JPH03220172A - Thiocarboxylic acid ester compound and its production - Google Patents
Thiocarboxylic acid ester compound and its productionInfo
- Publication number
- JPH03220172A JPH03220172A JP1348090A JP1348090A JPH03220172A JP H03220172 A JPH03220172 A JP H03220172A JP 1348090 A JP1348090 A JP 1348090A JP 1348090 A JP1348090 A JP 1348090A JP H03220172 A JPH03220172 A JP H03220172A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid ester
- group
- refractive index
- ester compound
- thiocarboxylic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、特に光学材料として有用であり、そ
の他塗料、インク、接着剤及び感光性樹脂等に有用な重
合性のチオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法
に関するものである。Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to polymerizable thiocarboxylic acid ester compounds which are particularly useful as optical materials, and which are also useful in paints, inks, adhesives, photosensitive resins, etc. This relates to a manufacturing method.
従来、無機ガラスに代る合成樹脂については種々研究さ
れているが、欠点も多く、まだ十分に満足し得る性状の
ものは得られていない。例えば、メチルメタクリレート
やジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)を
主成分とする単量体を重合した重合体は、光学用樹脂や
レンズとして使用されているが、その屈折率は約1.5
0と低い。Conventionally, various studies have been conducted on synthetic resins to replace inorganic glass, but there are many drawbacks, and no one with fully satisfactory properties has yet been obtained. For example, polymers made from monomers whose main components are methyl methacrylate and diethylene glycol bis(allyl carbonate) are used as optical resins and lenses, but their refractive index is approximately 1.5.
As low as 0.
この欠点を改良した高屈折率樹脂も種々提案されている
。例えば、ポリカーボネート、ポリスルホン系の高屈折
率樹脂が提案されている。これらの樹脂は、屈折率が約
1.60と高いものの、光透過率が低く、光学的均質性
に欠け、また着色するなどの問題がある。Various high refractive index resins have been proposed to improve this drawback. For example, high refractive index resins such as polycarbonate and polysulfone have been proposed. Although these resins have a high refractive index of about 1.60, they have problems such as low light transmittance, lack of optical homogeneity, and coloring.
このため架橋性の高屈折率樹脂用単量体が種々提案され
ている。例えば、特開昭61−28901号公報などに
フェニル基をハロゲン原子で置換したフェニルメタクリ
レートなどハロゲン原子を多数含んだ樹脂が提案されて
いる。また、特開昭60−197711号公報などにα
−ナフチルメタクリレートを主成分とする高屈折率樹脂
用組成物が提案されている。これらの高屈折率樹脂用単
量体は、ハロゲン原子や縮合芳香環を含むためその大部
分が常温で固体である。このため、これらの単量体は常
温で液状の単量体に溶解して重合される。For this reason, various crosslinkable monomers for high refractive index resins have been proposed. For example, resins containing a large number of halogen atoms, such as phenyl methacrylate, in which phenyl groups are substituted with halogen atoms, have been proposed in JP-A-61-28901. In addition, α
- A composition for a high refractive index resin containing naphthyl methacrylate as a main component has been proposed. Most of these monomers for high refractive index resins are solid at room temperature because they contain halogen atoms and condensed aromatic rings. Therefore, these monomers are dissolved in a liquid monomer at room temperature and polymerized.
上記の液状の単量体として、下記式 %式% (R’はアルキル基を示す。) で示されるメタクリル酸エステルが知られている。As the above liquid monomer, the following formula %formula% (R' represents an alkyl group.) The methacrylic acid ester shown is known.
しかしながら、この単量体を重合して成る樹脂は、屈折
率がそれほど高くないうえ、一般の樹脂と同様に表面の
耐擦傷性が不十分であるため、レンズ等の光学材料に供
する場合には、有機シリコーン被膜から成るハードコー
ト膜をその表面に形成させることが必要である。しかし
この樹脂はメタクリル酸エステルから成る樹脂のため、
通常、アリルジグリコールカーボネート樹脂に施されて
いる方法、即ちアルカリ液による表面処理後に有機シリ
コーン被膜を形成させる方法を適用しても、樹脂と被膜
との密着性が不十分で実用に供することが困難であった
。However, the resin made by polymerizing this monomer does not have a very high refractive index and, like general resins, has insufficient scratch resistance on the surface, so it cannot be used for optical materials such as lenses. , it is necessary to form a hard coat film consisting of an organic silicone film on the surface. However, since this resin is made of methacrylic acid ester,
Even if the method normally applied to allyl diglycol carbonate resin, that is, the method of forming an organic silicone film after surface treatment with an alkaline solution, is applied, the adhesion between the resin and the film is insufficient and it cannot be put to practical use. It was difficult.
本発明が解決しようとする課題は、高屈折率樹脂用の常
温で固体の単量体の溶解に適した常温で液状の単量体で
あって、高屈折率且つ低分散であり、透明性、耐衝撃性
、耐候性及び軽量性などに優れた樹脂を与える単量体を
提供することにある。The problem to be solved by the present invention is to provide a monomer that is liquid at room temperature and suitable for dissolving monomers that are solid at room temperature for high refractive index resins, which has a high refractive index, low dispersion, and is transparent. The object of the present invention is to provide a monomer that provides a resin with excellent impact resistance, weather resistance, and light weight.
本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意研究
を重ねた結果、特定の構造を有するチオカルボン酸エス
テル化合物が、前記の諸性質を具備した優れたものであ
ることを見い出し、本発明を完成する至った。In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have conducted intensive research and found that a thiocarboxylic acid ester compound having a specific structure is an excellent compound having the above-mentioned properties. The invention was completed.
即ち、本発明は、−船蔵(1) で示されるチオカルボン酸エステル化合物である。That is, the present invention provides - ship storage (1) This is a thiocarboxylic acid ester compound represented by
前記−船蔵CII中、R2及びR3は、夫々同種又は異
種の水素原子又はアルキル基であればよいが、本発明の
化合物の重合により得られる重合体の光学材料への利用
の観点からは、水素原子又はメチル基であることが好ま
しい。In the above-mentioned -Shipage CII, R2 and R3 may be the same or different hydrogen atoms or alkyl groups, respectively, but from the viewpoint of utilizing the polymer obtained by polymerization of the compound of the present invention as an optical material, A hydrogen atom or a methyl group is preferred.
上記−船蔵〔I〕中、R4で示されるアルキレン基は炭
素数が2〜5である。炭素数が6以上の場合には、本発
明のチオカルボン酸エステル化合物を重合して得られる
樹脂の耐熱性が低下するために好ましくない。アルキレ
ン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリ
メチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、プ
ロピレン基、I、2−ジメチルエチレン基等を挙げるこ
とができる。本発明においては、得られる樹脂の屈折率
及び耐熱性を勘案すると、アルキレン基の炭素数は2〜
4であることが特に好ましい。In the above-Funazura [I], the alkylene group represented by R4 has 2 to 5 carbon atoms. When the number of carbon atoms is 6 or more, it is not preferable because the heat resistance of the resin obtained by polymerizing the thiocarboxylic acid ester compound of the present invention decreases. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a propylene group, and an I,2-dimethylethylene group. In the present invention, considering the refractive index and heat resistance of the resulting resin, the number of carbon atoms in the alkylene group is 2 to 2.
