光情報記録媒体の基板を洗浄することができる
、光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とす
る。

［発明の要旨］ 本発明は、円板状基板を回転させながら、記録層形成用
塗布液を該基板の上方から該基板表面に供給して塗布す
ることにより記録層を形成する工程、 該記録層上に金属からなる反射層を蒸着により形成する
工程、および 該基板の回転下に、該反射層上に保護層形成用塗布液を
該基板の上方から供給して塗布しながら、同時に該記録
層が設けられていない側の該基板裏側の表面に、少なく
とも該記録層の材料および該保護層の材料を処理温度で
溶解することができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃
至膨潤させない揮発性の有機溶媒を含む液体を該基板の
下方から供給することにより保護層を形成する工程を含
む光情報記録媒体の製造方法（Ａ）にある。

また、本発明は、円板状基板を回転させながら、下塗層
形成用塗布液を該基板の上方から該基板表面に供給して
塗布することにより下塗層を形成する工程、 該下塗層上に金属からなる記録層を蒸着により形成する
工程、および 該基板の回転下に、該記録層上に保護層形成用塗布液を
該基板の上方から供給して塗布しながら、同時に該記録
層が設けられていない側の該基板裏側の表面に、少なく
とも該下塗層の材料上よび該保護層の材料を処理温度で
溶解することができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃
至膨潤させない揮発性の有機溶媒を含む液体を該基板の
下方から供給することにより保護層を形成する工程を含
む光情報記録媒体の製造方法（Ｂ）にもある。

上記本発明の光情報記録媒体の製造方法の好ましい態様
は以下のとおりである。

１）該有機溶媒が、５０〜１５０℃の沸点を有する液体
であることを特徴とする上記光情報記録媒体の製造方法
。

２）該有機溶媒を含む溶液が揮発性の有機溶媒のみから
なり、そして該有機溶媒の供給が、その基板上での供給
位置を基板の半径の１／２の半径の円より外周側の範囲
内にて行なわれることを特徴とする上記光情報記録媒体
の製造方法。

３）該有機溶媒を含む液体が機能層形成材料を含み、そ
して該溶液の供給が、その基板上での供給位置を基板の
回転中心近傍にて行なわれることすることを特徴とする
上記光情報記録媒体の製造方法。

４）上記機能層形成材料が、保護層形成用材料、反射防
止層形成材料または帯電防止層形成材料であることを特
徴とする上記４）の光情報記録媒体の製造方法。

５）該記録層形成用塗布液の記録層材料が、レーザーの
照射により記録可能な色素であることを特徴とする上記
光情報記録媒体の製造方法（Ａ）。

尚、上記蒸着は、真空蒸着、スッパタリングまたはイオ
ンブレーティングを意味する。

また、上記記録層、下塗層または保護層の形成材料を溶
解するとは、２５℃にて使用する有機溶媒１００重量部
に対して上記いずれかの材料が０．０１重量部以上が溶
解することを意味する。

さらに、基板の形成材料を溶解しないとは、２５℃にて
使用する有機溶媒１００重量部に対して基板材料が０．
０１重量部未満しか溶解しないことを意味する。上記基
板が膨潤しないとは、２５℃にて１００重量部の基板材
料が使用する有機溶媒を０．１重量部未満しか吸収しな
いことを意味する。

［発明の詳細な記述〕 本発明の製造方法により得られる光情報記録媒体は、基
板上に塗布型記録層、反射層および塗布型保護層が、あ
るいは基板上に、塗布型下塗層、金属記録層、および塗
布型保護層がこの順で積層された基本構成を有している
。そして、該基板の記録層等が設けられていない裏側表
面および外側側壁が、極めて清浄で、記録層材料などの
有機物の付着がないことを特徴としている。

上記基板の材料は、各種の材料から任意に選択すること
ができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱い
性、経時安定性および製造コストなどの点から、基板材
料の例としては、ガラス；ポリメチルメタクリレート等
のアクリル樹脂：ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体
等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；ポリカーボネー
ト樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステ
ルを挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィンおよびポリメチルメタクリレートを
挙げることができる。

基板上には、トラッキング用溝またはアドレス信号等の
情報を表わす微小凹凸が形成された、プレピット層及び
／又はプレグルーブ層が設けられている。プレピット層
及び／又はプレグルーブ層の材料としては、アクリル酸
のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテト
ラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（または
オリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることが
できる。

プレピット層及び／又はプレグルーブ層の形成は、まず
精密に作られた母型（スタンバ−）上に上記のアクリル
酸エステルおよび重合開始剤からなる混合液を塗布し、
さらにこの塗布液層上に基板を載せたのち、基板または
母型を介して紫外線の照射により液層を硬化させて基板
と液相とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離す
ることによりプレピット層及び／又はプレグルーブ層の
設けられた基板が得られる。プレピット層及び／又はプ
レグルーブ層の層厚は一般に０．０５〜１００μｍの範
囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲である。

基板材料がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押
出成形などにより直接基板にプレピット及び／又はプレ
グルーブを設けてもよい。

上記のような基板表面に形成される膜としては、レーザ
光により情報の書き込みが可能な色素を含有する記録層
、記録性能の改善、再生信号品質の改善、平面性の改善
、接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の
変質の防止の目的で、基板と記録層との間に設けられる
下塗層、記録層の上に設けられる保護層などを挙げるこ
とができる。そして、本発明の製造方法により得られる
光情報記録媒体の基板の上記記録層等が設けられていな
い裏側表面および外周側側面は、上記塗布により形成さ
れる記録層材料、下塗層材料、保護層材料等が付着して
いない。

下塗層の膜形成材料としてはたとえば、ポリメチルメタ
クリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチ
レン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール
、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・スルホン
酸共重合体、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロ
ルスルホン化１ ２ ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質；シランカップリング剤などの有機
物質；および無機酸化物（Ｓ　ｉ　Ｏ２、Ａｆｉ２０３
等）、無機７　ｙ化物（ＭｇＦ２）などの無機物質を、
適当な溶剤に溶解または分散して調製した塗布液を挙げ
ることができる。下塗層の膜厚は一般に０．００５〜２
０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲で
ある。

記録層の膜形成材料としては、前記のような色素を、さ
らに所望により結合剤と共に、溶剤に溶解して調整した
塗布液を挙げることができる。色素以外にも光により相
変化可能な高分子材料、あるいは光によりビット等の形
成が可能な金属（分散液として使用）を挙げることがで
きる。上記色素は特に限定されるものではなく、光ディ
スクの製造に使用されるものであればどのようなもので
も良い。例えば、シアニン系色素、フタロシアニン系色
素、ビリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウ
ム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなとの金
属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素
、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、ト
リフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、ア
ルミニウム系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化
合物を挙げることができる。好ましくは、シアニン系色
素、アズレニウム系色素およびスクワリリウム系色素を
挙げることができる。

これらのうちでも記録再生用レーザとして近赤外光を発
振する半導体レーザの利用が実用化されている点から、
７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸収率が
高い色素が好ましい。

なお、これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合
物として用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる
場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジイ
ンモニウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いるこ
とが好ましい。その場合、クエンチャ−として金属錯塩
系色素などを全色素１モル部に対して０．００１〜０．
１モル部含むことが好ましい。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパツール、イソプロパ
ツール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、２．２．３．３、テトラフロ
ロプロパツール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５０容量
％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重量比）の
範囲にある。

　５ ６ 上記基板上に、スピンコード法により塗布して下塗層を
設けた場合は、記録層を塗布により設けた場合と同様に
基板の裏面等に下塗層の塗布液が付着するため、記録層
として金属の蒸着層を設けた後もこの付着物は残る。従
って、このような場合でも、本発明の保護層の塗布と同
時に洗浄を行なう工程は極めて有用である。

蒸着により形成される記録層の材料としては、Ｔｅ％Ｓ
ｅ、Ｉｎ、Ｐｂ％Ｂｉ等の低融点金属化合物；Ａｇ％Ａ
ｕ、Ａｌ１、ＴＩＬ、Ｃｕ、Ｇａ１Ｓｂ、Ｓｎ、Ｔｉ％
　Ｆｅ、　ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ。