4 is particularly preferred.
前記−船蔵(1)中、R5は、置換若しくは非置換の7
リール基である。上記の了り−ル基としては、その炭素
数に特に制限されるものではないが、本発明の化合物の
粘度及び重合して得られる重合体の屈折率の観点から炭
素数6〜10であることが好ましい。例えば、フェニル
基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられ、
特にフェニル基が好適である。In the above-shipped stock (1), R5 is substituted or unsubstituted 7
It is a reel group. The number of carbon atoms in the above-mentioned oryl group is not particularly limited, but from the viewpoint of the viscosity of the compound of the present invention and the refractive index of the polymer obtained by polymerization, the number of carbon atoms is 6 to 10. It is preferable. Examples include phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, etc.
A phenyl group is particularly suitable.
上記R5で示される了り−ル基の置換基としては、特に
制限されず、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、フエ′ニル基、フェニルチオ基等を挙げることが
できる。これらの置換了り−ル基の代表的なものを例示
すると、例えば、クロロフェニル基、ブロモフェニル基
、ジクロロフェニル基、ジブロモフェニル基、トリブロ
モフェニル基等のハロゲノアリール基;メチルチオフェ
ニル基、ジ(メチルチオ)フェニル基、フェニルチオフ
ェニル基、ビフェニル基等を挙げることができる。The substituent for the oryl group represented by R5 is not particularly limited, and examples include a halogen atom, an alkoxy group, an alkylthio group, a phenyl group, and a phenylthio group. Typical examples of these substituted aryl groups include halogenoaryl groups such as chlorophenyl, bromophenyl, dichlorophenyl, dibromophenyl, and tribromophenyl; methylthiophenyl, di(methylthiophenyl); ) phenyl group, phenylthiophenyl group, biphenyl group, etc.
本発明の前記−船蔵(4)で示されるチオカルボン酸エ
ステル化合物は、次の手段によって同定、確認すること
ができる。The thiocarboxylic acid ester compound shown in (4) above of the present invention can be identified and confirmed by the following means.
(ア)赤外吸収スペクトル(IR)を測定することによ
り、3150〜2800cm−’にCH結合に基づく吸
収、1650〜1620cm〜1に末端2重結合に基づ
く吸収、更に1660〜1690C1ll −’付近に
チオエステル結合に基づくカルボニル基の強い吸収が観
測される。(a) By measuring the infrared absorption spectrum (IR), absorption based on CH bond at 3150 to 2800 cm-', absorption based on terminal double bond at 1650 to 1620 cm-1, and further absorption at around 1660 to 1690 C1ll-' Strong absorption of carbonyl groups based on thioester bonds is observed.
(イ)IH−核磁気共鳴スペクトル(’H−NMR)を
測定することにより化合物を容易に同定することができ
る。特に−船蔵(I)においてR1がメチル基の場合は
61.9 ppm付近にメチル基に基づくピーク、及び
δ5,7と66、1 ppm付近に末端のビニリデンプ
ロトンに基づくピークがそれぞれ3:1:1の割合でメ
タクリル酸エステルに特有なパターンで認められる。ま
たRが水素原子の場合は、65.6〜7 ppmにアク
リル酸エステルに特有なパターンで3個分の水素が認め
られる。さらにチオエーテル鎖においてはイオウ原子に
結合した炭素原子上の水素が62.9ppm付近にそれ
ぞれ結合状態に応じたパターンのピークを示す。さらに
R2及びR3のいずれかがメチル基の場合、61.1
ppm付近に2重線が認められる。また、67〜68.
5 ppmに了り−ル基に帰属されるピークが認められ
、δ工〜δ4 ppmにアルキレン基に帰属されるピー
クが認められる。その他の水素原子が存在すれば、その
結合様式に応じたスペクトルパターンを示す。以上のよ
うな情報より容易に化合物の同定が可能である。(a) Compounds can be easily identified by measuring IH-nuclear magnetic resonance spectra ('H-NMR). In particular, when R1 is a methyl group in Shipura (I), there is a peak based on the methyl group at around 61.9 ppm, and a peak based on the terminal vinylidene proton at around δ5, 7 and 66, 1 ppm, respectively, at 3:1. :1 ratio, a pattern characteristic of methacrylic acid esters is observed. When R is a hydrogen atom, three hydrogen atoms are observed at 65.6 to 7 ppm in a pattern unique to acrylic esters. Furthermore, in the thioether chain, hydrogen on the carbon atom bonded to the sulfur atom exhibits a peak around 62.9 ppm in a pattern depending on the bonding state. Furthermore, when either R2 or R3 is a methyl group, 61.1
A double line is observed near ppm. Also, 67-68.
A peak attributed to an alkylene group is observed at 5 ppm, and a peak attributed to an alkylene group is observed at δ~4 ppm. If other hydrogen atoms are present, they will exhibit a spectral pattern depending on their bonding mode. The compound can be easily identified from the above information.
(つ)元素分析によって炭素、水素、イオウ、ハロゲン
の各重量%を求め、さらに認知された各元素の重量%の
和を100から減じることによって酸素の重量%を算出
することができ、該化合物の組成式を決定することがで
きる。(1) The weight percent of oxygen can be calculated by determining the weight percent of each of carbon, hydrogen, sulfur, and halogen through elemental analysis, and subtracting the sum of the weight percent of each recognized element from 100. The compositional formula of can be determined.
−船人N)で示されるチオカルボン酸エステル化合物は
、どのような方法により得ても良いが、一般には次に述
べる方法により製造される。- Shipman The thiocarboxylic acid ester compound represented by N) may be obtained by any method, but is generally produced by the method described below.
下記式(II) で示される化合物と、下記式(n[] で示される化合物とを反応させる方法である。The following formula (II) A compound represented by the following formula (n[] This is a method of reacting with the compound shown in
(ア)カルボン酸を用いる方法
一般式(II)で示される化合物と一般式(III)で
示される化合物のうち、R6が水酸基であるカルボン酸
とを酸触媒の存在下脱水縮合させることにより、−船蔵
〔I〕のチオカルボン酸エステル化合物を製造すること
ができる。両原料の仕込みモル比は必要に応じて適宜決
定すればよいが、通常、どちらか一方の化合物を過剰に
使用するのが一般的である。該反応において、触媒とし
て使用される酸は、塩酸、硫酸等の鉱酸、芳香族スルホ
ン酸等あるいは、フッ化ホウ素エーテラート等のルイス
酸が挙げられる。(A) Method using carboxylic acid By dehydrating and condensing a compound represented by general formula (II) and a carboxylic acid in which R6 is a hydroxyl group among the compounds represented by general formula (III) in the presence of an acid catalyst, - The thiocarboxylic acid ester compound in shipyard [I] can be produced. Although the molar ratio of the two raw materials may be appropriately determined as necessary, it is common to use an excess of one of the compounds. In this reaction, examples of the acid used as a catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, aromatic sulfonic acids, and Lewis acids such as boron fluoride etherate.