Ｎｂ、Ｐｄ、Ｚｎ等の表面張力の高い金属；を挙げるこ
とができる。この他に、金属硫化物、金属弗化物、金属
酸化物等の金属化合物が含有されていても良い。

上記金属記録層は、たとえば上記金属等を蒸着、スパッ
タリングまたはイオンブレーティングすることにより下
塗層の上に形成することができる。その層厚は一般には
３００〜２０００λの範囲にあることが好ましい。

また、本発明の製造方法では、塗布により設けられた記
録層の上には、保護層形成時の基板裏側を洗浄する際、
記録層が飛散する洗浄液による塗膜欠陥を生じないよう
に、反射層を設けられる。

前記金属記録層もこの反射層と同じ役目を果たしている
。反射層を設けることにより、反射率の向上の効果、情
報に再生時におけるＳ／Ｎの向上場よび記録時における
感度の向上の効果も得ることができる。

反射層の材料としては、Ａｕ、ＡＩｌ、、１塁、Ｃｕ％
　Ｉ　ｎ、Ｓｂ、Ｔｅ％Ｇｅ、Ｓｅ、Ｂｉ。

Ｓｎ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｔａ。

ｐｔ等の金属、半金属及びこれらの合金を挙げることが
できる。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。

反射層の層厚は一般には１００〜３０００Ｘの範囲にあ
ることが好ましい。

金属記録層上または反射層上には、塗布により保護層が
設けられる。

保護層の膜形成材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を適当な溶剤に溶解
して調整した塗布液を挙げることができる。特にＵＶ硬
化性樹脂を含むものが好ましく、ＵＶ硬化性樹脂の場合
には、そのままであってもよい。ＵＶ硬化性樹脂として
は、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）
アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート等の
（メタ）アクリレートのオリゴマー類、（メタ）アクリ
ル酸エステル等のモノマー類等さらに光重合開始剤等の
通常のＵＶ硬化性樹脂を使用することができる。これら
の塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸
収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。

保護層の膜厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲にあ
る。

上記保護層または反射防止層を、塗布により上記記録層
が設けられていない裏側表面に塗布しても良い。

上記保護層上に、さらに、ＳｉＯ，５ｊ０２、ＳｉＮ４
、ＭｇＦ２．ＳｎＯ２等の無機物質カラなる保護層を設
けてもよい。

次に本発明の光情報記録媒体の製造方法を、添付する図
面を参照して詳細に説明する。

本発明では、円板状基板を回転させながら該基板表面に
、下塗層形成用塗布液または色素等の記録層形成用塗布
液を該基板の上方がら供給することにより塗布を行なう
。次いで、このような塗布により形成された層上に、金
属の蒸着層（下塗層上には金属記録層、また色素等の記
録層上には反射層）を形成して、上記塗布による層を保
護する。そして、上記保護層形成時に、同時に基板の裏
面に有機溶媒を含む液体を該基板の下方から供給して、
上記下塗層形成用塗布液または記録層形成用塗布液を塗
布した際に裏回り等により付着した塗布形成材料を洗浄
する。なお、上記色素記録層の下側に上記下塗層が設け
られていても勿論良い。

上記基板を高速回転させて各種塗布液あるいは　９ ０ 有機溶媒を供給するための装置としては任意の装置を利
用することができるが、一般に薄膜塗布に用いられるス
ピンコード法を便利に使用できる。

基板上方から記録層用塗布液または保護層用塗布液を塗
布しながら、下方から有機溶媒を供給する際は、例えば
第１−Ａ図のように、一般のスピンコード装置にさらに
下方側の吐出口を設ければ良い。

第１−Ａ図、第１−Ｂ図、第１−０図、第１−０図およ
び第１−Ｅ図は、本発明の製造方法の一態様を説明する
為の各工程の状態を示す断面図である。

第１−Ａ図には、基板１１をスピンナーのスピンドル６
に挿入し、その挿入された基板を回転させながら基板上
方の液状材料供給管７より記録層形成用色素塗布液が噴
霧されている状態が示されている。第１−Ａ図の塗布方
法は従来から行なわれているスピンコード法と同じ方法
である。

第１−Ｂ図には、第１−Ａ図で示したように、中央に孔
部１３を有する基板１１の表面に、記録層形成用色素塗
布液をスピンコード法にて塗布することにより色素から
なる記録層１２が形成された状態が示されている。また
、色素塗布液をスピンコード法により塗布した際、裏回
りして基板に付着した色素塗布液中の色素やポリマーな
との色素層形成材料１２ａが示されている。

第１−０図には、中央に孔部１３を有する基板１１の表
面に設けられた記録層１２の上に、金属からなる反射層
１４が常法により形成された状態が示されている。反射
層は、金属をスパッタリング等を行なうことにより形成
されるが、内周縁部及び外周縁部の近傍は一般にマスク
されてスパッリングが行なわれるため、そこに金属が付
着することはない。

第１−Ｄ図には、上記記録層１２および反射層１４が形
成された基板１１をスピンナーのスピンドル１６に挿入
し、その挿入された基板を回転させながら基板上方の液
状材料供給管１７より保護層形成用塗布液が噴霧され、
下方の液状材料供給管１８より有機溶媒が噴霧されてい
る状態が示されている。

基板１１の反射層１４の上に保護層形成用塗布液を塗布
し成膜するには、まず、スピンナーにより基板１１を前
記のように回転させながら、基板−上方の液状材料供給
管１７から保護層形成用塗布液を噴霧することによって
反射層１４上に供給する。反射層１４上に供給された保
護層形成用塗布液は、基板１１の回転による遠心力と重
力とによって反射層１４上の全体に広がり、均一な厚さ
の塗布膜が形成される。基板上方の液状材料供給管１７
から保護層形成用塗布液を噴霧する際、同時に基板下方
の液状材料供給管１８から反射層１４が設けられていな
い基板裏面に有機溶媒を噴霧する。基板裏面に供給され
た有機溶媒は、基板１１の回転による遠心力によりて基
板裏面の外周側および外周側側壁に広がり、記録層形成
時に裏回りにより付着した色素及び基板裏側に裏回りし
てくる保護層形成用塗布液を全て洗浄除去することがで
きる。有機溶媒は、該記録層材料および該保護層の材料
を処理温度で溶解することができ且つ該基板材料を処理
温度で溶解乃至膨潤させない性質を有する揮発性の有機
溶媒である必要がある。保護層の塗布液は、例えばＵＶ
硬化型樹脂では比較的高粘度の場合が多く、裏回りが発
生し難いので、洗浄用の有機溶媒は保護層の形成材料に
対してそわほど大きい溶解力がなくても良い。また有機
溶媒が噴霧される液状材料供給管１８の基板上の位置は
、特に限定されるものではないが、図のように基板の半
径の１／２の半径の円より外周側に設置されていると、
特に外周部分は効率良く洗浄されるので好ましい。

前記保護層は、所定の膜厚の塗布膜が形成された後に塗
布膜から乾燥により溶剤を除去して、所定の膜を形成さ
せる。

」二記保護層形成用塗布液および前記記録層形成用塗布
液などの形成材料の塗布液の濃度、粘度および量、基板
の回転数、温度、湿度、等を制御することによって任意
の厚さの膜を形成させることができ、これらの条件の設
定自体は従来公知のスピンコード法の技術により当業者
が容易に実施で　３ ４ きる。

上記スピンコード法による洗浄および塗布は一般に常温
常圧下に実施されるので、上記有機溶媒としては、５０
〜１５０℃の沸点を有する液体であることが好ましい。

上記有機溶媒の具体的物質は、対象となる色素、樹脂を
溶解することができ、使用する基板の材料（主に樹脂）
を溶解または膨潤しないように、適宜選択されることが
できる。例えば、基板の材料がポリカーボネートである
場合は、メタノール、エタノール、インプロパツール、
ｎ−ブタノールなどのアルコール類、２．２．３，３．
−テトラフロロ−１−プロパツールのようなフッ素含有
アルコール類、ジアセトンアルコールのようなジケトア
ルコール類、脂肪族炭化水素類、及びそれらの混合物な
どの中から、上記色素、上記保護層材料、後述する下塗
層用材料に対する溶解性を考慮して選択される。上記有
機溶媒は、使用前にミクロフィルターで濾過して清浄に
したものであることが好ましい。