本反応においては、水が副生ずるが、その反応は平衡反
応である為、一般にディーンースターク水分離器等を用
いたり、ソックスレーの抽出器に無水硫酸ナトリウム又
はモレキュラーシーブ等の脱水剤を入れて溶媒を還流さ
せたり、反応系内にN、N−ジシクロへキシルカルボジ
イミド等の脱水剤を共存させるなどして系内から水を取
除くことが好ましい。該溶媒としては、ベンゼン、トル
エン等の芳香族炭化水素やクロロホルム、ジクロロメタ
ン等のハロゲン化脂肪族炭化水素が好ましい。In this reaction, water is produced as a by-product, but since the reaction is an equilibrium reaction, a Dean-Stark water separator is generally used, or a dehydrating agent such as anhydrous sodium sulfate or molecular sieve is placed in a Soxhlet extractor. It is preferable to remove water from the system by refluxing the solvent or allowing a dehydrating agent such as N,N-dicyclohexylcarbodiimide to coexist in the reaction system. The solvent is preferably an aromatic hydrocarbon such as benzene or toluene, or a halogenated aliphatic hydrocarbon such as chloroform or dichloromethane.
反応温度は、溶媒の種類によって異なるが、一般には、
0℃〜120℃が好ましい。反応時間は、原料の種類に
より一概に限定できないが、30分〜20時間、さらに
1時間から6時間の範囲から選択することが特に好まし
い。反応系から目的生成物、即ち前記−船蔵(1)で示
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。The reaction temperature varies depending on the type of solvent, but in general,
0°C to 120°C is preferred. Although the reaction time cannot be absolutely limited depending on the type of raw materials, it is particularly preferably selected from the range of 30 minutes to 20 hours, and more preferably 1 hour to 6 hours. The method for isolating and purifying the target product, ie, the compound represented by Funazura (1) above, from the reaction system is not particularly limited, and any known method can be employed.
(イ)カルボン酸塩化物を用いる方法
−船蔵(It)で示される化合物と一般式C[[)で示
される化合物のうち、R6が塩素原子であるカルボン酸
塩化物とを塩基の存在下、脱塩化水素させることにより
一般式(1)のチオカルボン酸エステル化合物を製造す
ることができる。(a) Method using carboxylic acid chloride - A compound represented by Shipura (It) and a carboxylic acid chloride in which R6 is a chlorine atom among the compounds represented by the general formula C[[] are combined in the presence of a base. The thiocarboxylic acid ester compound of general formula (1) can be produced by dehydrochlorination.
両原料の仕込みモル比は、通常(−船蔵(11)で示さ
れる化合物)/(−船蔵(III)で示される化合物)
=0.8〜1.5の範囲から選択すればよいが、等量用
いることが特に好ましい。The molar ratio of both raw materials is usually (-Compound represented by Funagura (11))/(-Compound represented by Funagura (III))
=0.8 to 1.5, but it is particularly preferable to use equal amounts.
本反応においては塩化水素が副生ずる。一般にはこの塩
化水素を反応系から除く為、反応系内に塩化水素捕捉剤
として塩基を共存させたり、窒素ガス等の不活性ガスを
反応系に通じたりすることが好ましい。In this reaction, hydrogen chloride is produced as a by-product. Generally, in order to remove this hydrogen chloride from the reaction system, it is preferable to coexist a base as a hydrogen chloride scavenger in the reaction system or to pass an inert gas such as nitrogen gas into the reaction system.
該塩化水素捕捉剤としての塩基は特に限定されず公知の
ものを使用することができる。L般に好適に使用される
塩基としてトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン等のトリアルキルアミン、ピリジン、テ
トラメチル尿素、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等
が挙げられる。塩基の量はカルボン酸塩化物1モルに対
して1モル以上用いることが好ましい。The base used as the hydrogen chloride scavenger is not particularly limited, and any known base can be used. Examples of bases that are generally preferably used include trialkylamines such as trimethylamine, triethylamine, and tripropylamine, pyridine, tetramethylurea, sodium hydroxide, and sodium carbonate. The amount of base used is preferably 1 mol or more per 1 mol of carboxylic acid chloride.
本発明における前記反応に際しては、一般に有機溶媒を
用いるのが好ましい。該溶媒として好適に使用されるも
のを例示すれば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキ
サン、ヘプタン、石油エーテル、クロロホルム、塩化メ
チレン、塩化エチレン等の脂肪族又は芳香族炭化水素類
あるいはハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル11;N、
N−ジメチルホルムアミド、N。In the reaction in the present invention, it is generally preferable to use an organic solvent. Examples of solvents preferably used include aliphatic or aromatic hydrocarbons or halogenated hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, hexane, heptane, petroleum ether, chloroform, methylene chloride, and ethylene chloride. ; Ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc. 11; N,
N-dimethylformamide, N.
N−ジエチルホルムアミド等のN、N−ジアルキルアミ
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。Examples include N,N-dialkylamides such as N-diethylformamide; dimethyl sulfoxide, and the like.
前記反応における温度は広い範囲から選択出来、一般に
は一20℃〜100℃、好ましくは0℃〜50℃の範囲
から選べばよい。反応時間は原料の種類によっても違う
が、通常5分〜24時間、好ましくは10分〜4時間の
範囲から選べばよい。また反応中においては攪拌を行う
のが好ましい。The temperature in the reaction can be selected from a wide range, generally from -20°C to 100°C, preferably from 0°C to 50°C. Although the reaction time varies depending on the type of raw materials, it is usually selected from the range of 5 minutes to 24 hours, preferably 10 minutes to 4 hours. Further, it is preferable to stir the reaction mixture during the reaction.
反応系から目的生成物、即ち前記−船蔵(I)で示され
る化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知の方
法が採用できる。The method for isolating and purifying the target product, ie, the compound represented by -Funezo (I) above, from the reaction system is not particularly limited, and any known method can be employed.
(つ)カルボン酸エステルを用いる方法−船蔵(II)
で示される化合物と一般式(I[[)で示される化合物
のうち、R6がアルコキシ基であるカルボン酸エステル
とを用いてエステル交換させる方法で、−船蔵(1)の
チオカルボン酸エステル化合物を製造することが出来る
。(1) Method using carboxylic acid ester - Funagura (II)
The thiocarboxylic acid ester compound of -Funazo (1) is transesterified using a compound represented by the formula (I) and a carboxylic acid ester in which R6 is an alkoxy group among the compounds represented by the general formula (I It can be manufactured.
本反応においては、酸又は塩基を触媒として用いるのが
好ましい。触媒として好適に使用される酸を例示すれば
、硫酸、塩酸、p−トルエンスルホン酸等が挙げられ、
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基やナト
リウムメトキシド又はカリウム−t−ブトキシド等のア
ルコキシド等が挙げられる。In this reaction, it is preferable to use an acid or a base as a catalyst. Examples of acids suitably used as catalysts include sulfuric acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid, etc.
Examples of the base include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, and sodium bicarbonate, and alkoxides such as sodium methoxide and potassium t-butoxide.
本反応においてはアルコール(R’H)が生成する。該
反応は平衡反応である為、このアルコールを蒸留又は共
沸等の方法で反応系外に取り除くことが好ましい。この
ため、原料の一般式(III)で示されるカルボン酸エ
ステルとしてR6が炭素数1〜5、特に炭素数1〜3の
アルキル基を有するものを用いることが好ましい。In this reaction, alcohol (R'H) is produced. Since this reaction is an equilibrium reaction, it is preferable to remove this alcohol from the reaction system by a method such as distillation or azeotropy. For this reason, it is preferable to use a carboxylic acid ester represented by general formula (III) as a raw material in which R6 has an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, particularly 1 to 3 carbon atoms.
本反応は一般には無溶媒で行なわれるが、原料が固体で
ある場合には、副生ずるアルコールよりも沸点の高い溶
媒を用いるのが好ましい。This reaction is generally carried out without a solvent, but if the raw material is solid, it is preferable to use a solvent with a boiling point higher than that of the by-product alcohol.
該溶媒として好適に使用されるものを例示すれば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジクロロ
ベンゼン等の芳香族炭化水素類あるいはハロゲン置換芳
香族炭化水素類;N、N−ジメチルホルムアミド、N、
N−ジエチルホルムアミド等のN、N−ジアルキルアミ
ド類;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。Examples of solvents preferably used include aromatic hydrocarbons or halogen-substituted aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene; N,N-dimethylformamide, N,
Examples include N,N-dialkylamides such as N-diethylformamide; dimethyl sulfoxide, and the like.
前記反応における温度は、副生ずるアルコールの種類に
よってちがうが、一般には副生ずるアルコールが留出す
る温度が好ましい。反応時間は原料の種類によってもち
がうが、通常、30分〜24時間、好ましくは2時間〜
8時間の範囲から選べばよい。また反応中においては攪
拌を行うのが好ましい。The temperature in the reaction varies depending on the type of alcohol produced by the reaction, but is generally preferably a temperature at which the alcohol produced by the reaction is distilled off. The reaction time varies depending on the type of raw material, but is usually 30 minutes to 24 hours, preferably 2 hours to
You can choose from a range of 8 hours. Further, it is preferable to stir the reaction mixture during the reaction.
反応系から目的生成物、すなわち前記−船蔵(1)で示
される化合物を単離精製する方法は特に限定されず公知
の方法を採用出来る。The method for isolating and purifying the target product, ie, the compound represented by Funazura (1) above, from the reaction system is not particularly limited, and any known method can be employed.
本発明の前記−船蔵(1)で示されるチオカルボン酸エ
ステル化合物は、液状の単量体であり、屈折率が高く、
低分散で無色透明で、比重が小さく、耐衝撃性に優れた
重合体を与える。The thiocarboxylic acid ester compound shown in the above-mentioned (1) of the present invention is a liquid monomer and has a high refractive index,
Produces a low dispersion, colorless and transparent polymer with low specific gravity and excellent impact resistance.
該化合物は単独で重合することも可能であり、また、他
の単量体と共重合することができる。The compound can be polymerized alone or can be copolymerized with other monomers.
チオカルボン酸エステル化合物と共重合可能な単量体は
、目的に応じて選択され、特に制限されず使用できる。Monomers copolymerizable with the thiocarboxylic acid ester compound are selected depending on the purpose and can be used without particular limitations.
特に本発明のチオカルボン酸エステル化合物は液状であ
るため、該単量体は固体であってもかまわない。共重合
可能な単量体を例示すれば、アクリル酸、メタクリル酸
、無水マレイン酸、フルマ酸などの不飽和カルボン酸;
アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
ベンジル、メタクリル酸フェニル、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート
、ジエチレングリコールジメタクリレート、エチレング
リコールビスグリシジルメタクリレート、ビスフェノー
ルAジメタクリレート、2,2.6.6−テトラブロモ
ビスフェノールAジメタクリレート、2.2−ビス(4
−メタクリロイルオキシエトキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(3゜5−ジブロモ−4−メタクリロイル
オキシエトキシフェニル)プロパン、トリフルオロメチ
ルメタクリレート等のアクリル酸及びメタクリル酸エス
テル化合物;チオメタクリル酸メチル、チオメタクリル
酸ベンジル、チオメタクリル酸フェニル、チオアクリル
酸ベンジル等のチオアクリル酸及びチオメタクリル酸エ
ステル化合物;フマル酸モノメチル、フマル酸ジエチル
、フマル酸ジフェニル等のフマル酸エステル化合物;ジ
アリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリル
イソフタレート、酒石酸ジアリル、エポキシコハク酸ジ
アリル、ジアリルマレート、アリルシンナメート、アリ
ルイソシアネート、クロレンド酸ジアリル、ヘキサフタ
ル酸ジアリル、ジアリルカーボネート、アリルジグリコ
ールカーボネート等のアリル化合物;スチレン、クロロ
スチレン、メチルスチレン、ビニルナフタレン、イソプ
ロペニルナフタレン、ブロモスチレン、ジプロモスチレ
ン等の芳香族ビニル化合物等である。これらの単量体は
一種又は二種以上を混合して使用できる。In particular, since the thiocarboxylic acid ester compound of the present invention is liquid, the monomer may be solid. Examples of copolymerizable monomers include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, and fulmic acid;
Methyl acrylate, methyl methacrylate, benzyl methacrylate, phenyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol bisglycidyl methacrylate, bisphenol A dimethacrylate, 2,2.6.6- Tetrabromobisphenol A dimethacrylate, 2,2-bis(4
-methacryloyloxyethoxyphenyl)propane,
Acrylic acid and methacrylic acid ester compounds such as 2,2-bis(3゜5-dibromo-4-methacryloyloxyethoxyphenyl)propane and trifluoromethyl methacrylate; methyl thiomethacrylate, benzyl thiomethacrylate, phenyl thiomethacrylate, Thioacrylic acid and thiomethacrylic acid ester compounds such as benzyl thioacrylate; Fumaric acid ester compounds such as monomethyl fumarate, diethyl fumarate, diphenyl fumarate; diallyl phthalate, diallyl terephthalate, diallyl isophthalate, diallyl tartrate, epoxysuccinic acid Allyl compounds such as diallyl, diallyl malate, allyl cinnamate, allyl isocyanate, diallyl chlorendate, diallyl hexaphthalate, diallyl carbonate, allyl diglycol carbonate; styrene, chlorostyrene, methylstyrene, vinylnaphthalene, isopropenylnaphthalene, bromostyrene , aromatic vinyl compounds such as dipromostyrene, etc. These monomers can be used alone or in combination of two or more.
これらの共重合可能な単量体の一般式〔I〕で示される
チオカルボン酸エステル化in+に対する混合割合は、
それぞれの化合物により一概に限定できないが、チオカ
ルボン酸エステル化合物100重量部に対して共重合可
能な単量体を5〜500重量部、より好ましくは10〜
200重量部用いることが好ましいう
なお、本発明のヂオカルボン酸エステルの単独重合又は
L記した共重合可能な単量体のうち重合性基が1つであ
る単量体との共重合により得られる高屈折率樹脂は熱可
塑性樹脂である。The mixing ratio of these copolymerizable monomers to the thiocarboxylic acid ester in+ represented by the general formula [I] is as follows:
Although it cannot be absolutely limited depending on each compound, the amount of the copolymerizable monomer is 5 to 500 parts by weight, more preferably 10 to 500 parts by weight, per 100 parts by weight of the thiocarboxylic acid ester compound.
It is preferable to use 200 parts by weight, and the diocarboxylic acid ester of the present invention can be obtained by homopolymerization or copolymerization with a monomer having one polymerizable group among the copolymerizable monomers listed in L. The high refractive index resin is a thermoplastic resin.