上記洗浄に使用される有機溶媒の代わりに、該有機溶媒
を含み且つ機能層形成材料を含み塗布液を用いて、上記
のように噴霧することにより上記洗浄と機能層の塗設を
同時に行なうこも可能である。その際、塗布液の供給位
置を、基板の回転中心近傍とすることが必要である。上
記機能層形成材料としては、保護層形成用材料、反射防
止層形成材料または帯電防止層形成材料を挙げることが
できる。

第１−Ｅ図には、上記のようにして得られた光ディスク
の断面図を示されている。該光ディスクは、中央に孔部
１３を有する基板１１の表面に形成された記録層１２、
記録層上に形成された反射層１４、そして反射層上に上
述した本発明の方法により基板裏側を洗浄しながら塗設
された保護層１５からなっている。基板の記録層が設け
られた側の外周縁部近傍に、反射層が形成されていない
色素残っていたが、これは主に保護層形成用塗布液の塗
布と遠心力により除去されている。

このようにして、記録層等のスピンコード法の塗布によ
り発生ずる光情報記録媒体の基板の有機物の汚れ洗浄す
る工程を増加させることなく、簡単な方法で従来方法と
同程度以上に光情報記録媒体の基板の汚れを洗浄するこ
とができる。

また、反射層を形成する前に、色素の記録層以外に下塗
層等の塗布による他の層を設けて、保護層形成時の洗浄
により、それらの付着物を全てを一度に洗浄することも
可能である。

第２−Ａ図および第２−Ｂ図は、本発明の製造方法の別
の一態様を説明する為の断面図である。

上記光ディスクの別の一態様として、基板上に、下塗層
、金属の記録層および保護層が順に積層された構成を挙
げることができる。

前記第１−Ａ−Ｅ図では、基板上に、色素記録層、反射
層および保護層が順に積層された例を示したが、上記態
様は、基板上に、塗布に形成される高分子化合物からな
る下塗層、蒸着による金属の記録層葛よび保護層が順に
積層されている。しかしながら、基板上の塗布層が色素
層から下塗層に、塗布層上の金属層が反射層から記録層
に換わったのみで、本質的な製造方法の違いはない。

第２−Ａ図には、上記スピンコード法により塗布形成さ
れた下塗層２２およびその上に蒸着により形成された金
属からなる記録層２４が形成された基板２１をスピンナ
ーのスピンドル２６に挿入し、その挿入された基板を回
転させながら基板上方の液状材料供給管２７より保護層
形成用塗布液が噴霧され、下方の液状材料供給管２８よ
り有機溶媒が噴霧されている状態が示されている。下塗
層は、下塗層形成用の高分子化合物の塗布液をスピンコ
ード法にて塗布することにより基板表面にされているの
で、下塗層形成材料２２ａ（高分子化合物）が基板裏面
に裏回りして付着している。

上記下方の液状材料供給管２８より噴霧される有機溶媒
は、色素の代りに高分子化合物を溶解しやすい有機溶媒
を選択するように配慮する必要があるが、一般に同じ有
機溶媒が使用できる場合が多い。

第２−Ｂ図には、上記のようにして得られた光ディスク
の断面図を示されている。該光ディスクは、中央に孔部
２３を有する基板２１の表面に形　７ ８ 成された下塗層２１、下塗層上に形成された金属からな
る記録層２４、そして記録層上に上述した本発明の方法
により基板裏面を洗浄しながら塗設された保護層２５か
らなっている。

このようにして、下塗層のスピンコード法の塗布により
発生する光情報記録媒体の基板の高分子化合物等の汚れ
洗浄する工程を増加させることなく、簡単な方法で上記
構成を有する光情報記録媒体の基板の汚れを洗浄するこ
とができる。