このため特ムこ樹脂が玉摺り加工などを必要とする用途
に用いる場合には、共重合可能な単量体として重合性基
を2つ以上有する単量体を用いて共重合させることが好
ましい。For this reason, when the special muco resin is used for applications that require beading processing, etc., it is preferable to copolymerize using a monomer having two or more polymerizable groups as the copolymerizable monomer. .
一般式II)のチオカルボン酸エステル化合物単独又は
共重合可能な他の単量体を含む単量体組成物から重合体
を得る重合方法は特に限定的でなく、公知のラジカル重
合方法を採用できる。重合開始手段は、種々の過酸化物
やアゾ化合物等のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外
線、α線、β線、γ線等の照射或いは両者の併用によっ
て行うことができる。代表的な重合方法を例示すると、
エラストマーガスケ・ットまたはスペーサーで保持され
ているモールド−間に、ラジカル重合開始剤を含む前記
の単量体又は単量体組成物を注入し、空気炉中で硬化さ
せた後、取出す注型重合が採用される。The polymerization method for obtaining a polymer from a monomer composition containing the thiocarboxylic acid ester compound of general formula II) alone or other copolymerizable monomers is not particularly limited, and known radical polymerization methods can be employed. Polymerization initiation means can be carried out by using radical polymerization initiators such as various peroxides and azo compounds, by irradiation with ultraviolet rays, α rays, β rays, γ rays, etc., or by using a combination of both. To illustrate typical polymerization methods,
The above-mentioned monomer or monomer composition containing a radical polymerization initiator is injected between the molds held by elastomer gaskets or spacers, cured in an air oven, and then taken out. Polymerization is employed.
ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、公知の
ものが使用できるが、代表的なものを例示すると、ベン
ゾイルパーオキサイド、pクロロベンゾイルパーオキサ
イド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキ
サイド−、アセチルバーオキサンド等のジアシルパーオ
キサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネ
ート、t−ブチルパーオキシネオデカネート、クミルパ
ーオキシぶオデカネート、tブチルパーオキシベンゾエ
ート等のパーオキシエステル;ジイソブロピルバーオキ
シジカーボ不一ト、ジー2−エチlしへキシルパーオキ
シジカーボネート、ジー5ec−ブチルパーオキシジカ
ーボネート等のバーカーボネート;アゾビス・イソブチ
ロニトリル等のアゾ化合物である。該ラジカル重合開始
剤の使用量は、重合条件や開始剤の種類、前記の単量体
の組成によって異なり、−概に限定できないが、一般に
は、全単量体100重量部に対して0.001〜lO重
景部、好ましくは0.001〜5重量部の範囲で用いる
のが好適である。The radical polymerization initiator is not particularly limited and any known one can be used, but representative examples include benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, and acetyl peroxide. Diacyl peroxides such as oxand; Peroxy esters such as t-butylperoxy-2-ethylhexanate, t-butylperoxyneodecanate, cumylperoxybuodecanate, t-butylperoxybenzoate; diisopropyl peroxybenzoate; carbonates such as carbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-5ec-butyl peroxydicarbonate; azo compounds such as azobis-isobutyronitrile; The amount of the radical polymerization initiator used varies depending on the polymerization conditions, the type of initiator, and the composition of the monomers mentioned above, and cannot be generally limited, but is generally 0.00 parts by weight per 100 parts by weight of the total monomers. It is suitable to use it in a range of 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.001 to 5 parts by weight.
重合条件のうち、特に温度は得られる高屈折率樹脂の性
状に影響を与える。この温度条件は、開始剤の種類と量
や単量体の種類によって影響を受けるので、−概に限定
はできないが、−船釣に比較的低温下で重合を開始し、
ゆっくりと温度をあげて行き、重合終了時に亮温下に硬
化させる所謂テーパ型の2段重合を行うのが好適である
。重合時間も温度と同様に各種の要因によって異なるの
で、予めこれらの条件に応じた最適の時間を決定するの
が好適であるが、−mGこ2〜40時間で重合が完結す
るように条件を選ぶのが好ましい。Among the polymerization conditions, temperature particularly affects the properties of the high refractive index resin obtained. Since this temperature condition is influenced by the type and amount of initiator and the type of monomer, it is generally not possible to limit it, but polymerization is initiated at a relatively low temperature when fishing on a boat.
It is preferable to carry out so-called tapered two-stage polymerization in which the temperature is slowly raised and the polymer is cured at a moderate temperature when the polymerization is completed. Like temperature, polymerization time also varies depending on various factors, so it is preferable to determine the optimal time according to these conditions in advance. It is preferable to choose.
勿論、前記重合に際し、離型剤、紫外線吸収剤、酸化防
止剤、着色防止剤、帯電防止剤、ケイ光染料、染料、顔
料等の各種安定剤、添加剤は必要に応じて選択して使用
することが出来る。Of course, during the polymerization, various stabilizers and additives such as release agents, ultraviolet absorbers, antioxidants, color inhibitors, antistatic agents, fluorescent dyes, dyes, and pigments may be selected and used as necessary. You can.
また、本発明のチオカルボン酸エステル化合物は、分子
中の重合性基が1つであるので、予備重合を行ないプレ
ポリマーを得た後、重合成型を行うことや、ベレットに
重合した後、射出成型や押出成型等の方法を用いて所望
の光学材料に成型加工することも可能である。In addition, since the thiocarboxylic acid ester compound of the present invention has one polymerizable group in the molecule, it is possible to perform prepolymerization to obtain a prepolymer and then perform polymerization molding, or to polymerize into pellets and then injection molding. It is also possible to mold the optical material into a desired optical material using methods such as extrusion molding and extrusion molding.
前記のプレポリマーやペレットを得る方法は、公知の重
合方法が採用できる。即ち、塊状重合、重合、溶液重合
、乳化重合、懸濁重合、沈澱重合等の方法を適用するこ
とができる。A known polymerization method can be used to obtain the prepolymer or pellets. That is, methods such as bulk polymerization, polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization, and precipitation polymerization can be applied.
さらに、上記の方法で得られる高屈折率樹脂−は、その
用途に応じて以下のような処理を施すことも出来る。即
ち、分散染料などの染料を用いる染色、ソランカップリ
ング剤やケイ素、ジルコニウム、アンチモン、アルミニ
ウム等の酸化物のゾルを主成分とするハードコート剤や
、有機高分子体を主成分とするハードコート剤によるハ
ードコーティング処理や、SiO□、Ti0z、ZrO
,!等の金属酸化物の薄膜の蒸着や有機高分子体の薄膜
の塗布等による反射防止処理、帯電防止処理等の加工及
び2次処理を施すことも可能である。Furthermore, the high refractive index resin obtained by the above method can be subjected to the following treatments depending on its use. In other words, dyeing using dyes such as disperse dyes, hard coating agents mainly composed of solan coupling agents and sol of oxides such as silicon, zirconium, antimony, and aluminum, and hard coatings mainly composed of organic polymers. Hard coating treatment with agent, SiO□, TiOz, ZrO
,! It is also possible to perform processing and secondary treatments such as antireflection treatment and antistatic treatment by vapor deposition of a thin film of a metal oxide, coating of a thin film of an organic polymer, etc.
本発明のチオカルボン酸エステル化合物は、常温で液体
であり、常温で固体の高屈折率樹脂用単量体を溶解する
単量体として好適に使用し得る。The thiocarboxylic acid ester compound of the present invention is liquid at room temperature and can be suitably used as a monomer for dissolving a monomer for high refractive index resin that is solid at room temperature.
また、本発明のチオカルボン酸エステル化合物を重合し
て得られる重合体は耐衝撃性及び耐候性に優れ、さらに
、屈折率が1.57以上で、低分散であり、透明性、軽
量性に優れている。このため、本発明のチオカルボン酸
エステル化合物の単独重合体又は該化合物と共重合可能
な単量体との共重合により得られる高屈折率樹脂は、有
機ガラスとして有用であり、例えば、メガネレンズ、光
学機器レンズ等の光学レンズとして最適であり、さらに
プリズム、光デイスク基板、光ファイバー等の用途に好
適に使用することができる。In addition, the polymer obtained by polymerizing the thiocarboxylic acid ester compound of the present invention has excellent impact resistance and weather resistance, and has a refractive index of 1.57 or more, low dispersion, and excellent transparency and light weight. ing. Therefore, the homopolymer of the thiocarboxylic acid ester compound of the present invention or the high refractive index resin obtained by copolymerizing the compound with a monomer copolymerizable with the compound is useful as an organic glass, for example, as an eyeglass lens, It is most suitable as an optical lens such as an optical equipment lens, and can also be suitably used for applications such as prisms, optical disk substrates, and optical fibers.
以下、本発明を具体的に説明するために、実施例を挙げ
て説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。EXAMPLES Hereinafter, in order to specifically explain the present invention, Examples will be given and explained, but the present invention is not limited to these Examples.
なお、本発明で得られたチオカルボン酸エステル化合物
の同定は下記の分析方法によって実施した。The thiocarboxylic acid ester compound obtained in the present invention was identified by the following analysis method.
(1)IRスペクトル
島津製作所■製 IR−440型を用い、試料をKBr
仮にはさみ、薄膜の状態で測定した。(1) IR spectrum Using IR-440 model manufactured by Shimadzu Corporation, the sample was
Measurements were made using a thin film using temporary scissors.
(21’H−NMRスペクトル
日本電子側層 PMX−60SI型(60MHz)を用
い、試料をCDC1,に希釈し、テトラメチルシランを
内部標準として測定した。(21'H-NMR spectrum JEOL side layer) Using PMX-60SI type (60 MHz), the sample was diluted to CDC1, and the measurement was performed using tetramethylsilane as an internal standard.
(3)元素分析
■柳本製作所製 CHNコーダ MT−2型を用い、炭
素及び水素の分析を、イオウについてはフラスコ燃焼法
を用いて測定を行った。(3) Elemental analysis ■ Carbon and hydrogen were analyzed using a CHN coder MT-2 manufactured by Yanagimoto Seisakusho, and sulfur was measured using a flask combustion method.
(4)屈折率(nDzo)
アタゴー製 アソへ屈折計(3T型)を用い、20℃の
屈折率を測定した。(4) Refractive index (nDzo) The refractive index at 20° C. was measured using an Asohe refractometer (model 3T) manufactured by Atago.
また、実施例において得られる高屈折率樹脂は、下記の
試験法によって諸物性を測定した。Further, various physical properties of the high refractive index resins obtained in the examples were measured by the following test methods.
+11 屈折率(n、zo)、アツベ数(ν)アタゴ
■製 アツベ屈折計(3T型)を用いて20℃における
屈折率及びアツベ数を測定した。接触液には、ブロモナ
フタリンを使用した。+11 Refractive index (n, zo), Atsube number (v) The refractive index and Atsube number at 20° C. were measured using an Atsube refractometer (Model 3T) manufactured by Atago ■. Bromonaphthalin was used as the contact liquid.
(2)外観 目視により測定した。(2) Appearance Measured visually.
(3)耐候性
スガ試験機■製 ロングライフキセノンフェードメータ
ー(FAC−25AX−HC型)中に試料を設置し、1
00時間キセノン光を露光した後、試料の着色の程度を
目視で観察し、ポリスチレンに比べ着色の程度の低いも
のを○、同等のものを△、高いものを×で評価した。(3) Place the sample in a long-life xenon fade meter (FAC-25AX-HC type) manufactured by Weather Resistance Suga Test Instruments, and
After being exposed to xenon light for 00 hours, the degree of coloring of the sample was visually observed, and samples with a lower degree of coloring than polystyrene were evaluated with ○, those with the same degree of coloring were △, and those with high coloring were evaluated with ×.
(4)耐衝撃性
厚さ2mm、直径65mmの円板状の試料板に127c
toの高さから所定重量の鋼球を自然落下させ、該試料
板が破損しない限界の鋼球の重さを測定した。その結果
を第1表に示す基準に従って、A〜Eの評価を行った。(4) Impact resistance 127cm on a disk-shaped sample plate with a thickness of 2mm and a diameter of 65mm.
A steel ball of a predetermined weight was allowed to fall naturally from a height of 0, and the weight of the steel ball that would prevent the sample plate from being damaged was measured. The results were evaluated as A to E according to the criteria shown in Table 1.
第1表
(5)ハードコート膜の密着性
試料となる板状の樹脂をメタノールで十分に洗浄して風
乾し清澄な状態にした後、10%の水酸化ナトリウム水
溶液に10分間浸漬した。Table 1 (5) Adhesion of hard coat film A plate-shaped resin sample was thoroughly washed with methanol and air-dried to a clear state, and then immersed in a 10% aqueous sodium hydroxide solution for 10 minutes.
次いで水洗乾燥させて試料の前処理を行った。Next, the sample was pretreated by washing with water and drying.
−4、予めビス(T−トリエトキシシリルプロピル)カ
ーボネート20重量部、T−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン10重量部、コロイドシリカ(日産化学
社製メタノールゾル)30重量部、メチルセロソルブ3
0重量部、0.05規定塩酸10重量部及び過塩素酸ア
ンモニウム0.25重量部を十分混合してハードコート
液を調製した。このハードコート液に前処理を行った試
料を浸漬し、これを室温で十分風乾した後、80℃で3
時間加熱して被膜を硬化させた。得られた被膜の密着性
を以下の試験法で評価した。先端が鋭利なカッターナイ
フで試料の表面にl un X l鶴のマス目を100
個つけた後、市販のセロテープを貼り付けて、次いで素
早く剥した時の被膜の剥れ状態を目視で観察し、100
個のマス目の内剥れずに残ったマス目の数で評価した。-4, 20 parts by weight of bis(T-triethoxysilylpropyl) carbonate, 10 parts by weight of T-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 30 parts by weight of colloidal silica (methanol sol manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), methyl cellosolve 3
0 parts by weight, 10 parts by weight of 0.05N hydrochloric acid, and 0.25 parts by weight of ammonium perchlorate were thoroughly mixed to prepare a hard coat liquid. The pretreated sample was immersed in this hard coat solution, thoroughly air-dried at room temperature, and then heated to 80°C for 30 minutes.
The coating was cured by heating for a period of time. The adhesion of the obtained film was evaluated by the following test method. Use a cutter knife with a sharp tip to cut 100 lun x l crane squares on the surface of the sample.