［発明の効果］ 本発明の光情報記録媒体の製造方法は、基板上に、まず
色素などの塗布型記録層または高分子化合物などの塗布
型下塗層のような塗布型の層を形成し、その上に金属か
らなる反射層または記録層を蒸着、スパッタリング等に
より有機溶媒に溶けない層を形成して、先の塗布型層の
基板表面の記録再生に必要な領域を保護する。そして保
護層の形成材料をスピンコード法により塗布する際、同
時に基板裏側から有機溶媒を噴霧して、基板裏側あるい
は側面等に付着した色素あるいは高分子化金物を洗浄す
ると共に保護層形成材料の基板の裏回りも防ぎながら、
上記保護層を形成する。これにより、従来別の工程とし
て行なわれてきた基板裏側等に付着した有機物の汚れの
洗浄を保護層形成時に行なうことが可能となった。

従って、本発明は、記録層等のスピンコード法の塗布に
より発生する光情報記録媒体の基板の有機物の汚れを洗
浄する工程を増加させることなく、簡単な方法で従来方
法と同程度以上に光情報記録媒体の基板を洗浄すること
ができる。

以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 下記構造式の色素： を、２．７５重量％になるように、２，２，３゜３−テ
トラフロロプロパツールに溶解して色素記録層形成用塗
布液を調製した。

長さ：０．８μｍ、幅：０．４μｍ、深さ：８００又の
ビットがトラックピッチ：１．６μｍで長手方向に並ん
だプレピットが設けられた円盤状のポリカーボネート基
板（外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ：１．２
ｍｍ）を、スピンナーに取付は回転数１０００　ｒ、ｐ
、ｍ、の速度で回転させながら、上記塗布液を基板の上
方から噴霧する方法でスピンコードして層厚１０００又
の記録層を形成した。

上記記録層の上に、Ａｕをスパッタリングすることによ
り層厚１３００又の反射層を形成した。

その際、基板上の半径２０ｍｍの円および半径１１８ｍ
ｍの円で囲まれた範囲以外をマスクして行なった。

第１−Ｄ図に示す態様で、内部温度２５℃のスピンコー
ターハウス内で、得られた記録層と反射層とを有する基
板をスピンナーに取付け、回転数１０００　ｒ、ｐ、ｍ
、の速度で回転させながら保護層形成用塗布液として紫
外線硬化型樹脂（商品名：３０７０、粘度＋５ｃｐｓ（
２５℃）、スリーボンド■製）を液状材料供給管１７か
ら１　ｃｃ／秒の送液速度で反射層上に噴霧しながら、
基板の下方から上向きにイソプロピルアルコールを液状
材料供給管１８から２ｃｃ／秒の送液速度で、基板裏側
表面上に噴霧して洗浄した。上記塗布液の噴霧な５秒間
維持し、両方の液状材料の供給を停止して、そのまま回
転を１０秒間維持して塗布層を乾燥した。次いで、該塗
布層に紫外線を照射（２００ｗ　／　ｃ　ｍの水銀灯で
１０秒間）することにより層厚２μｍの保護層を形成し
た。

このようにして、基板上に色素からなる記録層、反射層
および保護層からなる光情報記録媒体を製造した。

［実施例２］ 量 塩素化ポリエチレン　　　　　　　　　０．２部メチル
エチルケトン　　　　　　　　　　１０部１ ２ シクロヘキサン　　　　　　　　　　　　１００部長さ
：０．８μｍ、幅：０．４μｍ、深さ＝８００λのビッ
トがトラックどツチ：１．６μｍで長手方向に並んだプ
レピットが設けられた円盤状のポリカーボネート基板（
外径：１２０ｍｍ、内径：　１５ｍｍ、厚さ：　１．２
ｍｍ）を、スピンナーに取付は回転数１０００　ｒ、ｐ
、ｍ、の速度で回転させながら、上記下塗層形成用塗布
液を基板の上方から噴霧する方法でスピンコードして層
厚３００又の下塗層を形成した。