After applying each piece, commercially available cellophane tape was applied and then quickly peeled off, and the state of peeling of the film was visually observed.
Evaluation was made based on the number of squares remaining without peeling.
尚、以下の実施例で使用した単量体は、一部下記の記号
で表わした。但し、〔〕内は単独重合体の屈折率である
。In addition, some of the monomers used in the following examples are represented by the following symbols. However, the number in [ ] is the refractive index of the homopolymer.
Br3PMA : 2. 4. 6 t”リブ
ロモフェニルメタクリレート (1,625)
czst : クロロスチレン(0体、m
体の混合物)(1,610)
VDF : 2−ビニルジベンゾフラン[1
,679)
Br2St : ジブロムスチレンC1,6
57)BBMEPP : 2,2−ビス(3,5−
ジブロモ−4−メタクリロイルオキシ
エトキシフェニル)プロパン
(1,600)
BMEPP : 2,2−ビス(4−メタクリロ
イルオキシエトキシフェニル)
プロパン〔1,558〕
BTM : ベンジルチオメタクリレート(
1,620)
DEGM : ジエチレングリコールジメタクレー
ト [1,508)
SL: スチレン(1,590)
実施例1
温度計、攪拌機及び滴下a−トを付けた3つロフラスコ
に、2−フェニルエチルチオエチルチオール19.9
g (0,10mo#)とピリジン7.9g(0,10
moff)と無水クロロホルム100献を仕込み、0℃
に冷却した。攪拌しながらメタクリル酸クロライド10
.5g (0,10mojNを徐々に滴下した。この際
、反応温度を0〜5°Cに保ち、滴下終了後さらに20
℃で1時間攪拌した。その後、反応混合物を水にあけ、
希炭酸ナトリウム水溶液で有機層を洗浄した後、水洗を
行なった。有mNを無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶
媒を減圧上留去した後、得られた油状物を減圧蒸留する
ことにより、目的のチオメタクリル酸2−フェニルエチ
ル千オニチルを沸点134〜138℃(0,04關Hg
)の無色透明液体として18.7 gを得た。このもの
の屈折率は1.579であった。このもののIRチャー
トを第1図に示す。1670an−’に強いカルボニル
基、1640cm+−’に末端二重結合に基づく吸収が
認められた。また’H−NMR(CDCA、溶媒中、テ
トラメチルシラン基準、ppm)のチャートを第2図に
示した。61.93にメチル基の水素fc)に由来する
3個分のピークが結合定数2Hzの二重線として、62
.3〜63.3にメチレン基の水素(d)、(e)、i
f)、[glに由来する8個分のピークが多重線として
、65.56付近にビニリデン基の水素(a)に由来す
る1個分のピークが多重線として、δ6.05付近にビ
ニリデン基の水素(b)に由来する1個分のピークが多
重線として、δ7.1付近にフェニル基の水素fh)に
由来する5個分のピークが多重線としてそれぞれ測定さ
れた。Br3PMA: 2. 4. 6 t”ribromophenyl methacrylate (1,625) czst: chlorostyrene (0 body, m
mixture) (1,610) VDF: 2-vinyldibenzofuran [1
,679) Br2St: dibromostyrene C1,6
57) BBMEPP: 2,2-bis(3,5-
Dibromo-4-methacryloyloxyethoxyphenyl)propane (1,600) BMEPP: 2,2-bis(4-methacryloyloxyethoxyphenyl)propane [1,558] BTM: Benzylthiomethacrylate (
1,620) DEGM: diethylene glycol dimethacrylate [1,508) SL: styrene (1,590) Example 1 In a three-hole flask equipped with a thermometer, stirrer and dropping a, 2-phenylethylthioethyl was added. Thiol 19.9
g (0,10 mo#) and 7.9 g of pyridine (0,10 mo#)
moff) and 100 drops of anhydrous chloroform, and cooled to 0°C.
It was cooled to Methacrylic acid chloride 10 while stirring
.. 5 g (0.10 mojN) was gradually added dropwise. At this time, the reaction temperature was maintained at 0 to 5 °C, and after the completion of the dropwise addition, an additional 20 mojN was added dropwise.
The mixture was stirred at ℃ for 1 hour. Then, pour the reaction mixture into water,
After washing the organic layer with a dilute aqueous sodium carbonate solution, it was washed with water. After drying the mN with anhydrous magnesium sulfate and distilling off the solvent under reduced pressure, the obtained oil was distilled under reduced pressure to obtain the target 2-phenylethyl 1,000 nityl thiomethacrylate with a boiling point of 134-138°C (0 ,04關Hg
) was obtained as a colorless transparent liquid in an amount of 18.7 g. The refractive index of this material was 1.579. The IR chart of this product is shown in FIG. A strong carbonyl group was observed at 1670an-', and absorption based on a terminal double bond was observed at 1640cm+-'. Further, a chart of 'H-NMR (CDCA, in solvent, based on tetramethylsilane, ppm) is shown in FIG. At 61.93, three peaks derived from the hydrogen fc) of the methyl group appear as a doublet with a coupling constant of 2 Hz, and 62
.. Hydrogen (d), (e), i of methylene group in 3 to 63.3
f), [8 peaks derived from gl are a multiplet, one peak derived from hydrogen (a) of the vinylidene group is a multiplet around 65.56, and a vinylidene group is around δ6.05. One peak derived from the hydrogen (b) of the phenyl group was measured as a multiplet, and five peaks derived from the hydrogen (fh) of the phenyl group were measured as a multiplet near δ7.1.
また、元素分析値(()内は計算値である。)は、C:
63.32%(63,11%)、H:6.99% (6
,81%) 、S : 23.93%(24,07%
)であり計算値とよく一致した。In addition, the elemental analysis values (the values in parentheses are calculated values) are C:
63.32% (63.11%), H: 6.99% (6
, 81%), S: 23.93% (24,07%
), which was in good agreement with the calculated value.
実施例2〜8
種々の原料を用いて実施例1と全く同様にして第2表に
示したチオカルボン酸エステル化合物を得た。得られた
チオカルボン酸エステル化合物の性質を第2表に併記し
た。Examples 2 to 8 The thiocarboxylic acid ester compounds shown in Table 2 were obtained in exactly the same manner as in Example 1 using various raw materials. The properties of the obtained thiocarboxylic acid ester compound are also listed in Table 2.
実施例9
実施例1〜8で製造したチオカルボン酸エステル化合物
100重量部に対してラジカル重合開始剤としてt−ブ
チルパーオキシ−2−エチルヘキサネート1重量部を添
加してよく混合した。この混合液をガラス板とエチレン
−酢酸ビニル共重合体とから成るガスケットで構成され
た鋳型の中へ注入し、注型重合を行った。重合は、空気
炉を用い、30℃から90″Cで18時間かけ、徐々に
温度を上げて行き、90℃に2時間保持した。重合終了
後、鋳型を空気炉から取出し、放冷後、重合体を鋳型の
ガラスからとりはずした。えられた重合体の諸物性を測
定して第3表に示した。Example 9 1 part by weight of t-butylperoxy-2-ethylhexanate as a radical polymerization initiator was added to 100 parts by weight of the thiocarboxylic acid ester compounds produced in Examples 1 to 8 and mixed well. This mixed solution was poured into a mold consisting of a glass plate and a gasket made of ethylene-vinyl acetate copolymer, and cast polymerization was performed. Polymerization was carried out using an air oven, and the temperature was gradually raised from 30°C to 90''C over 18 hours, and the temperature was maintained at 90°C for 2 hours. After the polymerization was completed, the mold was taken out of the air oven and left to cool. The polymer was removed from the glass mold.The various physical properties of the obtained polymer were measured and are shown in Table 3.