上記下塗層の上に、ＩｎおよびＧｅＳをそれおぞれ４０
重量％：６０重量％の割合で共蒸着させるて、層厚が１
３００又の記録層を形成した。

その際、基板上の半径２０ｍｍの円および半径１１８ｍ
ｍの円で囲まれた範囲以外をマスクして行なった。

第２−Ａ図に示す態様で、内部温度２５℃のスピンコー
ターハウス内で、得られた下塗層と記録層とを有する基
板をスピンナーに取付は回転数１０００　ｒ、ｐ、ｍ、
の速度で回転させながら、保護層形成用塗布液として紫
外線硬化型樹脂（商品名３０７０、粘度：５ｃｐｓ（２
５℃）、スリーボンド■製）を液状材料供給管２７から
Ｉｃｃ／秒の送液速度で反射層上に噴霧しながら、基板
の下方から上向きにイソプロピルアルコールを液状材料
供給管２８から２ｃｃ／秒の送液速度で、基板の裏側表
面上に噴霧して洗浄した。上記塗布液の噴霧を５秒間維
持し、両方の液状材料の供給を停止して、そのまま回転
を１０秒間維持して塗布層を乾燥した。次いで、該塗布
層に紫外線を照射（２００Ｗ　／　Ｃｍの水銀灯で１０
秒間）することにより層厚２μｍの保護層を形成した。

このようにして、基板上に高分子化合物からなる下塗層
、金属記録層および保護層からなる光情報記録媒体を製
造した。

上記実施例１および実施例２で得られた光情報記録媒体
について外観を目視で観察した結果、基板の裏側、外周
側壁面、外周側端部および基板表側の外周縁近傍に色素
の付着や高分子化合物の付着が認められなかった。さら
に、情報の記録再生もエラーの発生がなく行なうことが
できた。

【図面の簡単な説明】

第１−Ａ図は、従来のスピンコード法により成膜を行な
っている状態を示す断面図、 第１−Ｂ図は、本発明の製造方法に従う一実施例におけ
る製造途中の光ディスクの断面図、第１−Ｃ図は、本発
明の製造方法に従う一実施例における製造途中の光ディ
スクの断面図、第１−Ｄ図は、本発明の製造方法に従う
一実施例のスピンコード法により成膜および洗浄を行な
っている状態を示す断面図、 第１−Ｅ図は、本発明の製造方法に従う一実施例により
得られた光ディスクの断面図である。 第２−Ａ図は、本発明の製造方法に従う別の一実施例の
スピンコード法により成膜および洗浄を行なっている状
態を示す断面図、 第２−Ｂ図は、本発明の製造方法に従う別の一実施例に
より得られた光ディスクの断面図である。 　５ １１．２１：基板　　　１２：（色素）記録層２２：下
塗層　　　　　１３．２３：孔部１４：反射層　　　　
　２４：（金属）記録層１５．２５：保護層 ６．１６．２６：スピンドル ７．１７．２７：（上方）液状材料供給管１８．２８：
（下方）液状材料供給管 １２ａ：色素層形成材料 ２２ａ：下塗層形成材料

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、円板状基板を回転させながら、記録層形成用塗布液
   を該基板の上方から該基板表面に供給して塗布すること
   により記録層を形成する工程、該記録層上に金属からな
   る反射層を蒸着により形成する工程、および 該基板の回転下に、該反射層上に保護層形成用塗布液を
   該基板の上方から供給して塗布しながら、同時に該記録
   層が設けられていない側の該基板裏側の表面に、少なく
   とも該記録層の材料および該保護層の材料を処理温度で
   溶解することができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃
   至膨潤させない揮発性の有機溶媒を含む液体を該基板の
   下方から供給することにより保護層を形成する工程を含
   む光情報記録媒体の製造方法。 ２、円板状基板を回転させながら、下塗層形成用塗布液
   を該基板の上方から該基板表面に供給して塗布すること
   により下塗層を形成する工程、該下塗層上に金属からな
   る記録層を蒸着により形成する工程、および 該基板の回転下に、該記録層上に保護層形成用塗布液を
   該基板の上方から供給して塗布しながら、同時に該記録
   層が設けられていない側の該基板裏側の表面に、少なく
   とも該下塗層の材料および該保護層の材料を処理温度で
   溶解することができ且つ該基板材料を処理温度で溶解乃
   至膨潤させない揮発性の有機溶媒を含む液体を該基板の
   下方から供給することにより保護層を形成する工程を含
   む光情報記録媒体の製造方法。