比較例1〜2
筆量体としてチオメタクリル酸メチルとメタクリル酸2
−メチルチオエチルを用いた以外は実施例9と同様に実
施した。得られた重合体の諸物性を第3表に併記した。Comparative Examples 1-2 Methyl thiomethacrylate and methacrylic acid 2 as brush strokes
- The same procedure as Example 9 was carried out except that methylthioethyl was used. Various physical properties of the obtained polymer are also listed in Table 3.
実施例10
第4表に示すチオカルボン酸エステル化合物及びこれと
共重合可能な単量体とから成る組成物を用いた以外、実
施例9と同様に実施した。得られた重合体の物性を第4
表に示した。Example 10 The same procedure as Example 9 was carried out except that a composition consisting of the thiocarboxylic acid ester compound shown in Table 4 and a monomer copolymerizable therewith was used. The physical properties of the obtained polymer were
Shown in the table.
第1図及び第2図は、夫々実施例1で得られた本発明の
チオカルボン酸エステル化合物の赤外吸収スペクトル及
び′H−核磁気共鳴スベクトルを示す。1 and 2 show the infrared absorption spectrum and the 'H-nuclear magnetic resonance spectrum of the thiocarboxylic acid ester compound of the present invention obtained in Example 1, respectively.
Claims (2)
びR^3は、夫々同種又は異種の水素原子又はアルキル
基であり、R^4は炭素数2〜5のアルキレン基であり
、R^5は置換若しくは非置換のアリール基である。 で示されるチオカルボン酸エステル化合物。(1) The following formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ However, R^1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R^2 and R^3 are the same or different hydrogen atoms or alkyl groups, respectively. , R^4 is an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and R^5 is a substituted or unsubstituted aryl group. A thiocarboxylic acid ester compound represented by
子又はアルキル基であり、R^4は炭素数2〜5のアル
キレン基であり、 R^5は置換若しくは非置換のアリール基である。 で示される化合物と、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔但し、R^1は水素原子又はメチル基であり、R^6
は水酸基、塩素原子又はアルコキシ基である。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項記載のチオカルボン酸エステル化
合物の製造方法。(2) The following formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ However, R^2 and R^3 are the same or different hydrogen atoms or alkyl groups, respectively, and R^4 is an alkylene having 2 to 5 carbon atoms. R^5 is a substituted or unsubstituted aryl group. There are compounds represented by the following formula ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [However, R^1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R^6
is a hydroxyl group, a chlorine atom or an alkoxy group. ] The method for producing a thiocarboxylic acid ester compound according to claim (1), which comprises reacting with a compound represented by the following.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1348090A JPH03220172A (en) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | Thiocarboxylic acid ester compound and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1348090A JPH03220172A (en) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | Thiocarboxylic acid ester compound and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03220172A true JPH03220172A (en) | 1991-09-27 |
Family
ID=11834285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1348090A Pending JPH03220172A (en) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | Thiocarboxylic acid ester compound and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03220172A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999059947A1 (en) * | 1998-05-15 | 1999-11-25 | Commonwealth Industrial Research Organisation | Process for preparing ethers and esters |
| US6663978B1 (en) | 2000-06-28 | 2003-12-16 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index pressure-sensitive adhesives |
| US7166686B2 (en) * | 2000-06-28 | 2007-01-23 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index pressure-sensitive adhesives |
| CN109990977A (en) * | 2019-03-29 | 2019-07-09 | 中国科学院近代物理研究所 | A refractive index matching liquid |
| WO2025220534A1 (en) * | 2024-04-15 | 2025-10-23 | 三井化学株式会社 | Pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive composition, method for producing compound, and compound |
| WO2025263409A1 (en) * | 2024-06-18 | 2025-12-26 | 三井化学株式会社 | Pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive composition, and compound |
-
1990
- 1990-01-25 JP JP1348090A patent/JPH03220172A/en active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999059947A1 (en) * | 1998-05-15 | 1999-11-25 | Commonwealth Industrial Research Organisation | Process for preparing ethers and esters |
| US6663978B1 (en) | 2000-06-28 | 2003-12-16 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index pressure-sensitive adhesives |
| US7166686B2 (en) * | 2000-06-28 | 2007-01-23 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index pressure-sensitive adhesives |
| US7335425B2 (en) | 2000-06-28 | 2008-02-26 | 3M Innovative Properties Company | High refractive index pressure-sensitive adhesives |
| CN109990977A (en) * | 2019-03-29 | 2019-07-09 | 中国科学院近代物理研究所 | A refractive index matching liquid |
| WO2025220534A1 (en) * | 2024-04-15 | 2025-10-23 | 三井化学株式会社 | Pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive composition, method for producing compound, and compound |
| WO2025263409A1 (en) * | 2024-06-18 | 2025-12-26 | 三井化学株式会社 | Pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive composition, and compound |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2546887B2 (en) | Thiocarboxylic acid ester compound and method for producing the same | |
| US5214116A (en) | Resin derived from sulfur-containing unsaturated compound and having a high refractive index | |
| EP0059561A1 (en) | Highly refractive urethane polymers for use in optical lenses and lenses prepared therefrom | |
| EP0795765B1 (en) | Photopolymerizable composition and transparent cured product thereof | |
| JPH0547544B2 (en) | ||
| JPH03220172A (en) | Thiocarboxylic acid ester compound and its production | |
| JPH04321660A (en) | Urethane (meth)acrylate and resin composition, coating agent for optical fiber and curing agent using the same monomer | |
| JP4204391B2 (en) | Polymerizable adamantane compound | |
| JPH0311054A (en) | Thiocarboxylic acid ester compound and production thereof | |
| JPH02258819A (en) | New polymerizable monomer | |
| JPH0665190A (en) | Vinylbenzyl compound | |
| JPH03127771A (en) | Thiocarboxylic acid ester compound and preparation thereof | |
| US5594090A (en) | Alkylene sulfide group-containing prepolymer, polymerizable composition and optical material | |
| JP2656109B2 (en) | Triazine compound and method for producing the same | |
| JPS63309509A (en) | High-refractive index resin composition | |
| JPH04225007A (en) | Optical resin having high refractive index and high strength | |
| JPH0283366A (en) | Thioether compound and its manufacturing method | |
| JPS59164501A (en) | organic optical glass | |
| JPH0253783A (en) | optical materials | |
| JP2505574B2 (en) | Norbornane compound and method for producing the same | |
| JPH02208309A (en) | Thiocarboxylic acid ester composition | |
| JP2575233B2 (en) | Phosphite compound and method for producing the same | |
| JPH11263749A (en) | (Meth) acrylate derivatives | |
| JPH05194486A (en) | Vinyl compound, polymer for optical material obtained by using the same and optical product | |
| JPH06116337A (en) | Polymerizable composition |